一种湿加工缸具有防堵功能的拖曳式抛光机的制作方法

文档序号:13955994阅读:199来源:国知局
一种湿加工缸具有防堵功能的拖曳式抛光机的制作方法

本实用新型涉及拖曳式抛光机湿加工技术领域,主要涉及一种湿加工缸具有防堵功能的拖曳式抛光机。



背景技术:

拖曳式抛光机是一种由电机驱动,夹具夹紧工件在磨料缸体内旋转,从而获得卓越抛光效果的表面处理设备。拖曳式抛光机从最初的珠宝首饰行业到如今广泛应用于刀具、纺织、医疗内置物、药模及精密零配件等行业。

拖曳式抛光机湿加工的磨削力比干加工的要大,用的磨料颗粒通常也较大(4-16mm),在抛光过程中磨料不断损耗,损耗的磨料也是十分细小的颗粒,它与水一起被排除出去,但是设备长时间的加工后,这些损耗的细小颗粒磨料就会堵住排水口的网兜,从而使排水显得困难,这时只有能推出抛光缸体、排出磨料,再把排水口上的网兜清理干净后倒入磨料、推入抛光缸体重新开启设备,这样很费时费力。但是直接增加网兜上孔的直径(直径3毫米)显然是不可取的,因为网兜它要满足小于磨料的直径这个条件。



技术实现要素:

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种从抛光缸底部其中一个排水口吹气,另一个排水口进行排水,损耗的磨料从磨料出口排出,防止对排水口造成堵塞,简单实用的湿加工缸具有防堵功能的拖曳式抛光机。

本实用新型所要解决的技术问题可以采用如下技术方案来实现:

一种湿加工缸具有防堵功能的拖曳式抛光机,包括湿加工抛光缸,设置在所述湿加工抛光缸上方的驱动电机,在所述驱动电机与湿加工抛光缸之间由上而下依次设置有旋转机构、夹具驱动机构、夹具,所述驱动机构的转轴与所述旋转机构、夹具驱动机构传动连接;

在所述湿加工抛光缸设置有2个排水口,其特征在于,在所述湿加工抛光缸底部于所述第一排水口连接有一带单向阀的气管,在所述气管末端通入有压缩空气;在所述湿加工抛光缸底部于所述第二排水口连接有一水管,在所述气管于所述单向阀流通处与所述水管之间通过一管道连通。

在本实用新型的一个优选实施例中,在所述气管进气端设置有吹气电磁阀,所述吹气电磁阀通过PLC控制系统控制;在所述湿加工抛光缸侧边设置有操作显示器,所述操作显示器与PLC控制系统电连接。

本实用新型的有益效果是:一种湿加工缸具有防堵功能的拖曳式抛光机,在湿加工抛光缸其中一个排水口设置吹气,另一个排水口进行排水,损耗的磨料从磨料出口排出,防止积累在排水口处的筛网造成排水的堵塞,简单实用,节约时间与劳动力;在气管上设置电磁阀由PLC自动控制,简单方便、提高了效率。

附图说明

图1是本实用新型一种湿加工缸具有防堵功能的拖曳式抛光机的结构示意图。

图2是本实用新型一种湿加工缸具有防堵功能的拖曳式抛光机的湿加工抛光缸底部结构示意图。

具体实施方式

为了使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体图示,进一步阐述本实用新型。

参见图1至图2,图中给出的是一种湿加工缸具有防堵功能的拖曳式抛光机,包括湿加工抛光缸100,设置在湿加工抛光缸100上方的驱动电机,在驱动电机与湿加工抛光缸100之间由上而下依次设置有旋转机构、夹具驱动机构、夹具,驱动机构的转轴与旋转机构、夹具驱动机构传动连接。在湿加工抛光缸100设置有2个排水口210、220以及一个磨料出口230,在第一排水口210、第二排水口220处连接有带球阀211、221的第一排水管、第二排水管,在第一排水口210与第一球阀211、第二排水口220与二球阀221之间各设置有一接头212、222,第一接头212与第二接头222之间通过一软管240进行连通。

在湿加工抛光缸100底部第一接头212与软管230垂直处连接有一带单向阀310的气管300,在气管300末端通入有压缩空气320;在湿加工抛光缸100底部于第二接头222处连接有一带有排水阀410的水管400,水管400末端连接污水回收处理装置420。在气管300进气端依次设置有过滤器压调节阀330、吹气电磁阀340,吹气电磁阀340通过PLC控制系统500控制;在湿加工抛光缸100侧边设置有操作显示器600,操作显示器600与PLC控制系统500电连接,可以通过触摸操作显示器600上的按键,控制吹气电磁阀340的动作与停止。在湿加工抛光缸100其中一个排水口210设置吹气,另一个排水口220进行排水,损耗的磨料从磨料出口230排出,防止积累在排水口处的筛网700造成排水的堵塞,简单实用,节约时间与劳动力;在气管300上设置电磁阀340由PLC控制器500自动控制,简单方便、提高了效率。

以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解,本实用新型不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理,在不脱离本实用新型精神和范围的前提下本实用新型还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及同等物界定。

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