本实用新型涉及蚀刻技术领域，尤其涉及一种具有吹气管的触控屏用蚀刻装置。
背景技术：
现有技术中，触控屏的生产工艺中包括多次清洗、蚀刻等过程，蚀刻过程为将基板放置于蚀刻室中，采用蚀刻液对基板的表面进行蚀刻。在蚀刻的过程中，蚀刻液依靠喷嘴喷淋的压力在基板的表面流动，基板周边的蚀刻液容易从基板上滑落，而基板中心的蚀刻液不容易流出进而长时间的停留在基板的表面，对基板表面的中心区域造成侵蚀，影响蚀刻质量；而且蚀刻液在循环利用的过程没有将蚀刻液中的废渣进行分离的装置，生产进行一段时间后，未过滤的废渣在喷淋管处堆积，堵塞喷淋管，进而引起生产的中断，降低了生产效率。
技术实现要素：
本实用新型正是针对以上技术问题，提供一种具有吹气管的触控屏用蚀刻装置。
本实用新型为实现上述目的，采用以下技术方案：一种具有吹气管的触控屏用蚀刻装置，包括蚀刻室，蚀刻室的顶部设有盖体，盖体的内部设有空腔，空腔内设有加热装置，盖体上还设有出气口，蚀刻室的内部上方设有喷淋管，喷淋管的下方设有多个喷淋头，喷淋头的下方设有输送装置，输送装置的上方设有吹气管，吹气管设置在相邻的两喷淋头之间，蚀刻室的两侧壁上对应于输送装置处设有进料口和出料口，蚀刻室的下方一侧设有出液管，出液管和喷淋管之间设有除渣装置，除渣装置内设有过滤网，除渣装置内过滤网的下方设有液体槽，液体槽的一侧设有的液体出口与喷淋管相连，喷淋管上设有蚀刻泵，除渣装置的一侧过滤网的上方设有除渣口，出液管与除渣装置顶部设有的进液口相连，过滤网设置在进液口与液体出口之间。
所述蚀刻室的下方设有底座，蚀刻室通过弹簧与底座相连。
所述输送装置包括传动轮以及包覆在传动轮上的传送带，传送带朝向喷淋头的一侧形成支撑面。
所述吹气管的管壁上均布有四个吹气口，所述吹气口分别位于吹气管的水平和竖直方向，即吹气管的上下左右四个方向。
所述吹气管的吹气压强为0.3-0.8MPa。
所述液体槽一侧设有的液体出口与喷淋管的相连处设有活性炭滤芯。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：本实用新型吹气管间隔的设置在相邻的两喷淋头之间，可以边喷淋蚀刻液边吹气，吹气的压力能够加快基板中央蚀刻液的流动，改善了基板中央由于蚀刻液的停留所造成的侵蚀问题；而且除渣装置中设有的过滤网可以将蚀刻液与蚀刻液中的废渣分离，过滤后的蚀刻液流入到液体槽中，进行循环利用，避免了废渣堵塞喷淋管的问题，这样就不会引起生产的中断，提高了生产效率。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图；
图中：1、蚀刻室；2、盖体；3、出气口；4、喷淋管；5、喷淋头；6、吹气管；7、进料口；8、出料口；9、出液管；10、除渣装置；11、过滤网；12、液体槽；13、液体出口；14、蚀刻泵；15、除渣口；16、进液口；17、底座；18、弹簧；19、传动轮；20、传送带；21、吹气口。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明：
如图1所示，一种具有吹气管的触控屏用蚀刻装置，包括蚀刻室1，蚀刻室1的顶部设有盖体2，盖体2的内部设有空腔，空腔内设有加热装置，盖体2上还设有出气口3，蚀刻室1的内部上方设有喷淋管4，喷淋管4的下方设有多个喷淋头5，喷淋头5的下方设有输送装置，输送装置的上方设有吹气管6，吹气管6设置在相邻的两喷淋头5之间，蚀刻室1的两侧壁上对应于输送装置处设有进料口7和出料口8，蚀刻室1的下方一侧设有出液管9，出液管9和喷淋管4之间设有除渣装置10，除渣装置10内设有过滤网11，除渣装置10内过滤网11的下方设有液体槽12，液体槽12的一侧设有的液体出口13与喷淋管4相连，喷淋管4上设有蚀刻泵14，除渣装置10的一侧过滤网11的上方设有除渣口15，出液管9与除渣装置10顶部设有的进液口16相连，过滤网11设置在进液口16与液体出口13之间。
所述蚀刻室1的下方设有底座17，蚀刻室1通过弹簧18与底座17相连。
所述输送装置包括传动轮19以及包覆在传动轮19上的传送带20，传送带20朝向喷淋头5的一侧形成支撑面。
所述吹气管6的管壁上均布有四个吹气口21，所述吹气口21分别位于吹气管6的水平和竖直方向，即吹气管6的上下左右四个方向。
所述吹气管6的吹气压强为0.3-0.8MPa。
所述液体槽12一侧设有的液体出口13与喷淋管4的相连处设有活性炭滤芯。
本实用新型吹气管6间隔的设置在相邻的两喷淋头5之间，可以边喷淋蚀刻液边吹气，吹气的压力能够加快基板中央蚀刻液的流动，改善了基板中央由于蚀刻液的停留所造成的侵蚀问题，使得基板表面蚀刻液流动的更加均匀；而且除渣装置10中设有的过滤网11可以将蚀刻液与蚀刻液中的废渣分离，过滤后的蚀刻液流入到液体槽12中，进行循环利用，避免了废渣堵塞喷淋管4的问题，这样就不会引起生产的中断，提高了生产效率；同时加热装置可对蚀刻室1的盖体2进行加热，可以防止产生的蚀刻液蒸汽在冰凉的盖体2上冷凝成液滴滴落在基板上进而造成蚀刻不均匀现象，提高了蚀刻质量。
上面结合附图对本实用新型进行了示例性描述，显然本实用新型具体实现并不受上述方式的限制，只要采用了本实用新型的方法构思和技术方案进行的各种改进，或未经改进直接应用于其它场合的，均在本实用新型的保护范围之内。