抛光液管路系统和上下盘研磨机构的制作方法

本实用新型涉及抛光设备技术领域，尤其是涉及一种抛光液管路系统和上下盘研磨机构。

背景技术：

现有的抛光机，其抛光液是直接的送到研磨盘之间，其流速和流量均不易控制，抛光液在抛光过程中流向飞溅不可控。

基于此，本实用新型提供了一种抛光液管路系统和上下盘研磨机构以解决上述的技术问题。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种抛光液管路系统，以解决现有技术中存在的研磨机的抛光液输送不易控制易迸溅的技术问题。

本实用新型的目的还在于提供一种上下盘研磨机构,用于解决上述技术问题。

基于上述第一目的，本实用新型提供了一种抛光液管路系统，包括供液装置和抛光液储存器，所述抛光液储存器设置有环形的储液槽；

所述供液装置通过输液管向所述储液槽内提供抛光液；

所述抛光液储存器上还设置有与所述储液槽连通的出液孔，通过所述出液孔向待冷却装置输送抛光液。

可选的，所述供液装置包括供液桶，所述供液桶通过输液管向所述储液槽内提供抛光液。

通过供液桶来提供抛光液，一是成本低，而是可以可持续的供给大量抛光液。

可选的，所述输液管上设置有恒压智能阀，用于调控抛光液的输送量和输送周期。

通过恒压智能阀，调节抛光液输送的速度、输液量和输送周期，实现周期性、定量输送抛光液，控制抛光液用量。

可选的，所述抛光液储存器呈圆环形。

圆环形的抛光液储存器便于加工。

可选的，沿所述抛光液储存器的周向均匀的设置有多个出液孔。

均匀的设置多个出液孔，有利于供给足够的抛光液，防止抛光液供给不足。

可选的，在所述储液槽内设置有调整刷，所述调整刷设置在所述输液管的端部，用于减缓抛光液的流速。

通过所述调整刷，减慢抛光液由输液管流出的速度，防止其喷溅，在抛光液储存器转动时，还可以搅匀抛光液。

基于上述第二目的，本实用新型提供了一种上下盘研磨机构,包括如上所述的抛光液管路系统，还包括第一冷却机构及第二冷却机构，所述第一冷却机构包括多个固定连接在一起的第一冷却盘，且多个所述第一冷却盘上下层叠设置；上下相邻的两个所述第一冷却盘之间具有冷却通道；多个所述第一冷却盘中，位于最下层的所述第一冷却盘的下端面用于固定上盘研磨体，且所述上盘研磨体上开设有流孔，所述流孔与所述冷却通道相连通；所述第二冷却机构包括喷嘴组件，所述喷嘴组件设于下盘研磨体的下方，用于向所述下盘研磨体喷射抛光液；

所述出液孔与所述冷却通道连通。

可选的，所述出液孔与所述冷却通道通过供液管连通。

可选的，上下相邻的两个所述第一冷却盘中，位于上方的所述第一冷却盘的下端面开设有第一半槽，位于下方的所述第一冷却盘的上端面开设有第二半槽；所述第一半槽与所述第二半槽相拼合形成所述冷却通道。

可选的，当所述第一冷却盘的数量不小于三时，所述冷却通道的数量为多个，且多个所述冷却通道之间相连通。

现有的抛光机，其抛光液是直接的送到研磨盘之间，其流速和流量均不易控制，在输送过程中容易迸溅，本实用新型提供的所述抛光液管路系统，先送入抛光液储存器内，然后经过抛光液储存器送入抛光盘之间，能够控制其流速和流量，平稳的提供抛光液，防止抛光液在抛光过程中流向飞溅不可控。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本实用新型的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型实施例提供的抛光液管路系统的结构示意图；

图2为本实用新型实施例提供的上下盘研磨机构的结构示意图；

图3为本实用新型实施例提供的上下盘研磨机构另一视角的结构示意图；

图4为本实用新型实施例中外壳、上盘研磨体及第一冷却盘组装在一起的结构示意图；

图5为本实用新型实施例中外壳、上盘研磨体及第一冷却盘组装在一起后的另一视角的结构示意图；

图6为本实用新型实施例中上盘研磨体及多个第一冷却盘组装在一起后的结构示意图；

图7为本实用新型实施中位于最上层的第一冷却盘的结构示意图；

图8为本实用新型实施中冷却液储存器的结构示意图。

图标：201-第一冷却盘；202-上盘研磨片；203-流孔；204-喷嘴组件；205-下盘研磨片；206-第一半槽；207-抛光液储存器；208-管道；209-安装盘；210-调平螺栓；211-支撑架；212-外壳；213-驱动轴；214-储液槽；215-安装孔位；216-第一进液孔；217-出液孔；218-输液管；219-调整刷。

具体实施方式

下面将结合附图对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

抛光液管路系统实施例

如图1所示，在本实施例中提供了一种抛光液管路系统，所述抛光液管路系统包括供液装置和抛光液储存器207，所述抛光液储存器207设置有环形的储液槽214；

所述供液装置通过输液管218向所述储液槽214内提供抛光液；

所述抛光液储存器207上还设置有与所述储液槽214连通的出液孔217，通过所述出液孔217向待冷却装置输送抛光液。

现有的抛光机，其抛光液是直接的送到研磨盘之间，其流速和流量均不易控制，在输送过程中容易迸溅，本实用新型提供的所述抛光液管路系统，先送入抛光液储存器207内，然后经过抛光液储存器207送入抛光盘之间，能够控制其流速和流量，平稳的提供抛光液，防止抛光液在抛光过程中流向飞溅不可控。

如图1，本实施例的可选方案中，所述供液装置包括供液桶，所述供液桶通过输液管218向所述储液槽214内提供抛光液。

通过供液桶来提供抛光液，一是成本低，而是可以可持续的供给大量抛光液。

进一步的，所述输液管218上设置有恒压智能阀，用于调控抛光液的输送量和输送周期。

通过恒压智能阀，调节抛光液输送的速度、输液量和输送周期，实现周期性、定量输送抛光液，控制抛光液用量。

优选的，所述抛光液储存器207呈圆环形。

圆环形的抛光液储存器207便于加工。

进一步的，沿所述抛光液储存器207的周向均匀的设置有多个出液孔217。

均匀的设置多个出液孔217，有利于供给足够的抛光液，防止抛光液供给不足。

进一步的，在所述储液槽214内设置有调整刷219，所述调整刷219设置在所述输液管218的端部，用于减缓抛光液的流速。

通过所述调整刷219，减慢抛光液由输液管218流出的速度，防止其喷溅，在抛光液储存器207转动时，还可以搅匀抛光液。

上下盘研磨机构实施例

如图1-8所示，该实施例提供了一种上下盘研磨机构，所述上下盘研磨机构，还包括第一冷却机构及第二冷却机构，第一冷却机构包括多个固定连接在一起的第一冷却盘201，且多个第一冷却盘201上下层叠设置，也就是说，多个第一冷却盘201由下至上依次堆叠在一起；上下相邻的两个第一冷却盘201之间具有冷却通道；多个第一冷却盘201中，位于最下层的第一冷却盘201的下端面用于固定上盘研磨体，且上盘研磨体上开设有流孔203，流孔203与冷却通道相连通；第二冷却机构包括喷嘴组件204，喷嘴组件204设于下盘研磨体的下方，用于向下盘研磨体喷射抛光液。

所述出液孔217与所述冷却通道连通。

具体而言，多个第一冷却盘201之间固定连接的方式可以为卡合的方式、螺栓连接的方式或螺纹连接的方式。上盘研磨体通过粘接的方式或螺栓连接的方式与位于最下方的第一冷却盘201固定连接。上盘研磨体上的流孔203的数量为一个或多个，当流孔203的数量为多个时，多个流孔203在上盘研磨体的研磨面上均匀分布。

该实施例可选的方案中，上盘研磨体可以由多个上盘研磨片202拼接而成，采用分片的形式，便于更换损坏的一块，节约成本，另外，采用拼接而成时，多个上盘研磨片202之间会有缝隙，有利于散热，流孔203开设于上盘研磨片202上。下盘研磨体也可以由多个下盘研磨片205拼接而成，采用分片的形式，便于更换损坏的一块，节约成本，另外，采用拼接而成时，多个下盘研磨片205之间会有缝隙，有利于散热。下盘研磨体与支撑架211通过粘接的方式或螺栓连接的方式固定连接，支撑架211位于下盘研磨体的下方。

该实施例提供的上下盘研磨机构，在工作状态下，上盘研磨体产生的热量传送给第一冷却盘201，然后再将热量传送给冷却通道内流动的抛光液从而实现了上盘研磨体的冷却，而在上盘研磨体上开上流孔203，抛光液还能从流孔203流出，从而对上盘研磨体的研磨面进行冷却，并且该抛光液还有利于对工件抛光，也就是说，抛光液还充当抛光液的角色；另外，从上盘研座体的流孔203的流出的抛光液还能够流到下盘研磨体的研磨面对下盘研磨体的研磨面进行冷却，而在下盘研磨体的下方设置的喷嘴组件204能够对下盘研磨体的下表面进行喷淋抛光液，以实现对其冷却；综上，该上下盘研磨机构能够提高对上盘研磨体的冷却效果的特点。

该实施例可选的方案中，上下相邻的两个第一冷却盘201中，位于上方的第一冷却盘201的下端面开设有第一半槽206，位于下方的第一冷却盘201的上端面开设有第二半槽；第一半槽206与第二半槽相拼合形成冷却通道。通过在两个不同的第一冷却盘201上分别开设第一半槽206和第二半槽，这样便于加工。

具体而言，冷却通道的截面呈圆形。第一半槽206与第二半槽上下相对以拼合成一个完整的冷却通道。

该实施例可选的方案中，冷却通道包括多个相互连通的圆环形通道，多个圆环形通道的圆心共心；或，冷却通道的长度延伸方向呈平面螺旋线形，采用平面螺旋线形更有利于抛光液的流动及对第一冷却盘201的冷却，从而有利于对上盘研磨体的冷却。具体的，该实施例中，冷却通道的长度延伸方向呈平面螺旋线形，该平面螺旋线可以为阿基米德螺线、费马螺线、等角螺线、双曲螺线、圆内螺线、弯曲螺线、连锁螺线、柯奴螺线或欧拉螺线。

优选的，所述出液孔217与所述冷却通道通过供液管连通。抛光液储存器207设于最上层的第一冷却盘201的上方，且与最上层的第一冷却盘201固定连接；抛光液储存器207设置有多个出液孔217，位于最上层的第一冷却盘201上的第一半槽206的槽底开设有与所述出液孔相对应的第一进液孔216，也就是说，出液孔的数量与第一进液孔的数量相等；多个第一进液孔沿第一半槽206的长度延伸方向分布，且出液孔通过管道208与第一进液孔相连通，也就就是说，出液孔也冷却通道相连通；通过在抛光液储存器207上开设多个出液孔便于增加进入冷却通道内的抛光液的量，从而有利于冷却。

该实施例可选的方案中，当第一冷却盘201的数量不小于3时，冷却通道的数量为多个，且多个冷却通道之间相连通。具体的，该实施例中，第一冷却盘201的数量为3个，为了便于区分三个第一冷却盘201，位于最上层的第一冷却盘201称为最上层冷却盘，位于中层的第一冷却盘201称为中层冷却盘，而位于最下层的第一冷却盘201称为最下层冷却盘；最上层冷却盘与中层冷却盘之间有一个冷却通道，中层冷却盘与最下层冷却盘之间有一个冷却通道，也就是说，冷却通道的数量为两个，两个冷却通道之间相连通；最上层冷却盘的下端面开设有第一半槽206，中层冷却盘的上端面开设有第二半槽，中层冷却盘的下端面开设有第一半槽206，最下层冷却盘的上端面开设有第二半槽，具体的，可以在中层冷却盘的第二半槽与中层冷却盘的第一半槽206之间开设通孔，以实现两个冷却通道之间的连通，通孔的数量至少为一个。

该实施例可选的方案中，第一冷却机构还包括外壳212；多个第一冷却盘201安装于外壳的内部，且第一冷却盘201与外壳固定连接。具体而言，第一冷却盘201与外壳通过螺栓固定连接。冷却液储存器207位于外壳的上方。

该实施例可选的方案中，喷嘴组件204包括空心锥喷嘴、实心锥喷嘴、方形喷嘴、矩形喷嘴、椭圆形喷嘴或扇形喷嘴中的至少一种。需要说明的是，在研磨抛光过程中，研磨抛光装置的驱动轴213从下盘研磨体的中心孔中穿出，带动上盘研磨体旋转，而下盘研磨体固定不转，因此，也可以在下盘研磨体的下端面固定多个上下层叠设置的第一冷却盘201，上下相邻的两个第一冷却盘201之间具有冷却通道，并在冷却通道内通过冷却液实现对下盘研磨体的冷却，冷却通道的长度延伸方向呈平面螺旋线形。上盘研磨体旋转时，外壳、冷却液储存器也随之一起转动。

该实施例可选的方案中，外壳的上方可以设置一个安装盘209，安装盘209与外壳之间通过调平螺栓210固定连接，这样便于对外壳进行调平，从而实现对下盘研磨体的研磨而进行调平。

最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本实用新型进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的范围。