技术总结
本实用新型涉及一种基于磁流变效应的集群式大平面抛光装置，装置包括工件、定位轮、抛光轮、磁流变液、磨粒、永久磁铁、轴承座、球轴承、转轴、电机、高压喷头、泵、刮块、容器。定位轮有两个，其半径比抛光轮大2mm，其轮廓侧表面直接与工件表面接触，定位轮和抛光轮固定在转轴上，转轴两端通过球轴承与轴承座连接，由电机带动旋转；抛光轮根据工件尺寸分配若干，每个抛光轮分配四个永久磁铁，每个永久磁铁磁极异极排列，相连抛光轮磁极同极排列；磁流变液和磨粒组成抛光液，抛光液通过泵将容箱出口b的抛光液经过高压喷头引流到抛光区域，刮块将抛光轮表面的抛光液由入口a回收到容器中，容器成凹形结构，且回收入口a开口较大，出口b开口较小。
技术研发人员：张广
受保护的技术使用者：张广
文档号码：201720935893
技术研发日：2017.07.23
技术公布日：2018.05.04