一种平板双侧面抛光机的制作方法

本实用新型涉及一种平板双侧面抛光机。

背景技术：

需要双侧抛光的石材通常通过单侧抛光机分别对两个侧面进行抛光，这样就需要经过两次上卸料、对刀和加工，使用了双倍时间，效率较低，而且浪费大量的人力物力。

技术实现要素：

针对上述存在的技术问题，本实用新型的目的是：提出了一种平板双侧面抛光机。

本实用新型的技术解决方案是这样实现的：一种平板双侧面抛光机，包含机架，机架的中部设置有输送机构，输送机构的上侧设置有压轮机构，机架的左右两侧各设置有一组机箱，机箱沿横向滑动设置在机架上，机架上还设置有分别控制两组机箱的机箱驱动组件；所述机箱中设置有多个沿输送机构的方向依次设置的抛光机构。

优选的，所述抛光机构包含阻尼气缸、导杆、横移座和抛光电机；所述阻尼气缸和导杆沿横向设置在机箱上，横移座与阻尼气缸和导杆配合，抛光电机设置在横移座上，抛光电机上设置有磨头连接组件。

优选的，所述磨头连接组件包含电机连接板、外轴套、内轴套和连接轴；所述电机连接板连接在抛光电机的主轴侧的端面上，外轴套与电机连接板连接，内轴套设置在外轴套中，抛光电机的主轴通过长形键槽与内轴套连接；所述连接轴通过轴承与外轴套配合，轴承位于外轴套的前端，连接轴的后端通过长形键槽与内轴套连接，前端上设置有抛光轮组件。

优选的，所述外轴套的前端设置有与轴承和连接轴配合的弹性密封圈。

优选的，所述连接轴的中部为阶梯轴，阶梯部分上设置有与外轴套的前端配合的挡灰帽，挡灰帽与抛光轮组件通过垫环分隔紧固。

优选的，所述机箱通过燕尾槽结构与机架滑动配合，机箱的前后两端各设置有一套机箱驱动组件。

优选的，所述压轮机构包含压轮架和多个设置在压轮架下侧的压轮，多个压轮沿输送机构的方向设置。

由于上述技术方案的运用，本实用新型与现有技术相比具有下列优点：

本实用新型的平板双侧面抛光机，石材由输送机构配合压轮机构进行输送，输送过程中由两侧机箱中的抛光机构对石材两侧面同步进行抛光处理，两侧的机箱由机箱驱动组件控制滑动进给，加工效率高，产品质量好，节省了大量人力物力。

附图说明

下面结合附图对本实用新型技术方案作进一步说明：

附图1为本实用新型所述的平板双侧面抛光机的侧面结构示意图；

附图2为本实用新型所述的平板双侧面抛光机的正面结构示意图；

附图3为本实用新型所述的抛光机构的侧面结构示意图；

附图4为本实用新型所述的抛光机构的正面结构示意图；

附图5为本实用新型所述的磨头连接组件的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图来说明本实用新型。

如附图1-2所示，本实用新型所述的一种平板双侧面抛光机，包含机架1，机架1的中部设置有输送机构2，输送机构2的上侧设置有压轮机构3，压轮机构3包含压轮架和多个设置在压轮架下侧的压轮，多个压轮沿输送机构2的方向设置；所述机架1的左右两侧各设置有一组机箱4，机箱4通过燕尾槽结构沿横向滑动设置在机架1上，机架1的左右两侧以及两组机箱4的前后两端处均设置有控制两组机箱4滑动的机箱驱动组件5；其中，输送机构2为由电机控制的皮带输送机构，机箱驱动组件5为丝杆结构，丝杆可以由电机控制，也可以设置手轮结构；所述机箱4中设置有多个沿输送机构2的方向依次设置的抛光机构。

如附图3-4所示，所述抛光机构包含阻尼气缸11、导杆12、横移座13和抛光电机14；所述导杆12有两根，阻尼气缸11和两根导杆12均沿横向设置在机箱4上，横移座13与两根导杆12滑动配合，阻尼气缸11与横移座13连接，图4中为了图示清楚，阻尼气缸11的连接部与横移座13分离开来，实际上两者是相互连接的，抛光电机14也沿横向设置在横移座13上，抛光电机14上设置有磨头连接组件。

如图5所示，所述磨头连接组件包含电机连接板21、外轴套22、内轴套23和连接轴24；所述电机连接板21与抛光电机14的主轴侧的端面连接，外轴套22沿横向设置，并焊接在电机连接板21上，内轴套23设置在外轴套22中，抛光电机14的主轴25通过横向的长形键槽与内轴套23连接；所述连接轴24通过轴承与外轴套22配合，轴承位于外轴套22的前端，连接轴24的后端通过横向的长形键槽与内轴套23连接，前端上设置有抛光轮组件26。

进一步的，所述外轴套22的前端设置有与轴承和连接轴24配合的弹性密封圈27，连接轴24的中部为阶梯轴，阶梯部分上设置有与外轴套22的前端配合的挡灰帽28，挡灰帽28与抛光轮组件26通过垫环29分隔紧固，弹性密封圈27和挡灰帽28可以有效避免抛光加工时的灰尘进入外轴套22中。

工作时，石材由输送机构2配合压轮机构3进行输送，机箱4由机箱驱动组件5带动对刀和进给，阻尼气缸11使抛光轮始终与石材的侧面配合，抛光电机14的主轴25与内轴套23和连接轴24的转接结构提高了载荷，以适应双侧抛光机对抛光轮主轴的负载要求。

以上仅是本实用新型的具体应用范例，对本实用新型的保护范围不构成任何限制。凡采用等同变换或者等效替换而形成的技术方案，均落在本实用新型权利保护范围之内。