技术总结
本实用新型提供了一种新型研磨盘结构，包括上磨盘（1）、载物盘（2）、导向结构（3）和限位结构（4），其特征在于：所述上磨盘（1）设置在所述载物盘（2）上方，所述限位结构（4）穿设在所述载物盘（2）中心处，所述导向结构（3）设置在所述限位结构（4）内部且能够与所述限位结构（4）上下相对运动，所述上磨盘（1）底部与所述导向结构（3）顶部连接。
技术研发人员：董仲伟;钟秉宪;吴俊毅;吴超瑜;王笃祥
受保护的技术使用者：天津三安光电有限公司
文档号码：201721073678
技术研发日：2017.08.25
技术公布日：2018.04.10