半自动研磨抛光支架及装置的制作方法

技术特征：

1.一种半自动研磨抛光支架，其特征在于，其包括依次连接的第一磨片盘、支撑部以及第二磨片盘，所述第一磨片盘贯穿开设有至少一个磨片孔，所述第二磨片盘开设有与所述磨片孔配合的固定孔，所述固定孔内设置有伸缩机构，所述伸缩机构包括伸缩架及伸缩杆，所述伸缩杆与所述伸缩架可滑动地连接，所述伸缩杆的靠近所述第一磨片盘的端部设置有与所述磨片孔配合的压片件。

2.根据权利要求1所述的半自动研磨抛光支架，其特征在于，所述伸缩架和所述伸缩杆之间设置有用于驱动所述伸缩杆朝向所述第一磨片盘运动的弹性件。

3.根据权利要求2所述的半自动研磨抛光支架，其特征在于，所述伸缩架具有内腔，所述伸缩杆的远离所述第一磨片盘的一端设有与所述内腔连通的第一开口及与所述第一开口可拆卸连接的封帽，所述伸缩架的靠近所述第一磨片盘的一端设有与所述内腔连通的第二开口及止挡部，所述伸缩杆可滑动的设置于所述第二开口，所述伸缩杆设置有与所述止挡部配合的止挡块，所述止挡块设置于所述第二开口的靠近所述第一开口的一侧，所述弹性件设置于所述止挡块与所述封帽之间。

4.根据权利要求3所述的半自动研磨抛光支架，其特征在于，所述弹性件为弹簧，所述止挡块的远离所述第一开口的一侧设置有调节杆，所述弹簧套设于所述调节杆外，所述封帽开设有与所述调节杆配合的通孔，所述调节杆可滑动设置于所述通孔内。

5.根据权利要求4所述的半自动研磨抛光支架，其特征在于，所述调节杆的远离所述止挡块的端部设置有拉伸帽。

6.一种半自动研磨抛光装置，其特征在于，其包括驱动装置、研磨盘以及权利要求1～5任一项所述的半自动研磨抛光支架，所述第一磨片盘设置于所述第二磨片盘底部，所述研磨盘设置于所述第一磨片盘底部，所述驱动装置的输出端与所述半自动研磨抛光支架传动连接。

7.根据权利要求6所述的半自动研磨抛光装置，其特征在于，所述驱动装置包括连接架、固定于所述连接架的驱动电机以及与所述驱动电机传动连接的连接杆，所述第二磨片盘的顶部设有与所述连接杆配合的连接部。

8.根据权利要求7所述的半自动研磨抛光装置，其特征在于，所述驱动电机为调速电机。

9.根据权利要求6所述的半自动研磨抛光装置，其特征在于，还包括防尘罩，所述防尘罩套设于所述第一磨片盘和所述研磨盘外。

10.根据权利要求6所述的半自动研磨抛光装置，其特征在于，还包括喷淋水箱及集浆池，所述喷淋水箱设置有喷淋管，所述喷淋管设置于所述第一磨片盘和所述研磨盘之间，所述集浆池设置于所述研磨盘底部。