技术总结
本实用新型涉及一种摆幅可调式平面研磨抛光机。它包括机台和设置在所述机台上的模槽、研磨组件、研磨组件的驱动组件以及调摆组件；所述研磨组件包括转动设置在所述机台上的摆轴、摆杆、铰轴、推杆以及偏心盘，所述推杆与所述偏心盘转动连接；所述研磨组件还包括架设在所述摆杆上的安装架以及设置在所述安装架上的模具定位杆；所述调摆组件包括开设在偏心盘上的调节槽、设置在所述调节槽中的滑块、一端固接在所述滑块上另一端与所述推杆铰接的调节杆。本实用新型采用一边旋转，一边来回摆动的方式来进行精磨，从而有效地提高了研磨了效率，并且这种研磨方式比较温和，能够有效地避免产品受损。
技术研发人员：沈斌斌
受保护的技术使用者：德清凯晶光电科技有限公司
文档号码：201721383945
技术研发日：2017.10.25
技术公布日：2018.05.18