本实用新型涉及一种抛光设备，尤其涉及一种应用于抛光机的清洗及供料系统。
背景技术：
在现有技术中，抛光机也称为研磨机，常常用作机械式研磨、抛光及打蜡。其工作原理是：电动机带动安装在抛光机上的抛光盘高速旋转，由于抛光盘和抛光剂共同作用并与待抛表面进行摩擦，进而可达到去除漆面污染、氧化层、浅痕的目的。抛光盘的转速一般在60r/min以内，多为无级变速，施工时可根据需要随时调整。然而现有的抛光机只能对工件进行单面抛光，一面抛光完毕后需要停止抛光机将工件翻面继续抛光。
技术实现要素：
本实用新型的目的在于提供一种双面抛光机上应用的清洗及供料系统。
本实用新型的目的是通过以下技术方案实现的：
一种抛光机清洗及供料系统，包括注水管道、供料管道和注水盘，在注水盘上表面具有环形槽，所述注水管道和供料管道悬挂设置于注水盘的上方，注水管道和供料管道的出口正对环形槽，注水盘设置在抛光机压盘的上方，在环形槽底开有多个通孔，通孔沿环形槽均匀分布，压盘对应开有相同数量的通孔，环形槽上通孔与压盘上通孔之间通过管道连通。
优选地，所述注水管道和供料管道上均设置有阀门。
优选地，所述环形槽沿注水盘上表面的边缘设置。
优选地，在所述环形槽的槽底开有6个通孔。
优选地，所述注水盘通过多根连杆支撑在压盘的上方，多根连杆成环形均匀分布。
与现有技术相比，本实用新型实施例至少具有以下优点：
本抛光机清洗及供料系统在抛光过程中，供料管道将料桶内的抛光剂持续不断的注入至注水盘的环形槽内。注料过程中，注水盘随压盘在驱动装置的驱动下同时旋转，抛光剂随之均布在环形槽内。环形槽内的抛光剂通过其环形槽底部的多个通孔进入到压盘下方的抛光区内辅助抛光。以此方式注入抛光剂可以保证进入到抛光区内的抛光剂随着压盘的转动分布更均匀，避免抛光剂仅从环形槽底的某一或某些通孔排下导致抛光剂在与镜片接触时分布不均匀导致镜片抛光后表面光洁度不同，镜片一致性差。
附图说明
图1为本实用新型抛光机清洗及供料系统应用于双面抛光机时的结构示意图；
图2为本实用新型抛光机清洗及供料系统的双面抛光机的下模的结构示意图；
图3为本实用新型抛光机清洗及供料系统的双面抛光机的卡块与驱动块之间的配合示意图。
具体实施方式
为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本实用新型实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此，以下对在附图中提供的本实用新型的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本实用新型的范围，而是仅仅表示本实用新型的选定实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
下面详细描述本实用新型的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本实用新型，而不能理解为对本实用新型的限制。
下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步详述。
本清洗及供料系统搭配于双面抛光机上使用，双面抛光机，包括工作台1、控制台2、下模和上模，所述下模设置在工作台1上，所述下模包括托盘3、内齿环5、中心齿轮4和料盘6，所述托盘3位于内齿环5内，托盘3中心开有容纳中心齿轮4的通孔，所述料盘6放置在托盘3上；所述料盘6为齿轮盘，内齿环5、料盘6和中心齿轮4依次啮合，内齿环5通过电机驱动；所述上模包括压盘7、升降液缸9、驱动电机10和控制盒11，驱动电机10驱动压盘7旋转，升降液缸9的活塞杆驱动压盘7升降；控制台2位于工作台1一侧，控制盒11和升降液缸9的控制器均与控制台2电路连接；在中心齿轮4上方设置有驱动块15，对应的在压盘7中心开有与驱动块15对应的通孔，压盘7上表面对应通孔位置设置有卡块，卡块与驱动块15相互卡接。料盘6上具有与镜片轮廓对应的放料孔，将待抛光的镜片放入到放料孔内进行抛光。抛光过程中，压盘7和托盘3通过驱动块15和卡块的卡接能够同步旋转，保证了料盘6中的镜片的两面在压盘7和托盘3的作用下同时进行抛光，使得镜片表面一致性良好。
在压盘7下表面及托盘3上表面均铺设有抛光垫16，所述抛光垫16的抛光面上开有多道横竖交叉的纹路。抛光面上的纹路有助于增大与镜片之间的摩擦力，有助于去除划痕；同时纹路还具有存储抛光剂的作用，使抛光剂与镜片之间充分接触。
所述卡块包括活动块18和设置在活动块18两侧的固定座17，活动块18通过销轴铰接在两侧固定座17上，对应的在驱动块15的侧壁上开有竖槽，所述活动块18绕销轴90°转动进入或离开竖槽。所述卡块为3个，沿压盘7通孔开口环形均布，对应的驱动块15上的竖槽也为3个。通过卡块和竖槽之间配合，使双方的压盘7和下方的托盘3之间能够在驱动电机10的驱动下同步转动，内齿环5和中心齿轮4之间的转向相反，通过内齿环5和中心齿轮4之间的转动带动料盘6转动，料盘6转动过程中与压盘7和托盘3上的抛光垫16之间产生摩擦，在抛光剂的作用下，达到对镜片抛光的效果。抛光剂一般为氧化铝溶液，氧化铝溶液中含有氧化铝颗粒。抛光过程中，先选用含有大粒径氧化铝颗粒的氧化铝溶液作为抛光剂，然后再选用粒径相对较小的氧化铝颗粒溶液作为抛光剂。
在控制台2上设置有悬挂梁，所述升降液缸9的安装座设置在悬挂梁上，在压盘7上设置有压力传感器，压力传感器与控制台2之间电路连接。具体实施时，控制台2上设置有触控显示屏，通过触控显示屏设置中心齿轮4和内齿环5的转速、上压盘7的下压压力等工作参数。
所述活动块18底面与两端面之间的过渡面为弧面。将转动面加工为弧面有助于活动块18的转动。
所述活动块18上表面上固定安装有球形把手19，便于操作人员分离或结合中心齿轮4与上压盘7之间的连接关系。
本抛光机清洗及供料系统，包括注水管道12、供料管道13和注水盘8，在注水盘8上表面具有环形槽，所述注水管道12和供料管道13悬挂设置于注水盘8的上方，注水管道12和供料管道13的出口正对环形槽，注水盘8设置在抛光机压盘7的上方，在环形槽底开有多个通孔，通孔沿环形槽均匀分布，压盘7对应开有相同数量的通孔，环形槽上通孔与压盘7上通孔之间通过管道连通。
所述注水管道12和供料管道13上均设置有阀门。
所述环形槽沿注水盘8上表面的边缘设置。
在所述环形槽的槽底开有6个通孔。
所述注水盘8通过多根连杆14支撑在压盘7的上方，多根连杆14成环形均匀分布。
在抛光过程中，供料管道13将料桶内的抛光剂持续不断的注入至注水盘8的环形槽内。注料过程中，注水盘8随压盘7在驱动装置的驱动下同时旋转，抛光剂得以成周期性均布在环形槽内。环形槽内的抛光剂通过其环形槽底部的多个通孔进入到压盘7下方的抛光区内辅助抛光。以此方式注入抛光剂可以保证进入到抛光区内的抛光剂随着压盘7的转动分布更均匀，避免抛光剂从环形槽底的某一或某些通孔排下导致抛光剂在与镜片接触时分布不均匀导致镜片抛光后表面光洁度不同，造成镜片一致性差。
在抛光结束后，打开注水管道12上的阀门，清水通过进入到环形槽内对环形槽进行冲洗，然后通过通孔进入到管道清洗管道，最后进入到压盘7下的抛光区，对抛光区进行清洗。清洗过程中可保持压盘7继续转动，使压盘7与放料盘之间产生揉搓效果，使清洗更加干净。
以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应该以权利要求书的保护范围为准。