技术总结
本实用新型提供的磁流变抛光加工系统，磁流变抛光轮与第一机械臂相连，磁流变循环系统与第二机械臂相连，工件(如光学元件)固定在工作台上，磁流变循环系统通过循环供给回路与磁流变抛光轮连接，磁流变抛光轮在运动程序控制下由第一机械臂带动，利用磁流变工作原理，对工作台上的工件进行加工，使得加工过程高速顺畅，同时，在第二机械臂的带动下，配合磁流变循环系统实现对磁流变抛光轮的液体供给与循环支持，保证磁流变抛光加工系统正常工作，也进一步提升了打磨抛光的整体效率磁流变抛光加工系统。
技术研发人员：张学军;薛栋林;张鑫;李龙响;宋驰
受保护的技术使用者：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
技术研发日：2017.11.03
技术公布日：2018.05.22