本实用新型涉及抛光装置技术领域，尤其涉及一种汽车零件蜡模生产抛光装置。
背景技术：
蜡模是一种常用铸造方式。熔模精铸主要由模具制造、蜡模制造、壳型制造及随后的干燥、焙烧、浇注、凝固等工序组成。蜡模是用来形成铸件型腔的模样，要获得尺寸精度和表面光洁度高的铸件，首先蜡模本身就应该具有高的尺寸精度和表面光洁度，而蜡模制造过程中影响蜡模尺寸精度的因素比较复杂，工艺参数较多，所以蜡模尺寸精度变化范围比较大，抛光剂也称为研磨机，常常用作机械式研磨、抛光及打蜡。其工作原理是：电动机带动安装在抛光剂上的海绵或羊毛抛光盘高速旋转，由于抛光盘和抛光剂共同作用并与待抛表面进行摩擦，进而可达到去除漆面污染、氧化层、浅痕的目的。
传统的汽车零件蜡模生产抛光装置结构较为简单，抛光的品质较差，且容易造成抛光剂的浪费。
技术实现要素：
本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种汽车零件蜡模生产抛光装置。
为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：一种汽车零件蜡模生产抛光装置，包括固定底座，所述固定底座顶部一侧螺旋固定有支撑架，所述支撑架上通过滑动套架与抛光架连接，所述支撑架顶端焊接有固定横架，且固定横架通过调节螺柱与抛光架螺旋连接，所述抛光架上通过减震器螺旋固定有抛光电机，所述抛光电机通过电机转轴与抛光盘传动连接，所述抛光架的一端通过连接铰链转动连接有防护罩，所述抛光盘的顶部中心处设有抛光剂储存仓，且抛光剂储存仓通过供料管与抛光盘底部连通。
作为上述技术方案的进一步描述：
所述滑动套架上螺旋嵌入连接有辅助对滑动套架进行固定使用的固定把手。
作为上述技术方案的进一步描述：
所述调节螺柱的顶端螺旋连接有转动调节螺柱使用的转动把手。
作为上述技术方案的进一步描述：
所述抛光盘为圆盘状结构，且抛光盘与固定底座相互平行。
作为上述技术方案的进一步描述：
所述防护罩为U形结构，且防护罩的高度与电机转轴的高度相等。
本实用新型中，首先通过在抛光盘上设有抛光剂储存仓，使得在抛光的同时，抛光剂储存仓内部的抛光剂通过供料管自动为抛光盘供给，从而提高了抛光的效果，相比于从外侧进行添加抛光剂，直接从内部进行供给抛光剂，有效的防止抛光剂浪费，节约原料，其次，通过设有减震器，减震器可以去除抛光电机工作时产生的震动，从而提高了抛光的效果，使得蜡模表面加工更加光滑平整，提高蜡模表面的表面光洁度。
附图说明
图1为本实用新型提出的一种汽车零件蜡模生产抛光装置的结构示意图；
图2为本实用新型提出的一种汽车零件蜡模生产抛光装置的抛光架结构示意图；
图3为本实用新型提出的一种汽车零件蜡模生产抛光装置的抛光盘结构示意图。
图例说明：
1-固定底座、2-支撑架、3-固定把手、4-滑动套架、5-固定横架、 6-转动把手、7-调节螺柱、8-抛光架、9-抛光电机、10-减震器、11- 电机转轴、12-抛光盘、13-连接铰链、14-防护罩、15-抛光剂储存仓、 16-供料管。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。
参照图1-3，一种汽车零件蜡模生产抛光装置，包括固定底座1，固定底座1顶部一侧螺旋固定有支撑架2，支撑架2上通过滑动套架 4与抛光架8连接，支撑架2顶端焊接有固定横架5，且固定横架5 通过调节螺柱7与抛光架8螺旋连接，抛光架8上通过减震器10螺旋固定有抛光电机9，抛光电机9通过电机转轴11与抛光盘12传动连接，抛光架8的一端通过连接铰链13转动连接有防护罩14，抛光盘12的顶部中心处设有抛光剂储存仓15，且抛光剂储存仓15通过供料管16与抛光盘12底部连通。
滑动套架4上螺旋嵌入连接有辅助对滑动套架4进行固定使用的固定把手3，调节螺柱7的顶端螺旋连接有转动调节螺柱7使用的转动把手6，抛光盘12为圆盘状结构，且抛光盘12与固定底座1相互平行，防护罩14为U形结构，且防护罩14的高度与电机转轴12的高度相等。
抛光盘12的底部中心处开设有圆形凹槽，且圆形凹槽的直径与抛光剂储存仓15底部的供料管16之间最远距离相等，从而方便抛光剂储存仓15内部的抛光剂通过供料管16进行下料，防止供料管16 底端堵塞。
工作原理：该汽车零件蜡模生产抛光装置使用时，将汽车零件蜡模固定在固定底座1上，然后通过转动把手6对调节螺杆7进行调节，从而对抛光架8的高度进行调节，调节完成后通过固定把手3进行辅助固定，打开电源开关，这时抛光电机9通过电机转轴11带动抛光盘12进行转动，从而对汽车零件蜡模表面进行抛光，同时抛光盘12 上的抛光剂储存仓15内部的抛光剂会通过供料管16输送到抛光盘 12的底部，辅助进行抛光。
以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。