技术总结
本实用新型涉及表面处理领域，提供了一种重稀土扩渗工艺中的磁控镀膜设备。该设备包括输送装置以及依次连通的进料台、缓冲装置、清洗室、溅射室、缓冲降温装置和出料台；进料台用于将装有待镀膜的工件的载料盘输送至缓冲装置，输送装置的第一端位于缓冲装置的进口处、第二端延伸至缓冲降温装置的出口处，进料台与缓冲装置之间以及缓冲降温装置和出料台之间均设有可启闭的第一密封门，缓冲装置与清洗室之间、清洗室与溅射室之间以及溅射室与缓冲降温装置之间均设有可启闭的第二密封门，缓冲装置、清洗室、溅射室、缓冲降温装置均连接有真空泵组。本实用新型不仅大大降低了工作人员的劳动强度、提高了生产效率和安全性，而且还减少了环境污染。
技术研发人员：顾为群;田永安;郑锡铭;张澄;金晨;韩彬;温建仁;王昕尧
受保护的技术使用者：北京七星华创磁电科技有限公司
技术研发日：2017.12.15
技术公布日：2018.07.10