掩膜版的吸附装置及吸附方法、蒸镀设备及蒸镀方法与流程

技术总结
本发明提供了一种掩膜版的吸附装置及吸附方法、蒸镀设备及蒸镀方法，以解决蒸镀时掩膜版被吸附后FMM出现褶皱的问题。其中该吸附方法包括：从掩膜版的某一或某些区域开始吸附，然后由初始吸附区域逐渐扩大吸附范围，直至整个掩膜版与衬底基板相贴合。上述吸附方法应用于制造OLED显示面板的蒸镀过程中，以提高蒸镀质量。 1

技术研发人员：罗昶;吴建鹏;
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司;
技术研发日：2018.01.03
技术公布日：2018.06.15