1.一种曲面工件超精密抛光方法，其特征是，所述方法为：室温下，将工件先后置于抛光液I和II中，并控制抛光液以一定流速流经工件的待抛光面，持续处理至少5min，所述抛光液I和II按质量百分比，包括1~25%的磨料和75~99%的基液；所述抛光液I所用磨料为氧化铝晶须、SiC晶须、ZnO晶须、碳纤维，且磨料的长径比为2~10，长度为5~10微米；所述抛光液II所用磨料为平均粒径为0.5~50微米的超硬材料颗粒，所述超硬材料为金刚石颗粒、立方BN颗粒、SiC颗粒。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征是，所述基液按下述方法制备所得， 包括下述工艺步骤：
（1）将SiO2纳米粒子与硅烷偶联剂和乙二醇按质量比为100:1~2:5~10混合后进行球磨，球磨时间至少0.5h，球磨后进行干燥，得到预处理的SiO2纳米粒子；
（2）将顺丁烯二酸酐按与水的质量比为15~50:100溶于水中，90～105℃，在过硫酸铵存在下使其与丙烯酸反应4~6 h，反应同时向反应液内滴加质量分数为30~40%NaOH溶液，反应完毕后调节溶液pH值为7~7.5，得共聚物溶液，其中，顺丁烯二酸酐与丙烯酸的摩尔比1:0.5~2，过硫酸铵与顺丁烯二酸酐的摩尔比为0.1~5:100；
（3）将步骤（1）所得预处理的SiO2纳米粒子按0.5~5g:10mL溶于步骤（2）所得共聚物溶液中，超声分散，干燥；将干燥所得SiO2纳米粒子按与介质溶剂的质量比为10:4~8分散于介质溶剂中，超声分散，得抛光液用基液。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征是，所述抛光液I按质量百分比，包括5~15%的磨料，所述抛光液I所用磨料为氧化铝晶须、SiC晶须、ZnO晶须、碳纤维，且磨料的长径比为2~5，长度为5~10微米。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征是，所述抛光液II按质量百分比包括10~25%的磨料，所用磨料为平均粒径为5~20微米的超硬材料颗粒，所述超硬材料为金刚石颗粒、立方BN颗粒、SiC颗粒。
5.根据权利要求1所述的方法，其特征是，所述步骤（1）中，所述SiO2纳米粒子的平均粒径为50nm~200nm。
6.根据权利要求1所述的方法，其特征是，所述步骤（2）中，所述顺丁烯二酸酐与水的质量比为28~35:100。
7.根据权利要求1所述的方法，其特征是，所述步骤（2）中，所述顺丁烯二酸酐与丙烯酸的摩尔比为1:1~1.5；所述过硫酸铵与顺丁烯二酸酐的摩尔比为0.5~2.7:100。