1.使用热蒸发镀膜法在柔性衬底上制备薄膜的真空镀膜设备,其特征在于：所述真空镀膜设备包括密闭腔室，于腔室底部设有蒸发系统，于蒸发系统的物料出口处上方设有膜厚仪，于蒸发系统上方的腔室中间横向设有带蒸发窗口的隔板，蒸发窗口上覆盖有可移动主挡板，于隔板上方的腔室上部设有可旋转主辊，主辊上有可拆卸的沉积滚筒，在沉积滚筒上固定有柔性衬底。
2.根据权利要求1所述的使用热蒸发镀膜法在柔性衬底上制备薄膜的真空镀膜设备,其特征在于：所述蒸发系统，其包括2个以上蒸发源以阵列形式排布于腔室底部，阵列中心上方对应蒸发窗口中心位置。
3.根据权利要求2所述的真空镀膜设备,其特征在于：所述蒸发系统中的单个蒸发源，为点蒸发源，包括底部加热源、置于加热源上部的用于装膜料的坩埚、坩埚开口端上方的坩埚挡板。
4.根据权利要求1所述的使用热蒸发镀膜法在柔性衬底上制备薄膜的真空镀膜设备,其特征在于：所述可移动主挡板和蒸发窗口，位于腔室中间靠近主辊的位置，主挡板位于蒸发窗口上面，完全覆盖蒸发窗口，并与其紧密贴合可密封蒸发窗口。
5.根据权利要求4所述的真空镀膜设备,其特征在于：所述可移动主挡板的移动方式为，平行于蒸发窗口平移，垂直于腔室侧壁，可以手动控制或自动控制。
6.根据权利要求1所述的使用热蒸发镀膜法在柔性衬底上制备薄膜的真空镀膜设备,其特征在于：所述膜厚仪，包括但不限于石英晶振法膜厚仪、光学测量法膜厚仪、电学监控法膜厚仪中的一种或二种上。
7.根据权利要求1所述的使用热蒸发镀膜法在柔性衬底上制备薄膜的真空镀膜设备,其特征在于：所述的腔室上部可旋转主辊，由外部驱动系统控制，转速可调，正反转可调，于主辊侧面(端面)有上设有固定沉积滚筒用螺栓。
8.根据权利要求1所述的使用热蒸发镀膜法在柔性衬底上制备薄膜的真空镀膜设备,其特征在于：所述可拆卸沉积滚筒，正面(表面)有柔性衬底固定用卡槽，侧面(端面)有主辊连接用轨道，可与主辊上固定螺栓匹配固定在主辊上。
9.根据权利要求1或2所述的真空镀膜设备,其特征在于：所述2个以上蒸发源间设有隔板，于隔板上设有膜厚仪。