一种柔性卷绕镀膜设备用杂气清理隔离装置的制作方法

本发明属于杂气清理技术领域，具体涉及一种柔性卷绕镀膜设备用杂气清理隔离装置。

背景技术：

目前柔性透明导电薄膜沉积技术已经在触摸屏行业广泛推广，柔性透明导电膜通过卷绕镀膜设备镀制，但是在柔性卷绕镀膜设备中的溅射腔室在对柔性透明导电薄膜基材溅射的时候往往会有多余的工艺气体进入相邻的腔室，从而引起不同的工艺气体混合影响柔性透明导电薄膜镀制的质量，同时对于杂气进入其他溅射腔室也会影响卷绕镀膜设备内部的真空度，影响卷绕镀膜设备的产品稳定性，不利于广泛的推广和普及。

技术实现要素：

本发明的目的在于提供一种柔性卷绕镀膜设备用杂气清理及隔离装置，结构设计简单合理，操作方便，有效的防止杂气溢出到其他腔室，同时便于对杂气进行处理，安全稳定，适用范围广，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种柔性卷绕镀膜设备用杂气清理隔离装置，包括卷绕镀膜设备本体，所述卷绕镀膜设备本体的内部位于镀膜鼓的表面等角度设有六组磁控溅射腔室，且卷绕镀膜设备本体的内部位于每两组磁控溅射腔室之间均设有真空腔室，所述真空腔室与磁控溅射腔室之间设有溢出口，且溢出口内安装有单向阀，所述真空腔室的外侧安装有真空泵，且真空泵的进气端与真空腔室的抽气口连接固定，所述真空泵的出气端通过管道固定连接有气体净化装置。

优选的，所述卷绕镀膜设备本体的两侧分别连接有内部设置辊筒的放卷室和收卷室，且卷绕镀膜设备本体的内部设有用于抽真空的泵体。

优选的，所述单向阀包括焊接在溢出口内且一端伸入真空腔室内的通气管，所述通气管伸入真空腔室的一端内部滑动连接有塞柱，且塞柱的一端伸出通气管一体式连接有挡板，所述挡板与通气管之间固定安装有回力弹簧，所述塞柱的端部设有与塞柱一侧连通的通孔，且通气管伸入真空腔室的一端表面设有与通孔相配合的气孔。

优选的，所述气体净化装置包括反应罐，且反应罐的顶部通过法兰固定安装有罐盖，所述罐盖的一侧穿插有底端伸入反应罐内部底端的连接管，且连接管的顶端与真空泵的出气端通过管道连接固定，所述反应罐的底部设有带阀门的出料管，且反应罐的内部底端位于出料管的外侧嵌装有电加热管，所述反应罐的一侧顶端焊接有带端盖的进料管，所述罐盖的顶部另一侧焊接有出气管，且罐盖的底部位于出气管的外侧安装有填充活性炭的滤袋。

优选的，所述反应罐的内部底端为开口向上的曲面弧型，且反应罐的表面设有带刻度的观察窗。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：

1、通过在磁控溅射腔室之间设置真空腔室可以防止杂气进入不同的磁控溅射腔室内，同时真空腔室内的单向阀可以实现只可以使杂气进入真空腔室，而不能使杂气从真空腔室回流到磁控溅射腔室内；

2、利用真空泵可以把溢流到真空腔室内的杂气抽出真空腔室内，同时也能保证真空腔室内的真空度，而杂气送入气体净化装置内的反应罐中与溶液发生置换反应，有效的把可以再次使用或者比较稀有的物质分离出来，同时电加热管在需要的时候可以对溶液进行加热提高置换反应的效率，填充活性炭的滤袋有效的对置换后产生的气体进行过滤，减少环境污染。

附图说明

图1为本发明的结构示意图；

图2为本发明真空腔室的剖视图；

图3为本发明单向阀的剖视图；

图4为本发明气体净化装置的剖视图。

图中：1卷绕镀膜设备本体、2磁控溅射腔室、3真空腔室、4溢出口、5单向阀、51通气管、52塞柱、53挡板、54回力弹簧、55通孔、56气孔、6抽气口、7真空泵、8气体净化装置、81反应罐、82罐盖、83连接管、84出料管、85出气管、86滤袋、87进料管、88电加热管。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本发明提供了如图1-4所示的一种柔性卷绕镀膜设备用杂气清理隔离装置，包括卷绕镀膜设备本体1，所述卷绕镀膜设备本体1的内部位于镀膜鼓的表面等角度设有六组磁控溅射腔室2，且卷绕镀膜设备本体1的内部位于每两组磁控溅射腔室2之间均设有真空腔室3，所述真空腔室3与磁控溅射腔室2之间设有溢出口4，且溢出口4内安装有单向阀5，所述真空腔室3的外侧安装有真空泵7，且真空泵7的进气端与真空腔室3的抽气口6连接固定，所述真空泵7的出气端通过管道固定连接有气体净化装置8。

具体的，所述卷绕镀膜设备本体1的两侧分别连接有内部设置辊筒的放卷室和收卷室，且卷绕镀膜设备本体1的内部设有用于抽真空的泵体。

具体的，所述单向阀5包括焊接在溢出口4内且一端伸入真空腔室3内的通气管51，所述通气管51伸入真空腔室3的一端内部滑动连接有塞柱52，且塞柱52的一端伸出通气管51一体式连接有挡板53，所述挡板53与通气管51之间固定安装有回力弹簧54，所述塞柱52的端部设有与塞柱52一侧连通的通孔55，且通气管51伸入真空腔室3的一端表面设有与通孔55相配合的气孔56。

具体的，所述气体净化装置8包括反应罐81，且反应罐81的顶部通过法兰固定安装有罐盖82，所述罐盖82的一侧穿插有底端伸入反应罐81内部底端的连接管83，且连接管83的顶端与真空泵7的出气端通过管道连接固定，所述反应罐81的底部设有带阀门的出料管84，且反应罐81的内部底端位于出料管84的外侧嵌装有电加热管88，所述反应罐81的一侧顶端焊接有带端盖的进料管87，所述罐盖82的顶部另一侧焊接有出气管85，且罐盖82的底部位于出气管85的外侧安装有填充活性炭的滤袋86。

具体的，所述反应罐81的内部底端为开口向上的曲面弧型，且反应罐81的表面设有带刻度的观察窗。

六组磁控溅射腔室2内的靶材依次为硅靶、铌靶、硅靶、硅靶、硅靶和ito靶，所以对于气体净化装置8中反应罐81内填充的反应溶液根据反应靶材的不同进行选择，如气体硅化物四氢化硅在氢氧化钾碱性溶液内会反应生成硅酸钾结晶和氢气，五氟化铌蒸汽直接通入水中就会潮解为五氧化二铌水合物胶状沉淀和氟化氢气体。

该文中出现的电器元件均与外界的主控器及220v市电电连接，并且主控器可为计算机等起到控制作用的常规已知设备。

工作原理：使用时，磁控溅射腔室2之间设置真空腔室3可以防止杂气进入不同的磁控溅射腔室2内，同时真空腔室3内的单向阀5可以实现只可以使杂气进入真空腔室3，而不能使杂气从真空腔室3回流到磁控溅射腔室2内，真空泵7可以把溢流到真空腔室3内的杂气抽出真空腔室3内，同时也能保证真空腔室3内的真空度，而杂气送入气体净化装置8内的反应罐81中与溶液发生置换反应，有效的把可以再次使用或者比较稀有的物质分离出来，同时电加热管88在需要的时候可以对溶液进行加热提高置换反应的效率，填充活性炭的滤袋86有效的对置换后产生的气体进行过滤，减少环境污染。

最后应说明的是：以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。