技术总结
本实用新型涉及真空镀膜技术领域，尤其涉及一种真空蒸发镀膜设备。所述真空蒸发镀膜设备包括蒸发腔室，用于支撑所述蒸发腔室的腔室支架，以及用于驱动蒸发源进出所述蒸发腔室的驱动设备。本实用新型的真空蒸发镀膜设备，设置了腔室支架用于支撑蒸发腔室，还设置了用于驱动蒸发源进出所述蒸发腔室的驱动设备，使蒸发源可以从腔室本体底部进出蒸发腔室，维护或添料时，所述驱动设备用于驱动蒸发源进出蒸发腔室，便于维护和换料；驱动设备的增设，有效减少了人力支出，大大降低了人工取放和操作蒸发源的难度，尤其是大体积大质量蒸发源的难度。
技术研发人员：苏艳波
受保护的技术使用者：东泰高科装备科技（北京）有限公司
技术研发日：2018.06.21
技术公布日：2019.01.29