技术总结
本申请公开了一种制备首饰用人造CVD金刚石的设备，所述设备包括：密闭的沉积室，在所述沉积室中竖直设置有热丝组件，在热丝组件两侧分别设置有基体组件，所述基体组件可沿垂直于所述热丝网面的方向往复运动。使用本申请提供的设备可以在在制备过程中持续缓慢地移动基片台，从而避免在CVD过程中产生的石墨等杂质落入人造CVD金刚石内部，进而提高人造CVD金刚石的品质，而且，热丝组件的两侧同时设置基片台，从而将制造效率提高1倍，此外，使用本申请提供的设备能够在制备过程中保持人造CVD金刚石前端面的温度恒定，从而增加人造CVD金刚石的厚度，进而获得大尺寸的人造CVD金刚石。
技术研发人员：赵志岩
受保护的技术使用者：廊坊西波尔钻石技术有限公司
技术研发日：2018.06.25
技术公布日：2019.02.05