一种旋转式连续镀膜设备的制作方法

本实用新型涉及连续镀膜设备领域，更具体的说，涉及一种旋转式连续镀膜设备。

背景技术：

目前真空镀膜技术被越来越多的应用到各种材料上，来赋予新的性能，其连续式镀膜设备一般为直线型排列，包括依次连接有进料室、进料缓冲室、PVD真空镀膜室、中间缓冲室、CVD真空镀膜室，出料缓冲室以及出料室，这种生产线的结构较大，占地面积也多，并且进料和出料需人工操作完成，工作效率较低。中国发明专利201210501700.X公开了旋转式连续镀膜装置及其方法，其中该旋转式连续镀膜装置的装卸片机构不易吸附一些结构复杂且体积偏小的工件，因此需针对这一状况进行改进。

技术实现要素：

针对现有技术存在的不足，本实用新型的目的是提供一种可用于输送细小工件的自动化旋转式连续镀膜设备。

为了解决上述存在的技术问题，本实用新型采用下述技术方案：

一种旋转式连续镀膜设备，包括真空镀膜装置和工件传输装置，所述真空镀膜装置为环形结构并设有多个镀膜腔体，包括依次设置的进料室、进料缓冲室、PVD真空镀膜室、中间缓冲室、CVD真空镀膜室、出料缓冲室以及出料室，所述镀膜腔体呈圆形分布排列在环形结构的四周，且各个镀膜腔体的底部是相通的并设有转盘，转盘的中心底部设有转盘旋转机构，所述转盘上方与各个镀膜腔体之间设有工件托盘，而各个工件托盘的正下方分别设有托盘升降机构，所述转盘在各个工件托盘的对应处设置有用于托盘升降机构升降的通孔，所述的进料室外侧壁开设有第一通孔，所述第一通孔设置有第一真空阀门以及进料输送导轨，所述进料输送导轨一端连接第一真空阀门，另一端延伸至进料室的工件托盘上方，所述出料室外侧壁开设有第二通孔，所述第二通孔设置有第二真空阀门，所述第二真空阀门相对应的内侧壁设置有将已镀膜工件吹出的自动吹气装置；所述工件传输装置包括连接第一真空阀门的振动送料盘以及连接第二真空阀门的工件传输带。

进一步的，所述自动吹气装置包括内嵌在出料室内侧壁的多个吹气头，所述吹气头都指向第二真空阀门，所述吹气头通过气管连接至同一个吹气控制机构。

进一步的，所述振动送料盘与第一真空阀门的连接处设置有用于控制工件进入数量的挡料器。

进一步的，所述进料输送导轨为相互连接而成的两段长条形通道，其中连接第一真空阀门的长条形通道倾斜向下，另一段长条形通道垂直于工件托盘。

本实用新型存在优点及积极效果：

本实用新型为一种旋转式真空镀膜设备，可用于一些结构比较复杂，且体积较小的工件进行镀膜，用振动送料盘和吹起装置代替原有的装卸片机构；该真空镀膜设备呈旋转式，相对于直线型占地面小，自动化连续生产，提高生产效率；工件可以通过PVD和CVD两种镀膜方式来获得不同膜层，从而获得不同性能。

附图说明

图1为实施例旋转式连续镀膜设备的俯视图。

图2为实施例进料室的剖视图。

图3为实施例出料室的剖视图。

图4为实施例出料室A-A的局部剖视图。

图5为实施例进料输送导轨的立体结构示意图

具体实施方式

下面结合附图与具体实施方式对本实用新型作进一步详细描述，但本实用新型的实施方式不局限于此。

如图1、图2、图3、图4、图5所示，实施例为一种旋转式连续镀膜设备，包括真空镀膜装置和工件传输装置，其中真空镀膜装置为环形结构并设有多个镀膜腔体，包括依次设置的进料室1、进料缓冲室2、PVD真空镀膜室31、中间缓冲室32、CVD真空镀膜室33、出料缓冲室4以及出料室5，每个镀膜腔体都连接有真空泵18，所述镀膜腔体呈圆形分布排列在环形结构的四周，且各个镀膜腔体的底部是相通的并设有转盘11，转盘11的中心底部设有转盘旋转机构12，所述转盘11上方与各个镀膜腔体之间设有工件托盘13，而各个工件托盘13的正下方分别设有托盘升降机构14，所述转盘11在各个工件托盘13的对应处设置有用于托盘升降机构14升降的通孔(图中未示出)，所述的进料室1外侧壁开设有第一通孔，在第一通孔设置有第一真空阀门15以及进料输送导轨16，所述进料输送导轨16一端连接第一真空阀门15，另一端延伸至进料室1的工件托盘13上方，其中进料输送导轨16为相互连接而成的两段长条形通道，其中连接第一真空阀门的长条形通道倾斜向下，另一段长条形通道垂直于工件托盘13；所述出料室5外侧壁开设有第二通孔，所述第二通孔设置有第二真空阀门17，所述第二真空阀门17相对应的内侧壁设置有将已镀膜工件吹出的自动吹气装置，其中自动吹气装置包括内嵌在出料室内侧壁的多个吹气头19，所述吹气头19都指向第二真空阀门17，所述吹气头19通过气管连接至同一个吹气控制机构(图中未示出)；所述工件传输装置包括连接第一真空阀门15的振动送料盘6以及连接第二真空阀门17的工件传输带8，所述振动送料盘6与第一真空阀门15的连接处设置有用于控制工件进入数量的挡料器7。

其旋转式连续镀膜设备的工作原理：打开进料室1的第一真空阀门15，待镀膜工件经振动送料盘6以及进料输送导轨16进入进料室1的工件托盘13上，其中挡料器7用来控制工件进入进料室1的数量，再关闭第一真空阀门15经真空泵18抽气进行第一次真空处理；之后托盘升降机构14带动工件托盘13及待镀膜工件下降至转盘11表面，转盘旋转机构12带动转盘11旋转72°，待镀膜工件再经过托盘升降机构14送入进料缓冲室2进行第二次真空处理，再依次进入PVD真空镀膜室31、中间缓冲室32、CVD真空缓冲室33、出料缓冲室4以及出料室5进行镀膜及缓冲处理，之后打开出料室的第二真空阀门17，吹气控制机构经吹气头19吹出气体将已镀膜工件从第二真空阀门17吹出，进入工件传输带8；其中，当待镀膜工件进入进料缓冲室2时，打开进料室1的第一真空阀门15，将新的待镀膜工件导入，再重复以上步骤。

虽然以上描述了本实用新型的具体实施方式，但是本领域的技术人员应当理解，这些仅是举例说明，本实用新型的保护范围是由所附权利要求书限定的。本领域的技术人员在不背离本实用新型的原理和实质的前提下，可以对这些实施方式做出多种变更或修改，但这些变更和修改均落入本实用新型的保护范围。