一种连续性电浆纳米膜沉积设备的制作方法

本实用新型涉及纳米镀膜设备领域，更具体的说，涉及一种连续性电浆纳米膜沉积设备。

背景技术：

目前真空镀膜技术被越来越多的应用到各种材料上，来赋予新的性能，其连续式镀膜设备一般为直线型排列，包括依次连接有进料室、进料缓冲室、真空镀膜室、出料缓冲室以及出料室，在设备一侧设置有用于输送待镀膜工件的输送带，占地面积大，并且通过传动滚筒进入镀膜腔体内后工件静置在托盘上进行镀膜，没有经过旋转，容易造成镀膜不均、工件膜层有缺陷的情况。

技术实现要素：

针对现有技术存在的不足，本实用新型的目的是提供一种占地面积小、镀膜均匀以及可自动多次涂覆的镀膜设备。

为了解决上述存在的技术问题，本实用新型采用下述技术方案：

一种连续性电浆纳米膜沉积设备，包括机架、镀膜装置和传输装置，所述镀膜装置为五个镀膜腔体串接而成，包括依次连接的进料室、进料缓冲室、真空镀膜室、出料缓冲室和出料室，所述镀膜腔体前后端都设置有进料口和出料口，所述进料口和出料口都设置有可开闭的真空阀门，并且每个镀膜腔体一侧分别连接有用于抽取真空的真空泵，所述机架为上下双层结构，包括上层支撑架和下层支撑架，其中镀膜装置固定安装于上层支撑架，所述传输装置包括设置于上层支撑架的传送机构、设置于下层支撑架的回传机构、设置于机架前端的进料升降机构和设置于机架后端的出料升降机构，所述传送机构包括依次设置于进料室、进料缓冲室、真空镀膜室、出料缓冲室和出料室的第一组传动滚筒、第二组传动滚筒、第三组传动滚筒、第四组传动滚筒、第五组传动滚筒，所述第三组传动滚筒设置于一可在水平面内360°自转的转盘构件上，所述回传机构包括设置于下层支撑架的第六组传动滚筒，所述进料升降机构包括可上下升降的进料升降架以及设置于进料升降架上的第七组传动滚筒，所述出料升降机构包括可上下升降的出料升降架以及设置于出料升降架上的第八组传动滚筒。

更具体的，所述进料升降机构设置有驱动进料升降架上下运动的第一驱动机构，所述出料升降机构设置有驱动出料支撑块架上下运动的第二驱动机构。

更具体的，所述传输装置每一组传动滚筒的滚动都是通过独立的滚筒驱动机构来驱动。

更具体的，所述转盘构件的底部连接有可绕z轴旋转的旋转臂，所述的旋转臂由第三驱动机构来驱动旋转。

更具体的，还包括一个控制器，所述控制器与第一、第二、第三驱动机构电连接，所述滚筒驱动机构与控制器电连接。

本实用新型存在优点及积极效果：

本实用新型为一种连续性电浆纳米膜沉积设备，其中机架为上下层结构，减少占地面积，并且在两边设置有升降机构，保证自动化连续生产，可以自动循环镀膜，镀膜腔体中的传动滚筒设置在转盘构件上能保证工件镀膜的均匀性。

附图说明

图1为实施例连续性电浆纳米膜沉积设备的正视图。

图2为实施例转盘构件俯视的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图与具体实施方式对本实用新型作进一步详细描述，但本实用新型的实施方式不局限于此。

如图1、图2所示，实施例为一种连续性电浆纳米膜沉积设备，包括机架、镀膜装置和传输装置，其中镀膜装置为五个镀膜腔体串接而成，包括依次连接的进料室1、进料缓冲室2、真空镀膜室3、出料缓冲室4和出料室5，所述镀膜腔体前后端都设置有进料口和出料口，而进料口和出料口都设置有可开闭的真空阀门(图中未示出)，所述真空阀门的运动通过气缸驱动，并通过电磁阀受控制器控制，控制器优选采用日本三菱公司的FX3GA系列的PLC控制器。

并且每个镀膜腔体一侧分别连接有用于抽取真空的真空泵(图中未示出)，所述机架为上下双层结构，包括上层支撑架10和下层支撑架6，其中镀膜装置固定安装于上层支撑架10，所述传输装置包括设置于上层支撑架10的传送机构、设置于下层支撑架6的回传机构、设置于机架前端的进料升降机构7和设置于机架后端的出料升降机构8，所述传送机构包括依次设置于进料室1、进料缓冲室2、真空镀膜室3、出料缓冲室4和出料室5的第一组传动滚筒11、第二组传动滚筒21、第三组传动滚筒31、第四组传动滚筒41、第五组传动滚筒51，所述第三组传动滚筒31设置于一可在水平面内360°自转的转盘构件90上，其中转盘构件90的底部连接有可绕z轴旋转的旋转臂(图中未示出)，并且旋转臂由第三驱动机构93来驱动旋转，所述回传机构包括设置于下层支撑架6的第六组传动滚筒61，所述进料升降机构7包括进料升降架72以及设置于进料升降架72上的第七组传动滚筒71，出料升降机构8包括出料升降架82以及设置于出料升降架82上的第八组传动滚筒81，其中进料升降机构7、出料升降机构8分别设置有驱动进料升降架72、出料升降架82上下运动的第一驱动机构91、第二驱动机构92，所述传输装置每一组传动滚筒的滚动都是通过独立的滚筒驱动机构来驱动，所述第一、第二驱动机构均为伺服电极及丝杆传动装置，所述进料升降架72、出料升降架82均相配的设置于丝杆传动装置上，所述第三驱动机构及滚筒驱动机构均为伺服电机及传动装置(或齿轮组或皮带等)，上述各驱动机构及相应的传动装置的工作原理均为现有技术，在此不做赘述，所述第一、第二、第三驱动机构及滚筒驱动机构均与上述PLC控制器电连接。

工作原理：进料室的真空阀门打开后，载有工件的托盘通过进料升降机构7的第七组传动滚筒71(初始位置)的作用送入进料室1，然后进料室1的真空阀门关闭，在进料室1内进行抽真空预处理(真空度较低)，随后进料室1与进料缓冲室2之间的真空阀门打开，通过进料室1第一组传动滚筒11的作用将工件送入进料缓冲室2，真空阀门关闭后再次进行抽真空处理(真空度较高)，随后托盘进入真空镀膜室3，在镀膜时在第三组传动滚筒3上的工件托盘会随转盘构件90发生360度转动，使镀膜更加均匀和一致，镀膜完成后，托盘再依次进入出料缓冲室4和出料室5进行相应的降真空度处理，之后工件托盘送入到出料升降机构8的第八组传动滚筒81上，工作人员在此进行卸料，之后空载的托盘被出料升降架82运送到下层支撑架6的平面，空托盘被送到第六组传动滚筒61上，第六组传动滚筒61及进料升降架72再将空托盘运送至初始位置，由人工卸载，并在初始位置放置装满工件的托盘后，再重复上述步骤。

虽然以上描述了本实用新型的具体实施方式，但是本领域的技术人员应当理解，这些仅是举例说明，本实用新型的保护范围是由所附权利要求书限定的。本领域的技术人员在不背离本实用新型的原理和实质的前提下，可以对这些实施方式做出多种变更或修改，但这些变更和修改均落入本实用新型的保护范围。