1.一种物理气相沉淀柔性PI镀膜设备，包括支撑台(1)和玻璃罩(4)，所述玻璃罩(4)位于支撑台(1)上方，其特征在于：所述支撑台(1)表面中间位置设有工作台(8)，所述工作台(8)外部固定连接防护罩(7)，所述玻璃罩(4)和支撑台(1)连接处粘接有密封圈(2)，所述玻璃罩(4)外部对称设有减震装置(3)且为固定连接，所述减震装置(3)包括挡板(12)、套筒(13)、弹簧(14)和活塞杆(15)，所述支撑台(1)底端通过伸缩支腿(10)焊接万向轮(11)。
2.根据权利要求1所述的一种物理气相沉淀柔性PI镀膜设备，其特征在于：所述玻璃罩(4)顶端转动连接手柄(6)，且手柄(6)表面粘接有防滑套(5)。
3.根据权利要求1所述的一种物理气相沉淀柔性PI镀膜设备，其特征在于：所述挡板(12)与活塞杆(15)一端固定连接，所述活塞杆(15)另一端滑动插接在套筒(13)内部，所述弹簧(14)两端分别与活塞杆(15)和套筒(13)固定连接。
4.根据权利要求1所述的一种物理气相沉淀柔性PI镀膜设备，其特征在于：所述伸缩支腿(10)侧壁螺旋连接锁紧轮(9)。