一种增强器输出屏用蒸铝支架的制作方法

本实用新型涉及增强器输出屏加工技术领域，尤其涉及一种增强器输出屏用蒸铝支架。

背景技术：

X射线检测系统中的影像增强器是必不可少的组件，X射线像增强器是一种真空成像器件，由光电转换屏、光电阴极组件、电子光学聚焦系统和输出荧光屏组成，物体的X射线影像通过转换屏转变成可见光图像，再通过光电阴极转变成电子图像，经电子光学系统成像并加速到输出荧光屏上，最终转变成可见的图像。

为提高增强器输出屏的亮度，改善图像的背景，防止荧光粉层被铯化及电子轰击等破坏，提高荧光粉层的寿命，改善成像质量及屏的导热性，必须在输出屏的表面镀一层铝；输出屏表面镀的铝层，作为导电膜，构成电子束器件的阳极，消除荧光粉层上的电子电荷积累，确保电子光学系统阳极区电位分布不致畸变，同时，铝层作为透电子而不透光子的反射膜，平整致密的铝膜使射向阴极方向的荧光被反射，仍然由衬底输出，从而提高了荧光粉发光亮度，消除了屏荧光所造成的光致背景，改善了器件的成像对比度。

目前，输出屏的铝层制作一般采用真空镀膜技术，即在真空条件下，用蒸发器加热蒸发物质使之气化，蒸发粒子流直接射向基片并在基片上沉淀形成固态薄膜的方法，镀膜加工时，用镊子将处理好的铝箔挂在加热器上夹紧，将待蒸的输出屏装入支架，使屏面朝向蒸发源。但目前的用于放置输出屏的支架，无法确保与蒸发源的有效间距及角度位置，使得输出屏蒸得的铝层厚薄明显不均匀，镀膜效果差，进而影响输出屏的制备质量，此外，现有的输出屏放置架，不便于输出屏的放置及镀铝后的取出，操作繁琐不便，进而影响输出屏的镀铝加工效率。

因此，开发一种增强器输出屏用蒸铝支架，不但具有迫切的研究价值，也具有良好的经济效益和工业应用潜力，这正是本实用新型得以完成的动力所在和基础。

技术实现要素：

为了克服上述所指出的现有技术的缺陷，本发明人对此进行了深入研究，在付出了大量创造性劳动后，从而完成了本实用新型。

具体而言，本实用新型所要解决的技术问题是：提供一种增强器输出屏用蒸铝支架，以解决现有蒸铝支架蒸得的输出屏铝层厚薄明显不均匀，镀膜效果差，进而影响输出屏的制备质量的技术问题。

为解决上述技术问题，本实用新型的技术方案是：

一种增强器输出屏用蒸铝支架，其特征在于：包括具有球面结构的支架本体，所述支架本体的球面上均匀开设有若干镀铝孔；

所述支架本体上与所述镀铝孔对应位置处还固定安装有输出屏放置环，所述输出屏放置环上开设有至少一组对应设置的取屏缺口。

作为一种改进的技术方案，所述支架本体上还开设有若干用以实现其于加热器上固定的安装孔，若干所述安装孔于所述支架本体的边沿位置均匀排列设置。

作为一种改进的技术方案，所述支架本体的球面半径为150-170mm。

作为一种改进的技术方案，所述支架本体的球面边缘对应位置之间的角度范围为70度～80度。

作为一种改进的技术方案，所述输出屏放置环包括与所述镀铝孔相适配的卡装部和固定安装于所述卡装部上的限位部，所述输出屏放置环通过所述卡装部和所述镀铝孔固定卡装于所述支架本体上。

作为一种改进的技术方案，所述限位部的内径与输出屏相适配，所述限位部的外径大于所述镀铝孔的直径，所述卡装部的内径小于所述限位部的内径。

作为一种改进的技术方案，所述取屏缺口于所述限位部上开设，且每个所述输出屏放置环上的所述取屏缺口对应开设有两个。

作为一种改进的技术方案，其中一所述镀铝孔位于所述支架本体的顶部开设，其余所述镀铝孔呈环形阵列设置。

采用了上述技术方案后，本实用新型的有益效果是：

设有的该增强器输出屏用蒸铝支架，结构简单，使用时，通过安装孔将该支架固定安装到加热器上，将待镀铝输出屏依次放置到输出屏放置环上，使得输出屏的屏面朝向蒸发源即可，操作简单；由于设有的该蒸铝支架结构，输出屏放置后，能够确保各输出屏与蒸发源保持有效的蒸发间距及蒸发角度位置，使得蒸得的各输出屏的铝层厚度均匀，镀膜效果好，进而提高了输出屏的制备质量，输出屏制备合格率高，此外，通过输出屏放置环实现输出屏于该支架上的放置，在方便输出屏放置的同时，镀铝加工完成后，可通过输出屏放置环上的取屏缺口将输出屏从支架上取下，为输出屏的取屏操作提供了便利，由于该蒸铝支架结构使得输出屏的放屏跟取屏操作简单方便，进而提高了输出屏的镀铝加工效率，方便实用。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍。在所有附图中，类似的元件或部分一般由类似的附图标记标识。附图中，各元件或部分并不一定按照实际的比例绘制。

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型的正视结构示意图；

图3为本实用新型输出屏放置环的结构示意图；

图4为本实用新型输出屏放置环的剖视结构示意图；

附图标记：1-支架本体；101-镀铝孔；102-安装孔；2-输出屏放置环；201-卡装部；202-限位部；203-取屏缺口。

具体实施方式

下面结合具体的实施例对本实用新型进一步说明。但这些例举性实施方式的用途和目的仅用来例举本实用新型，并非对本实用新型的实际保护范围构成任何形式的任何限定，更非将本实用新型的保护范围局限于此。

如图1和图2所示，本实施例提供了一种增强器输出屏用蒸铝支架，包括具有球面结构的支架本体1，支架本体1的球面上均匀开设有若干镀铝孔101；支架本体1上与镀铝孔101对应位置处还固定安装有输出屏放置环2，输出屏放置环2上开设有至少一组对应设置的取屏缺口203。

为实现该支架使用时于加热器上的固定安装，支架本体1上还开设有若干用以实现其于加热器上固定的安装孔102，若干安装孔102于支架本体1的边沿位置均匀排列设置；本实施例中，支架本体1的边沿为与球面结构一体成型的结构，安装孔102开设有四个，且于支架本体1的边沿均匀开设。

由于该蒸铝支架的球面结构，使得开设的若干镀铝孔101距该支架的球心距离均相等，当该支架安装后，蒸发源处于该支架的球心位置，进而使得通过输出屏放置环2放置于该支架上的各输出屏距蒸发源的蒸发距离相同，经多次试验，输出屏距蒸发源的蒸发距离为150-170mm时，镀铝效果较佳，故该支架本体1的球面半径可设为150-170mm，本实施例中，支架本体1的球面半径为160mm。

加热器在对铝箔加热蒸发时，蒸发铝粒子流直接射向输出屏并在输出屏上沉淀形成固态铝薄膜，由于加热铝箔蒸发时，形成的蒸发铝粒子流是具有一蒸发范围的，超过该角度范围，沉淀到输出屏屏面上的铝粒子量不同，为确保蒸发到各个输出屏上的铝层厚度均匀一致，本实施例中，支架本体1的球面边缘对应位置之间的角度A范围为70度～80度。

设有的上述规格大小的蒸铝支架，安装后能够确保与蒸发源保持有效间距、角度的位置，从而使得输出屏蒸得的铝层厚薄均匀，输出屏的镀铝效果好，加工质量高。

本实施例中，在确保有效镀铝质量的同时，为一次性能够实现尽量多数量的输出屏的同时镀铝加工，镀铝孔101开设有七个，其中一镀铝孔101位于支架本体1的顶部开设，其余镀铝孔101绕中间镀铝孔101呈环形阵列设置。

如图3和图4共同所示，为便于实现输出屏于支架上的放置与镀铝后的取出，输出屏放置环2包括与镀铝孔101相适配的卡装部201和固定安装于卡装部201上的限位部202，输出屏放置环2通过卡装部201和镀铝孔101固定卡装于支架本体1上，通过卡装的方式实现输出屏放置环2于支架本体1上的安装固定，安装操作简单方便。本实施例中，限位部202与卡装部201为一体成型结构或采用焊接的方式固定连接。

限位部202的内径与输出屏相适配，限位部202的外径大于镀铝孔101的直径，卡装部201的内径小于限位部202的内径，且取屏缺口203于限位部202上开设；设有的该结构的输出屏放置环2，限位部202外径大于镀铝孔101的直径，便于实现输出屏放置环2于支架本体1上的限位卡装，且于支架本体1上卡装固定后，限位部202的底部外边沿抵靠支架本体1的外壁，卡装部201的顶面与支架本体1的外壁相持平，为后续输出屏的取出操作提供了便利，限位部202的内径与输出屏相适配，且卡装部201的内径小于限位部202的内径，输出屏于输出屏放置环2上放置时，输出屏于限位部202内适配放置，输出屏的屏面边缘抵靠卡装部201的内边沿，实现输出屏的放置，结构简单，为输出屏的放置提供了便利；由于输出屏通过该输出屏放置环2实现其于支架本体1上的放置，镀铝加工时，蒸发的铝粒子流通过镀铝孔101并沉淀到输出屏的屏面上，实现铝层薄膜的制备。

本实施例中，每个输出屏放置环2上的取屏缺口203对应开设有两个，取屏时，通过两个对应设置的取屏缺口203夹住输出屏，便可将输出屏从输出屏放置环2内取出，操作简单方便。

基于上述结构的该增强器输出屏用蒸铝支架，结构简单，使用时，通过安装孔102将该支架固定安装到加热器上，将待镀铝输出屏依次放置到输出屏放置环2上，使得输出屏的屏面朝向蒸发源即可，操作简单；由于设有的该蒸铝支架结构，输出屏放置后，能够确保各输出屏与蒸发源保持有效的蒸发间距及蒸发角度位置，使得蒸得的各输出屏的铝层厚度均匀，镀膜效果好，进而提高了输出屏的制备质量，输出屏制备合格率高，此外，通过输出屏放置环2实现输出屏于该支架上的放置，在方便输出屏放置的同时，镀铝加工完成后，可通过输出屏放置环2上的取屏缺口203将输出屏从支架上取下，为输出屏的取屏操作提供了便利，由于该蒸铝支架结构使得输出屏的放屏跟取屏操作简单方便，进而提高了输出屏的镀铝加工效率。

通过该蒸铝支架实现对输出屏的镀铝加工，操作简单方便，相较传统的输出屏放置支架，输出屏镀制的铝层厚薄均匀，输出屏的镀铝质量跟加工效率均大大提高，方便实用。

应当理解，这些实施例的用途仅用于说明本实用新型而非意欲限制本实用新型的保护范围。此外，也应理解，在阅读了本实用新型的技术内容之后，本领域技术人员可以对本实用新型作各种改动、修改和/或变型，所有的这些等价形式同样落于本申请所附权利要求书所限定的保护范围之内。