真空镀膜设备用快速散热电弧靶材冷却机构的制作方法

文档序号:18592966发布日期:2019-09-03 20:45阅读:419来源:国知局
真空镀膜设备用快速散热电弧靶材冷却机构的制作方法

本实用新型涉及真空镀膜设备技术领域,尤其是涉及一种真空镀膜设备用快速散热电弧靶材冷却机构。



背景技术:

真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。目前在真空镀膜机镀膜时镀膜室中在蒸镀,镀膜室中残留部分未蒸镀到薄膜上的蒸气,该蒸气遇冷形成粉尘,粉尘在负压的作用下被真空泵抽走,该粉尘影响真空泵正常作业,增大真空泵的能耗,严重时甚至会损坏真空泵。真空镀膜设备扩散泵加热是用耗电量比较高的电阻丝通过烧红来烘烤真空锅炉(扩散泵)底部,从而加热里面的导热油来使真空泵里面的温度上升来达到设备的工作要求,导线接入区域温度过高会导致触电区域极易氧化虚接以及人身触电的的危险,安全性低。通过在真空镀膜设备上安装冷却装置,现有冷却装置上设置有进水管和出水管,冷却装置内具有空腔,而进水管及出水管的一端位于空腔一侧,这就使得空腔体上端冷却水能够循环,而空腔下端冷却水就滞留并形成“死水”,达不到所需冷却效果,从而导致冷却效果差。



技术实现要素:

本实用新型要解决的技术问题是:为了解决进水管及出水管的一端位于空腔一侧,这就使得空腔体上端冷却水能够循环,而空腔下端冷却水就滞留并形成“死水”,达不到所需冷却效果,从而导致冷却效果差的问题,现提供了一种真空镀膜设备用快速散热电弧靶材冷却机构。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:一种真空镀膜设备用快速散热电弧靶材冷却机构,包括本体,所述本体内开设有空腔体,所述本体位于空腔体内的一端设置有立柱,所述本体上设置有进水管和出水管,所述本体内开设有第一通道和第二通道,所述第一通道的一端与进水管的一端连通,所述第一通道的另一端与空腔体连通,所述第二通道的一端与出水管连通,所述第二通道的另一端与空腔体连通,所述立柱上设置有至少两个前挡板及两个后挡板,两个所述前挡板沿立柱轴向设置,所述第一通道的一端位于两个前挡板之间,两个所述后挡板沿立柱轴向设置,所述第二通道的一端位于两个后挡板之间。通过在立柱上第一通道的一端设置两个前挡板,以及第二通道的一端设置两个后挡板,两个前挡板之间形成用于限制第一通道进入冷却水的限制区,同理两个后挡板形成用于限制冷却后的水由空腔体进入第二通道的限制区,这样就使得空腔体底部的水能够循环,也就不会有“死水”形成。

为了便于本体内部零部件的制造和安装,进一步地,所述本体包括上盖体和下座体,所述下座体上表面开设有凹槽,所述立柱设置在上盖体上,所述上盖体设置在下座体上,所述上盖体与凹槽之间形成所述空腔体。由上盖体和下座体组成本体,同时第一通道和第二通道开设在上盖体上,进水管和出水管也设置在上盖体上,下座体上的凹槽与上盖体之间形成空腔体,便于本体上空腔体内部零部件的制成和安装。

本实用新型的有益效果是:本实用新型真空镀膜设备用快速散热电弧靶材冷却机构在使用时,通过在立柱上第一通道的一端设置两个前挡板,以及第二通道的一端设置两个后挡板,两个前挡板之间形成用于限制第一通道进入冷却水的限制区,同理两个后挡板形成用于限制冷却后的水由空腔体进入第二通道的限制区,这样就使得空腔体底部的水能够循环,也就不会有“死水”形成,提高了真空镀膜设备的冷却效果,避免了现有冷却装置上设置有进水管和出水管,冷却装置内具有空腔,而进水管及出水管的一端位于空腔一侧,这就使得空腔体上端冷却水能够循环,而空腔下端冷却水就滞留并形成“死水”,达不到所需冷却效果,从而导致冷却效果差的问题。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。

图1是本实用新型的主视图;

图2是本实用新型中上盖体的主视图;

图3是本实用新型中上盖体的左视图;

图4是本实用新型中上盖体的俯视图。

图中:1、本体,101、空腔体,2、立柱,3、第一通道,4、第二通道,5、进水管,6、出水管,7、前挡板,8、后挡板,9、上盖体,10、下座体。

具体实施方式

现在结合附图对本实用新型做进一步详细的说明。这些附图均为简化的示意图,仅以示意方式说明本实用新型的基本结构,因此其仅显示与本实用新型有关的构成。

实施例

如图1-4所示,一种真空镀膜设备用快速散热电弧靶材冷却机构,包括本体1,所述本体1内开设有空腔体101,所述本体1位于空腔体101内的一端设置有立柱2,所述本体1上设置有进水管5和出水管6,所述本体1内开设有第一通道3和第二通道4,所述第一通道3的一端与进水管5的一端连通,所述第一通道3的另一端与空腔体101连通,所述第二通道4的一端与出水管6连通,所述第二通道4的另一端与空腔体101连通,所述立柱2上设置有至少两个前挡板7及两个后挡板8,两个所述前挡板7沿立柱2轴向设置,所述第一通道3的一端位于两个前挡板7之间,两个所述后挡板8沿立柱2轴向设置,所述第二通道4的一端位于两个后挡板8之间。

所述本体1包括上盖体9和下座体10,所述下座体10上表面开设有凹槽,所述立柱2设置在上盖体9上,所述上盖体9设置在下座体10上,所述上盖体9与凹槽之间形成所述空腔体101。

上述真空镀膜设备用快速散热电弧靶材冷却机构在运用时,通过外部装置将冷却水由本体1上上盖体9的进水管5输入,冷却水通过进水管5进入到第一通道3内,再由第一通道3到达两个前挡板7之间的限制区内,并沿前挡板7轴向由空腔体101的一端到达另一端,进行冷却后的水再由空腔体101的另一端到达到达两个后挡板8形成的限制区,并沿两个后挡板8之间的限制区由空腔体101的一端向另一端位移,此时冷却水到达第二通道4的一端,并通过第二通道4到达出水管6,最后冷却水由出水管6排出;

两个前挡板7和两个后挡板8对冷却水起到限制和引导作用,这样就使得空腔体101底部的水能够进行循环,从而水的空腔体101底部就不会形成“死水”的现象。

上述依据本实用新型的理想实施例为启示,通过上述的说明内容,相关工作人员完全可以在不偏离本项实用新型技术思想的范围内,进行多样的变更以及修改。本项实用新型的技术性范围并不局限于说明书上的内容,必须要根据权利要求范围来确定其技术性范围。

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