技术总结
一种电浆镀膜装置。此电浆镀膜装置包含常压电浆产生器以及至少一进料治具。常压电浆产生器包含管状电极以及旋转喷嘴。旋转喷嘴设于管状电极的底部。旋转喷嘴具有电浆喷口以及外侧面，且外侧面的下部的外径由管状电极的底部往电浆喷口的方向渐缩。进料治具设于旋转喷嘴的外侧面的外围。进料治具包含至少一前驱物喷口。进料治具配置以经由前驱物喷口朝旋转喷嘴的外侧面的下部喷射镀膜前驱物。电浆喷口喷出电浆时会在电浆喷口附近形成低压区，镀膜前驱物被低压区吸引而顺着旋转喷嘴的外侧面的下部流至电浆喷口前来与电浆反应。借此，可解决旋转喷嘴及管状电极内部的镀膜原料污染问题，且可提升电浆的稳定度、镀膜作业的效率，进而可提高镀膜品质。
技术研发人员：徐逸明;王立民
受保护的技术使用者：馗鼎奈米科技股份有限公司
技术研发日：2019.01.25
技术公布日：2020.02.28