本发明涉及分划板制造领域，尤其涉及了银层pva胶蚀刻分划板的制备方法。
背景技术：
在分划板的刻线制作中，传统技术中采用机械刻划，在分划板原件上涂保护蜡，机械刻刀把蜡割开形成沟槽，再进行腐蚀。
因此，刻线的制作效果取决于刀具的刻划效果。在用刀具刻划刻线时，刀具固定在丝杠之类的机械上进行刻划，在刻划同一幅图形时，线条具有不同的宽度，而在刻划的过程中无法更换刀具，所以不能刻划出多种线宽的刻线。
制作刻线时，刀刃的宽度决定了刻线的质量，刀刃宽度越窄，刻线越精细。刀刃由于制作工艺水平的限制，最窄也只能达到微米级别。然而分划板的刻线需要更高的精度，现有的机械刻划工艺不能满足要求。
随着技术进步，刻线的图形设计也变得更加复杂，刀具的机械刻划受制于刀具控制设备，难以精准的刻划出复杂刻线和图形，并且由于控制设备的误差而产生偏差，控制设备的精度最高也要达到微米级，无法满足亚微米级的刻线精度。
刀具机械刻划也无法避免线条毛刺、变形的问题；刀具由于磨损、形变，在使用过程中，也会导致线条宽度不可控、精度降低的问题。
而且，由于机械刻划中不确定的因素太多，刻划出的刻线状态取决于刻划中的每一个细节，不具有重复性。
技术实现要素：
本发明提供了银层pva胶蚀刻分划板的制备方法，能够在分划板上精准的制造不同线宽的复杂图形，分划精度等级高，边缘整齐，并且具有重复性。
为达到上述目的，本发明采用如下技术方案：
银层pva胶蚀刻分划板的制备方法，包括：
s1、用氧化铈抛光零件加工表面呈无油状，然后用醇醚混合剂擦净，再将零件用硝酸浸泡15min，取出后在流水下用脱脂棉擦洗，最后浸泡于去离子水中；
s2、将零件在0.5%氯化亚锡水溶液中浸3~4下，然后在流水下用脱脂棉擦洗待镀表面，再浸入镀盘中的镀银液进行镀银；
s3、镀银时晃动镀盘，当镀银液面浮现一层油状物时为止，倒去镀银液，用去离子水清洗零件，循环执行s2~s3十次；
s4、利用离心机排干零件上的积水，将零件置于暗室中，滴上p、v、a感光胶，使感光胶均匀涂布在零件表面，再将零件离心烘干30~60s；
s5、将分划模板蒙在零件表面，在暗室中将蒙着分划模板的零件置于400w镝灯曝光机上曝光5~30s，曝光完成后取下分划模板；
s6、在暗室中将零件放入60℃的热水中显影2min，将显影后的零件置于自来水下冲洗，浸入5%刚果红溶液中浸泡3min，再将零件冲洗烘干；
s7、用铬清洁液溶解零件上的银层，再将零件浸入不断晃动的银腐蚀液中，直至分划线条清晰为止，将零件洗净烘干；
s8、用玻璃腐蚀液沿分划线条涂刷腐蚀玻璃，玻璃腐蚀液呈酸性；
s9、将零件浸入弱碱水中中和，然后将零件冲洗擦干，用硝酸浸泡零件，去除银镀层，再清洗甩干，着色修光后得到制备好的分划板。
进一步的，在s7中，若零件有断线或亮区的银点，用针刮去；若零件有通孔和线边亮斑，用0~1号狼毫笔蘸沥青修补。
进一步的，镀银液由溶液a、溶液b、溶液c各一份混合而成，先将溶液a、溶液b混合，再用溶液c混合。
溶液a包括：2mω去离子水100ml、gr或ar硝酸银1.5g、ar氨水3ml；
溶液b包括：2mω的去离子水100ml、gr或ar氢氧化钾1.5g；
溶液c包括：2mω的去离子水100ml、糖水10ml、0.166%的碘化钾0.3ml；
其中，糖水的制备方法为：
2mω去离子水1000ml、冰糖75g、10%稀硫酸10ml的混合液煮沸15min后，再冷却至室温。
进一步的，p、v、a感光胶的制备方法包括:
制备c液，c液包括:2mω去离子水100ml和聚乙烯醇11g，将聚乙烯醇浸泡于去离子水中12~24h，然后绝对隔水置于水浴中，在电炉上加热20min，待胶液呈透明后自然冷却；
制备d液，d液包括：2mω去离子水50ml、cp重铬酸铵0.75g、cp氨水，氨水加至d液酸碱度为ph=7~8;
在暗室中将d液倒入c液中不断搅拌混合，得到混合液；
用去离子稀释混合液，细线条分划采用去离子水150ml、混合液100ml，粗线条分划采用去离子水100ml、混合液100ml，得到稀释液；
将配置好的稀释液放置1~2天后，用两层中速定性滤纸过滤，得到p、v、a感光胶。
进一步的，银腐蚀液包括：ar无水乙醇100ml、ar硝酸铁20g。
进一步的，玻璃腐蚀液包括：cp磷酸100ml、cp氢氟酸25~30ml。
进一步的，沥青包括：新疆乌尔禾沥青20g、二甲苯20ml、松节油10ml。
本发明的有益效果是：
本发明采用光化学曝光的方法，配合预先制作的高精度分划模板，将刻线图形精准留在分划板表面，彻底摒弃了机械刻划方法，避免了机械刻划所导致的精度低、误差大、刻线不可控、工艺流程繁复的缺点；在显影过程中，仅需要水就可以冲洗掉感光胶，无需化学试剂，工艺简单无污染；高精度分划模板使得刻线达到了亚微米精度，并且具有良好的重复性；综上，本发明制作的分划板刻线精度高、图形准确，并且流程简单、环保。
具体实施方式
为使本领域技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合具体实施方式对本发明作进一步详细描述。
本发明实施例提供了银层pva胶蚀刻分划板的制备方法，包括：
一、光学零件准备
用脱脂棉蘸氧化铈抛光零件加工表面呈无油状，然后用醇醚混合剂擦净，再将零件用硝酸浸泡15min，取出后在流水下用脱脂棉擦洗，最后浸泡于去离子水中。
二、化学镀银
将零件在0.5%氯化亚锡水溶液中浸3~4下，然后在流水下用脱脂棉擦洗待镀表面，再浸入盛有去离子水的镀盘中，取适量镀银液导入镀盘，液面高于零件表面。
镀银时晃动镀盘，当镀银液浑浊，即镀银液面浮现一层油状物时为止，时间约5min，反应温度控制在18~22℃。倒去镀银液，将零件放在自来水下冲洗，再用去离子水清洗。倒去镀银液后，换第二次镀银液，如此反复镀制10次。镀第二次后，用脱脂棉轻轻拖洗银面，以便于将沉于银层表面的残余附着物洗净。镀第一次时，也可适当镀薄，时间约3~4min，使得银层细腻。
镀好的零件，经初步检查针孔和粗糙度后，浸泡于去离子水中，加盖待用。
其中，镀银液由溶液a、溶液b、溶液c各一份混合而成，先将溶液a、溶液b混合，再用溶液c混合。
溶液a包括：2mω去离子水100ml、gr或ar硝酸银1.5g、ar氨水3ml；
溶液b包括：2mω的去离子水100ml、gr或ar氢氧化钾1.5g；
溶液c包括：2mω的去离子水100ml、糖水10ml、0.166%的碘化钾0.3ml；
糖水的制备方法为：
2mω去离子水1000ml、冰糖75g、10%稀硫酸10ml的混合液煮沸15min后，再冷却至室温。
三、涂布感光胶
从水中取出零件，放在流水中用脱脂棉轻轻在零件表面上来回拖几下，然后利用离心机排干零件上的积水。将零件置于暗室中，滴上p、v、a感光胶，使感光胶均匀涂布在零件表面，排除胶液气泡赃物后，打开离心机，同事打开反射式电热器加温，离心烘干30~60s。
p、v、a感光胶的制备方法包括:
制备c液，c液包括:2mω去离子水100ml和聚乙烯醇11g，将聚乙烯醇（平均聚合度：2450，水解率98.8%）浸泡于去离子水中12~24h，然后绝对隔水置于水浴中，以免直接接触电炉，使胶液温度升高到100℃以上，聚乙烯醇被分解破坏，胶液在电炉上加热20min，待胶液呈透明后自然冷却；
制备d液，d液包括：2mω去离子水50ml、cp重铬酸铵0.75g、cp氨水，氨水加至d液酸碱度为ph=7~8;
在暗室中将d液倒入c液中不断搅拌混合，得到混合液；
用去离子稀释混合液，细线条分划采用去离子水150ml、混合液100ml，粗线条分划采用去离子水100ml、混合液100ml，得到稀释液；
将配置好的稀释液放置1~2天后，用两层中速定性滤纸过滤，得到所述p、v、a感光胶。
四、曝光
将分划模板蒙在零件表面，在暗室中将蒙着分划模板的零件置于400w镝灯曝光机上曝光5~30s，曝光机必须采用稳压电源，曝光完成后取下分划模板。
五、显影着色
在暗室中将零件放入60℃的热水中显影，此时没有曝光的部分，聚乙烯醇便在水中膨胀，直至溶解，大约2min取出零件，将显影后的零件置于自来水下冲洗，浸入5%刚果红溶液中浸泡3min，再将零件冲洗烘干。
六、腐蚀银层
在显微镜下检查线条质量，合格零件用脱脂棉蘸清洁液溶解零件上的银层，并用棉球擦拭干净，再将零件浸入不断晃动的银腐蚀液中，直至分划线条清晰为止，将零件洗净烘干。
银腐蚀液包括：ar无水乙醇100ml、ar硝酸铁20g。
七、检查和修饰
将零件放到测量显微镜上检测分划定位中心和线宽，以及分划疵病和通孔点。断线或亮区的银点，用针刮去；通孔和线边亮斑，用0~1号狼嚎笔蘸沥青修补。粗补好的零件，再用蜂蜡将分划以外的区域封补，然后放在显微镜下检查。沥青包括：新疆乌尔禾沥青20g、二甲苯20ml、松节油10ml。
八、腐蚀玻璃
用玻璃腐蚀液沿分划线条涂刷腐蚀玻璃，玻璃腐蚀液呈酸性。玻璃腐蚀液包括：cp磷酸100ml、cp氢氟酸25~30ml。
九、去除银层，自检
将零件浸入弱碱水中中和，然后将零件冲洗擦干。将零件置于汽油中洗去沥青和蜡层，再用醇醚混合剂擦净。用硝酸浸泡零件，去除银镀层，再清洗甩干，着色修光后得到制备好的分划板。
本发明的有益效果是：
本发明采用光化学曝光的方法，配合预先制作的高精度分划模板，将刻线图形精准留在分划板表面，彻底摒弃了机械刻划方法，避免了机械刻划所导致的精度低、误差大、刻线不可控、工艺流程繁复的缺点；
在显影过程中，仅需要水就可以冲洗掉感光胶，无需化学试剂，工艺简单无污染；
高精度分划模板使得刻线达到了亚微米精度，并且具有良好的重复性；
本发明能还能适用于制作异形表面，不仅仅适用于平面分划板，只要能在异形表面均匀镀银层、涂抹曝光胶，就能顺利制作刻线，具有广泛的普适性；
综上，本发明制作的分划板刻线精度高、图形准确，并且流程简单、环保。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应该以权利要求的保护范围为准。