技术特征：
1.一种pet基底功能膜表面镀膜装置，其特征在于，包括：喷头（100），所述喷头（100）与pet基材膜（200）间隔形成封装区（300）；所述喷头（100）包括：喷头体，气体闭锁循环系统，所述的气体闭锁循环系统设置在喷头体内部，其包括用于运输工作气体的回气系统和进气系统；封装工作面（105），所述的封装工作面（105）设置在喷头体表面，且封装工作面（105）与pet基材膜（200）表面相对设置；所述的封装工作面（105）具有多个沿线性排布的排气孔（1052），排气孔（1052）与所述进气系统连接用于将携带反应物分子的工作气体射流在所述封装区（300）内形成均匀的气体薄层，并在pet基材膜（200）表面上形成封装层（400）；及气体回收槽（1055），气体回收槽（1055）设置在封装工作面（105）上，且气体回收槽（1055）的末端与回气系统连接用于回收反应后的气体；用于驱动pet基材膜（200）移动的输送装置，所述的pet基材膜（200）在输送装置牵引力作用下水平运动或往复运动。2.根据权利要求1所述的pet基底功能膜表面镀膜装置，其特征在于，所述的排气孔（1052）包括：先导气排气孔（1052a）；先导气排气孔（1052a）与一路进气管道连接用于提供由反应物分子和工作气体组成的反应气体；先导气排气孔（1052a）至少两列；所述气体回收槽（1055）设置在每列先导气排气孔（1052a）周围；缓冲排气孔（1052b），缓冲排气孔（1052b）与第二路进气管道连接用于喷出工作气体以间隔两列先导气排气孔（1052a）的反应气体；及气体隔离排气孔（1052c），气体隔离排气孔（1052c）与第三路进气管道连接用于喷出工作气体将先导气排气孔（1052a）与外部区域隔离。3.根据权利要求2所述的pet基底功能膜表面镀膜装置，其特征在于，所述的封装工作面（105）上包括：至少两个先导气工作区（1054），所述气体回收槽（1055）设置在先导气工作区（1054）周围凹槽；先导气工作区（1054）上的排气孔为先导气排气孔（1052a），先导气排气孔（1052a）的喷射方向与pet基材膜（200）的输送方向垂直，用于提供由反应物分子和工作气体组成的与pet基材膜表/界面的物理化学反应的反应气体；缓冲区（1053），缓冲区（1053）设置在相邻两个先导气工作区（1054）之间，缓冲区（1053）上的排气孔为缓冲排气孔（1052b），缓冲排气孔（1052b）用于提供间隔两个先导气工作区（1054）反应气体的工作气体；气体隔离面（1051），气体隔离面（1051）沿封装工作面（105）的边缘设置，气体隔离面（1051）上的排气孔为气体隔离排气孔（1052c），气体隔离排气孔（1052c）用于将封装工作面（105）与外部区域隔离。4.根据权利要求1-3任一项所述的pet基底功能膜表面镀膜装置，其特征在于，每个排气孔（1052）的出口周围均设置有排气缓冲凹面（1052d）；排气缓冲凹面（1052d）的凹形面的开口直径满足公式(p/2p0)≤d/h，式中的p为喷头设计工作气压，p0为标准气压，d为凹形面的开口直径，h为排气孔与流体控制面基准面距离，流体控制面为封装工作面与气体隔离共
同的物理平面。5.根据权利要求1-4任一项所述的pet基底功能膜表面镀膜装置，其特征在于，所述的排气孔（1052）在对应的区域上排布满足：相邻的排气孔（1052）沿直线排布或者相邻的排气孔（1052）交错排布；其中排气孔沿直线分布时，排气孔直径、排气孔分布的总长度与排气孔之间的距离满足关系式：(p1/p0)(d/h1)≤l/d1；其中，p1为封装区内的气体压力，p0为标准气压，d为排气孔直径，h1为封装工作面与pet基材膜的距离，l为排气孔分布的总长度，d1为排气孔之间的距离；排气孔交错排列时，数目与沿直线分布时相同，交错距离≈(w-8)/3，其中w为排气孔所在分布区域宽度。6.根据权利要求5所述的pet基底功能膜表面镀膜装置，其特征在于，相邻的排气孔（1052）之间通过设置导气槽（1056）串联，两个排气孔（1052）之间的导气槽（1056）呈扩张型布置；相邻的排气孔（1052）之间设置一个或两个导气槽（1056），两个导气槽（1056）以排气孔（1052）的连接线对称；所述导气槽（1056）呈圆弧型或由弧线型拼接而成；弧线型导气槽拼接处通过直接交叉点（1056a）连通；弧线的最大弧度位于排气孔（1052）处，且最大弧度大于连接两个排气孔（1052）的圆周弧度。7.根据权利要求1-6任一项所述的pet基底功能膜表面镀膜装置，其特征在于，所述的回气系统包括：回气管道（1059），回气管道（1059）设置在喷头体内部；及回气衔接管道（1057a），回气衔接管道（1057a）一端连通回气管道（1059），回气管道（1059）另一端连通气体回收槽（1055）；所述的进气系统包括：进气管道（1058），进气管道（1058）设置在喷头体内部；及衔接管道（1057），衔接管道（1057）与进气管道（1058）连通，每个衔接管道（1057）连接一个排气孔（1052）；进气管道（1058）连接处设置有一个微型调节腔（1058-1），该微型调节腔（1058-1）为锥形圆筒状部件；微型调节腔（1058-1）的设计要求为arctan(d
0-d3)/2l<arctan(200/r
e
)，其中d0为进气管道内直径，d3为主气路系统管道内直径，l为微型调节腔的长度，r
e
为喷头进气管道输入气体雷诺数。8.根据权利要求1至7任意一项所述的pet基底功能膜表面镀膜装置，其特征在于，所述的喷头体的顶面或底面为所述的封装工作面（105）；所述的喷头（100）与pet基材膜（200）输送方向垂直的端面为衔接面（104），衔接面（104）用于多个喷头之间依次串联连接；所述的喷头（100）与封装工作面（105）相对的面为复合功能面（101）；所述的复合功能面（101）包括用于提供热源的绝热模块（1013）、用于提高机械强度的稳定组件（1012）和用于材料表面前处理的等离子产生部件（1011）；所述的喷头（100）的侧面为电/气/机械控制面（102）；所述的电/气/机械控制面（102）分为进气面和排气面，进气面包括进气通路接口（1058d）、第一加热模块仓和第一工艺参数读取及控制接口；排气面包括回气通路接口（1059a）、第二加热模块仓和第二工艺参数读取及控制接口，第一加热模块仓和第二加热模块仓连通，第一工艺参数读取及控制接口和第
二工艺参数读取及控制接口连通；进气通路接口（1058d）与进气系统连接，回气通路接口（1059a）与回气系统连接。9.根据权利要求1至8任意一项所述的pet基底功能膜表面镀膜装置，其特征在于，所述的喷头（100）根据反应流体的种类设置多组，每组喷头包括两个喷头（100），两个喷头（100）对称设置在pet基材膜（200）上方和下方，所述的每组喷头以对pet基材膜进行双面处理，而且每组喷头喷出的均匀气体薄层使得pet基材膜（200）上下表面均保持平整；其中处在pet基材膜（200）下方的多组喷头设置在一个喷头支撑平台（600）或者同一基准的多个喷头支撑平台（600）上；所述的pet基材膜（200）上方的喷头通过喷头间距调节装置（500）与下方喷头连接；组喷头沿pet基材膜（200）的方向并排布置，相邻两组喷头之间通过柔性连接件连接。10.根据权利要求9所述的pet基底功能膜表面镀膜装置，其特征在于，所述的喷头间距调节装置（500）包括调节丝杠（501）、调节垫片（502）、喷头连接片（503）和调节驱动器件（504），每个喷头设置有多个喷头连接片（503），上下两个喷头的对应连接片（503）通过调节丝杠（501）连接，调节丝杠（501）上设置有调节驱动器件（504）；调节垫片（502）设置在上下两个喷头之间；所述的pet基材膜（200）下方的多个喷头依靠喷头支撑平台（600）平面度以及喷头形状形成下反应平面（602），pet基材膜（200）上方的多个喷头依靠支撑件以及喷头形状形成上反应平面（601）；所述的封装工作面（105）沿pet基材膜（200）运动方向形成斜角，倾斜弧度为0.008。