技术总结
本发明涉及一种铜锆铝三元非晶合金薄膜及其制备方法；其包括的成分及该成分的原子百分比含量分别为：10.0～23.0at.％Al，33.0～38.0at.％Zr，以及余量的Cu。其制备方法包含：制备单一合金靶材；选择衬底材料，将衬底表面进行平整化，然后清洗并吹干待用；进行磁控溅射制备，其中，真空度值不低于5×10‑4Pa，靶基距为60mm，溅射时间为30min。与现有技术相比，本发明中Cu基非晶合金薄膜不仅体现了良好的玻璃形成能力，同时具有很高的硬度、杨氏模量和优异的耐腐蚀等特性，且其制备方法的工艺可操作性强，制造成本低，对于目前薄膜的应用发展前景有重要应用及意义。
技术研发人员：魏先顺;应承希;严彪
受保护的技术使用者：同济大学
技术研发日：2019.10.31
技术公布日：2020.02.28