一种掩膜版的制作方法

本发明实施例涉及掩膜版技术，尤其涉及一种掩膜版。

背景技术：

随着显示技术的进步，显示面板的应用领域也越来越广泛，相应的对显示面板种类的需求也越来越多。

显示面板显示区具有不同显示效果，如挖孔屏，已成为一种新的发展趋势，然而，现有的挖孔屏制作难度较大，且显示效果不佳。

技术实现要素：

本发明提供一种掩膜版，利用支撑部有效实现了对离岸设计的遮挡部的稳固支撑，保证显示面板上像素单元对应的区域能够蒸镀上相应的膜层结构，提高了显示面板的显示效果。

本发明实施例提供了一种掩膜版，包括边框以及所述边框环绕的开口；遮挡部以及固定支撑所述遮挡部的支撑部，所述遮挡部位于所述开口内，所述支撑部呈网格状且所述支撑部对应待蒸镀基板上相邻像素单元之间的区域设置。保证显示面板上像素单元对应的区域能够蒸镀上膜层结构(如阴极层)，以保证显示面板正常显示。

可选地，所述支撑部占据部分所述开口设置。显示面板上不同的区域可能需要蒸镀不同的材料，如网格状支撑部对应的区域蒸镀阴极层时，蒸镀导电性较好的材料。

可选地，所述网格状的所述支撑部形成多个镂空区，所述镂空区对应至少一个所述像素单元设置。可减少支撑部所占用的面积，以在显示面板上尽可能多的区域蒸镀上膜层结构。

可选地，所述支撑部与所述遮挡部一体形成，或者所述支撑部焊接于所述遮挡部上。

可选地，沿垂直于所述掩膜版的方向，所述支撑部包括靠近待蒸镀基板的第一部分和远离所述待蒸镀基板的第二部分，所述第二部分的垂直投影覆盖所述第一部分的垂直投影，所述第一部分平行于所述掩膜版的横截面积沿靠近所述待蒸镀基板的方向逐渐减小。能够使得显示面板上对应于支撑部的区域蒸镀上膜层结构，且显示面板上对应于遮挡部的区域无法蒸镀上膜层结构，简单高效地制作出具有不同显示效果的显示面板。

可选地，沿垂直于所述掩膜版的方向，所述第二部分平行于所述掩膜版的横截面积沿远离所述待蒸镀基板的方向逐渐减小。可保证显示面板上靠近对应于支撑部区域的区域蒸镀上较多的膜层结构，避免显示面板各个部分的膜层厚度不均匀，进一步提高显示效果。

可选地，所述遮挡部靠近所述待蒸镀基板的表面设置有至少一个第一凹槽，和/或，所述遮挡部远离所述待蒸镀基板的表面设置有至少一个第一凹槽。能够减轻遮挡部的重量，避免遮挡部过重而导致遮挡部下垂量过大，保证显示面板上对应于遮挡部的区域不会蒸镀上膜层结构。

可选地，所述遮挡部包括中间区和环绕所述中间区的边缘区，所述第一凹槽位于所述中间区。可保证遮挡部的边缘较厚，避免蒸镀时一部分蒸镀材料从斜向蒸镀至显示面板上对应于遮挡部的区域，提高显示面板的良率。

可选地，所述支撑部靠近所述待蒸镀基板的表面设置有至少一个第二凹槽，和/或，所述支撑部远离所述待蒸镀基板的表面设置有至少一个第二凹槽。能够减轻支撑部的重量，避免由于支撑部重量过大而导致支撑部下垂，进而导致遮挡部下垂过多的现象，进一步保证显示面板上对应于遮挡部的区域不会蒸镀上膜层结构。

可选地，所述支撑部靠近所述待蒸镀基板的表面设置有至少一个第二凹槽，所述第二凹槽内设置有多个凸起结构；优选地，沿垂直于所述掩膜版的方向所述凸起结构的高度相同；优选地，所述多个凸起结构均匀分布。在蒸镀时，凸起结构可避免掩膜版完全贴附于待蒸镀基板上，蒸镀材料可蒸镀到凸起结构之间的缝隙里，进而保证显示面板上对应于支撑部的区域能够蒸镀上膜层结构；且能够使得支撑部重量分布更为均匀，保证支撑部的延伸方向平行于待蒸镀基板，进而保证遮挡部不会发生倾斜，进一步保证显示面板上对应于遮挡部的区域不会蒸镀上膜层结构。

本实施例采用的掩膜版包括边框以及边框环绕的开口；遮挡部以及固定支撑遮挡部的支撑部，遮挡部位于开口内，支撑部呈网格状且支撑部对应待蒸镀基板上相邻像素单元之间的区域设置。利用支撑部有效实现了对离岸设计的遮挡部的稳固支撑，且在蒸镀显示面板上的膜层结构，如阴极层时，可保证显示面板上的像素单元对应的区域不被支撑部所遮挡，也即像素单元对应的区域能够蒸镀上相应的膜层结构，保证像素单元能够正常发光显示，避免显示面板上与像素单元对应的位置处无法蒸镀上膜层结构，而导致显示面板显示质量较差的问题。

附图说明

图1为本发明实施例提供的一种掩膜版的结构示意图；

图2为通过本发明实施例提供的掩膜版所制作的显示面板结构示意图；

图3为图1沿a1a2方向的剖面图；

图4为本发明实施例提供的一种蒸镀过程示意图；

图5为图1沿a1a2方向的又一种剖面图；

图6为本发明实施例提供的又一种蒸镀过程示意图；

图7为图1沿a1a2方向的又一种剖面图；

图8为图1沿a3a4方向的一种剖面图；

图9为图1沿a1a2方向的又一种剖面图；

图10为图1沿a1a2方向的又一种剖面图；

图11为本发明实施例提供的支撑部沿垂直于支撑部延伸方向的方向的一种视图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。

正如背景技术中提到的现有的挖孔屏存在制作难度大，且显示效果不佳的问题，发明人经过仔细研究发现，产生此技术问题的原因在于：现有的挖孔屏生产过程是先蒸镀一整层的膜层结构，然后在需要挖孔的区域进行激光打孔以制备出挖孔屏。然而，激光打孔的难度较大，且较易损伤显示面板的整体膜层结构，导致显示面板的显示质量不佳。

基于上述技术问题，本发明提出如下解决方案：

图1为本发明实施例提供的一种掩膜版的结构示意图，参考图1，掩膜版包括边框101以及边框101环绕的开口102；遮挡部103以及固定支撑遮挡部103的支撑部104，遮挡部103位于开口内，支撑部104呈网格状且支撑部104对应待蒸镀基板上相邻像素单元之间的区域设置。

具体地，掩膜版可以用来制作显示面板，一张掩膜版上可包括多个开口102，图1中仅示例性的示出了一个开口102，每个开口102均可对应于一个显示面板，设置于开口102内的遮挡部103用于在蒸镀显示面板的膜层(如阴极层或封装层)时，避免将蒸镀材料蒸镀到显示面板上无需形成该材料相应膜层的区域，例如区别于其它显示区域不同的特定区域(如挖孔区域)，避免了先制作一整层完整的膜层，再进行激光打孔导致的膜层损坏，进而影响显示面板的显示质量的问题。如图2所示，图2为通过本发明实施例提供的掩膜版所制作的显示面板结构示意图，显示面板201上包括多个像素单元202，多个像素单元202之间具有间隔区域203，支撑部104对应于间隔区域203设置，即支撑部104的每一部分均对应于间隔区域203的一部分区域，这样设置，在蒸镀显示面板上的膜层结构时，可保证显示面板上的像素单元202对应的区域不被支撑部104遮挡，也即能够蒸镀上相应的膜层结构(如阴极层)，进而保证像素单元202能够正常发光显示，避免显示面板201上与像素单元202对应的位置处无法蒸镀上膜层结构，而导致显示面板201显示质量较差的问题。

本实施例的技术方案，采用的掩膜版包括边框以及边框环绕的开口；遮挡部以及固定支撑遮挡部的支撑部，遮挡部位于开口内，支撑部呈网格状且支撑部对应待蒸镀基板上相邻像素单元之间的区域设置。在蒸镀显示面板上的膜层结构，如阴极层时，可保证显示面板上的像素单元对应的区域不被支撑部所遮挡，也即像素单元对应的区域能够蒸镀上膜层结构，保证像素单元能够正常发光显示，避免显示面板上与像素单元对应的位置处无法蒸镀上膜层结构，而导致显示面板显示质量较差的问题。

可选地，如图1所示，网格状的支撑部104占据部分开口102设置。

具体地，开口201内除网格状的支撑部104所占据的区域以外的区域，可根据需要做完全遮挡处理，显示面板上网格状的支撑部104所占据的区域可能需要与其他区域蒸镀不同的材料，如制作阴极层时，对应与支撑部104所占据的区域可能需要导电性较好的材料，此时可设置开口102的其他区域被完全遮挡，蒸镀时只在支撑部104对应的区域蒸镀阴极层。也可设置网格状的支撑部104占据全部开口102，此时支撑部104的提供的支撑力较大，能够支撑遮挡部103，避免遮挡部103下垂量过大，进而导致显示面板上对应于遮挡部103的区域蒸镀上膜层结构，降低显示面板良率的问题。

可选地，继续参考图1，网格状的支撑部104形成多个镂空区105，镂空区105对应至少一个像素单元设置。

这样设置，可保证支撑部104对应于待蒸镀基板上相邻像素单元之间的区域设置，另外，可设置镂空区105对应多个像素单元设置，此时镂空区105所占的比例较大，也即形成支撑部104的横纵交错的条状结构所占的比例较小，一方面可以减少形成支撑部104的材料的使用量，另一方面减少条状结构遮挡的区域，使得蒸镀时(如蒸镀阴极层时)能够将蒸镀材料蒸镀到显示面板上除对应于遮挡部103以外的尽可能多的区域，使得显示面板的显示更为均匀。

可选地，支撑部与遮挡部一体形成，或者支撑部焊接于遮挡部上。

具体地，支撑部与遮挡部一体形成，例如，可通过刻蚀fmm制作工艺或者激光mask工艺制作，可节省一道制作工序，降低工艺成本。而将支撑部焊接于遮挡部上，可先制作出支撑部，然后将单独制作的遮挡部与支撑部进行焊接，可根据需要选择遮挡部与支撑部的相对位置，从而提高掩膜版设计的灵活性。

可选地，图3为图1沿a1a2方向的剖面图，参考图1和图3，支撑部104包括靠近待蒸镀基板的第一部分1041和远离待蒸镀基板的第二部分1042，第二部分1042的垂直投影覆盖第一部分1041的垂直投影，第一部分1041平行于掩膜版的横截面积沿靠近待蒸镀基板的方向逐渐减小。

具体地，第一部分1041平行于掩膜版的横截面积沿靠近待蒸镀基板的方向逐渐减小可理解为第一部分1041剖面的宽度逐渐减小，图3示例性地示出了支撑部104的左右侧呈对称结构，在其他实施方式中，也可只设置支撑部104为非对称结构。图4为本发明实施例提供的一种蒸镀过程示意图，结合图3和图4，在利用掩膜版蒸镀显示面板的膜层时，待蒸镀基板301设置于掩膜版的上方，待蒸镀基板301上包括被支撑部104遮挡的遮挡区3011和未遮挡区3012，例如利用本发明实施例提供的掩膜版进行显示面板中阴极层的蒸镀，仅挖孔区，即待蒸镀基板上对应遮挡部103的区域需利用遮挡部103以避免该区域形成阴极材料，其余区域均需形成阴极材料，即遮挡区3011和未遮挡区3012上均需要蒸镀上相应的膜层结构，蒸镀时由下至上蒸镀材料至待蒸镀基板301上，由于第一部分1041平行于掩膜版的横截面积沿靠近待蒸镀基板的方向逐渐减小，除可使未遮挡区3012通过垂直方向蒸镀上膜层结构外，还可使得遮挡区3011通过斜向蒸镀上膜层结构，从而避免显示面板上与支撑部104对应的位置处未蒸镀上材料，影响显示面板显示效果的问题。

需要说明的是，上述连接部104的第一部分1041和第二部分1042沿垂直于掩膜版的方向之间的界限本发明实施例没有具体的限定，确保第一部分1041平行于掩膜版的横截面积沿靠近待蒸镀基板的方向逐渐减小即可。

可选地，图5为图1沿a1a2方向的又一种剖面图，参考图5，沿垂直于掩膜版的方向，第二部分1042平行于掩膜版的横截面积沿远离待蒸镀基板的方向逐渐减小。

具体地，图6为本发明实施例提供的又一种蒸镀过程示意图，结合图5和图6，遮挡区3011和未遮挡区3012上均需要蒸镀上膜层结构，蒸镀时由下至上蒸镀材料至待蒸镀基板301上，未遮挡区3012上远离遮挡区3011的区域既能够通过垂直方向蒸镀上膜层结构，还能够通过斜向蒸镀上一部分膜层结构，而靠近遮挡区3011的区域由于受到支撑部104的遮挡，只能通过垂直方向蒸镀上膜层结构，也即相对而言，未遮挡区3012靠近遮挡区3011区域的膜层厚度可能会小于远离遮挡区3011区域的膜层厚度，进而造成显示面板膜层厚度不均，影响显示效果。通过设置沿垂直于掩膜版的方向，第二部分1042平行于掩膜版的横截面积沿远离待蒸镀基板的方向逐渐减小，第二部分1042对蒸镀材料从连接部104对应的区域斜向蒸镀到未遮挡区2012靠近遮挡区2011的区域的遮挡较少，可使得未遮挡区3012靠近遮挡区3011的区域通过斜向的方式蒸镀上一定的膜层结构，减小与远离遮挡区3011的区域膜层结构厚度的差异，从而提高显示面板上膜层厚度的均一性，进而提高显示的均一性，进一步提高显示效果。

需要说明的是，图3和图5所示的剖面图只是一种示例，在其他实施方式中，也可为其它形状，优选的，第一部分平行于掩膜版的横截面积沿靠近待蒸镀基板的方向可呈非线性减小，第二部分平行于掩膜版的横截面积沿远离待蒸镀基板的方向可呈非线性减小，示例性地，图7为图1沿a1a2方向的又一种剖面图，如图7所示，第一部分1041和第二部分1042的侧边均可为弧形结构，从而降低支撑部的制作难度，节约制作成本。

可选地，图8为图1沿a3a4方向的一种剖面图，结合图1和图8，遮挡部103靠近待蒸镀基板的表面设置有至少一个第一凹槽，和/或，遮挡部103远离待蒸镀基板的表面设置有至少一个第一凹槽，图7示例性地设置仅遮挡部103靠近待蒸镀基板的表面设置有一个第一凹槽1031，即遮挡部103的上表面设置有一个第一凹槽1031，本发明实施例对遮挡部103的某一个表面上设置第一凹槽1031的数量以及遮挡部103设置有第一凹槽1031的表面的数量不作具体限定。

具体地，遮挡部103对应于显示面板上需要挖孔的区域，该部分区域不需要蒸镀形成对应的膜层结构(如阴极层或薄膜封装层)，若遮挡部103重量太重，遮挡部103自身的重力导致其容易形变，使得显示面板上对应于遮挡部103的部分区域可能蒸镀上膜层结构，影响显示面板上对应遮挡部103区域的膜层结构，降低显示面板的良率。另外，遮挡部103重量过大容易导致支撑遮挡部103的连接部104发生形变，影响显示面板上对应连接部104区域的蒸镀效果。本发明实施例通过设置遮挡部103靠近待蒸镀基板的表面设置有至少一个第一凹槽，和/或，遮挡部103远离待蒸镀基板的表面设置有至少一个第一凹槽，降低遮挡部103的重量，降低了遮挡部103以及连接部104发生形变的概率，优化了显示面板上对应遮挡部103和连接部104区域的蒸镀效果，进而优化了显示面板的显示效果。

可选地，继续参考图8，遮挡部103包括中间区1032和环绕中间区1032的边缘区1033，第一凹槽1031位于中间区1032。

具体地，遮挡部103的形状可为圆形，边缘区1033可为圆环状，若边缘区1033的厚度过薄，在蒸镀时将会有过多的蒸镀材料通过斜向的方式到达显示面板上对应于遮挡部的位置，使得无需形成相应膜层的显示面板上对应遮挡部设置的区域形成相应的膜层材料，降低显示面板的良率。本发明实施例将第一凹槽1031设置于中间区1032内，使得边缘区1033的厚度高于中间区1032的厚度，边缘区1033的厚度不会太薄，降低了蒸镀时蒸镀材料通过斜向的方式蒸镀到显示面板上对应于遮挡部的区域的概率，进一步提高显示面板的良率。

可选地，图9为图1沿a1a2方向的又一种剖面图，参考图9，支撑部104靠近待蒸镀基板的表面设置有至少一个第二凹槽，和/或，支撑部104远离待蒸镀基板的表面设置有至少一个第二凹槽。图8示例性地设置仅连接部104靠近待蒸镀基板的表面设置有一个第二凹槽1043，即连接部104的上表面设置有一个第二凹槽1043，本发明实施例对连接部104的某一个表面上设置第二凹槽1043的数量以及连接部104设置有第二凹槽1043的表面的数量不作具体限定。

具体地，若连接部104重量太重，连接部104自身的重力导致其容易形变，影响显示面板上对应连接部104区域的膜层结构，降低显示面板的良率。另外，连接部104起到对遮挡部103固定支撑的作用，连接部104形变使得连接部104对遮挡部103的支撑能力下降，且连接部104的形变可能导致遮挡部103位置的变化，影响显示面板上对应遮挡部103区域的蒸镀效果。本发明实施例通过设置连接部104靠近待蒸镀基板的表面设置有至少一个第二凹槽，和/或，连接部104远离待蒸镀基板的表面设置有至少一个第二凹槽，降低了连接部104的重量，降低了连接部104发生形变的概率，优化了显示面板上对应遮挡部103和连接部104区域的蒸镀效果，进而优化了显示面板的显示效果。

可选地，图10为图1沿a1a2方向的又一种剖面图，参考图10，支撑部104靠近待蒸镀基板的表面设置有至少一个第二凹槽1043，第二凹槽1043内设置有多个凸起结构1044。

具体地，在蒸镀显示面板时，需要在待蒸镀基板远离掩膜版的一侧设置磁性材料，以吸附掩膜版避免掩膜版下垂，然而，磁性材料可能会将掩膜版吸附到待蒸镀基板上，从而使得支撑部104与待蒸镀基板之间不存在间隙，在蒸镀时无法将蒸镀材料蒸镀到显示面板上对应于支撑部104的位置，从而造成膜层厚度不均匀，影响显示效果。通过设置多个凸起结构1044，当支撑部104因为受到吸引而贴附在待蒸镀基板的表面上时，凸起结构1044可支撑支撑部104，避免支撑部104完全贴附在待蒸镀基板的表面，多个凸起结构1044的缝隙对应的显示面板的区域内可蒸镀上膜层结构，避免显示面板对应于支撑部的区域无法蒸镀上膜层结构而导致显示不均的现象，提升显示效果。

需要说明的是，如图10所示，多个凸起结构1044可沿垂直于支撑部延伸方向的方向排列，也可如图11所示，图11为本发明实施例提供的支撑部沿垂直于支撑部延伸方向的方向的一种视图，多个凸起结构1044可沿支撑部103的延伸方向排列，或者也可以设置多个凸起结构1044既沿垂直于连接部延伸方向的方向排列，又沿连接部103的延伸方向排列。示例性地，多个凸起结构1044可以点阵式排列，即每个凸起结构1044均为孤立的岛状结构，例如图10中可以设置凸起结构1044为梯形台状结构，即可以设置凸起结构1044的上表面和下表面的形状均为圆形，凸起结构1044靠近待蒸镀基板的一面可与待蒸镀基板平行，当支撑部104贴附在待蒸镀基板的表面上时，凸起结构1044可支撑支撑部104，避免支撑部104完全贴附在待蒸镀基板的表面。另外，图10仅示例性地设置凸起结构1044的截面为正梯形，也可以设置凸起结构1044的截面为矩形或者倒梯形，本发明实施例对凸起结构1044的截面的形状不作具体限定，确保凸起结构1044面向待蒸镀基板的一侧具有支撑平台即可。

优选地，继续参考图10和图11，可以设置沿垂直于掩膜版的方向，凸起结构1044的高度相同；优选地，多个凸起结构1044均匀分布。

具体地，多个凸起结构1044的高度相同，可使得当掩膜版贴附于待蒸镀基板上时，各个凸起结构1044支撑住掩膜版，且支撑的高度相同，保证支撑部104的延伸方向平行于待蒸镀基板，进而保证遮挡部103也平行于待蒸镀基板，避免遮挡部103发生倾斜而使得显示面板上对应于遮挡部103的区域蒸镀上膜层结构。同时，可设置多个凸起结构1044均匀分布，凸起结构1044均匀地布置于第二凹槽内，可使得支撑部104重量分布更为均匀，避免支撑部104某一部分重量过大而导致该部分下垂量过大，进而导致遮挡部103倾斜的现象，进一步避免显示面板上对应于遮挡部103的区域蒸镀上膜层结构。

注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。