一种直流磁控溅射制备耐腐蚀纯钛薄膜的方法与流程

文档序号:20267066发布日期:2020-04-03 18:31阅读:来源:国知局
技术总结
本发明公开一种直流磁控溅射制备耐腐蚀纯钛薄膜的方法,包括基底表面处理、基底放置镀膜腔室、反向沉积清理基底表面、溅射镀膜以及取出镀膜基底制得成品等步骤,可针对阀门、反应釜等产品,采用合理的表面处理、工装固定及溅射镀膜工艺,在其表面上负载纯钛薄膜,使其满足质量和耐腐蚀要求,且工艺流程简单、效率高,过程可控,无环境污染,易于实现工业化生产。

技术研发人员:吴晓飞;杨学东;蒋鹏
受保护的技术使用者:中国船舶重工集团公司第七二五研究所
技术研发日:2019.11.12
技术公布日:2020.04.03

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