微型雕塑的铸造方法与流程

文档序号:20035378发布日期:2020-02-28 11:04阅读:559来源:国知局
微型雕塑的铸造方法与流程

【技术领域】

本发明属于雕塑工艺技术领域,具体涉及一种微型雕塑的铸造方法。



背景技术:

随着人们生活水平的提高,经表面着色处理后的各类古色古香的小微型铸造艺术品深受人们青睐,例如:人像、佛像、动物像、灯饰品等,需求量日益增多。微型雕塑的面像大小一般为0.8-1.5cm,因微型雕塑大小的限制,铸造工艺的选择在很大程度上决定了微型雕塑的质量。

现有技术中常用的铸造工艺有树脂砂型铸造,树脂砂型铸造的缺点是粗糙、造型不生动、做不了复杂造型;一般用石膏、191树脂等材料做母模,开模难度大,需要做多活块,并且需要上很厚的涂料。铸造成型的产品有很多活块线条,打磨后有失工艺逼真,费工费材造成成本偏高。

因此,需要提供一种新的微型雕塑的铸造方法以解决上述技术问题。



技术实现要素:

本发明的目的在于提供一种微型雕塑的铸造方法,其生产出的产品工艺特征清晰,生产成本低。

为解决上述技术问题,本发明提供了一种微型雕塑的铸造方法,该方法包括如下步骤:

步骤s1、根据所需材质调制石膏材料。

步骤s2、根据制作尺寸,用50℃全透明加温成型硅橡胶制成雕塑原型。

步骤s3、用所述石膏材料在所述雕塑原型上制作两开阴模,并预留浇注口,待所述石膏材料硬化风干后脱模得到石膏阴模。

步骤s4、将60℃的所述石膏材料在空心的所述石膏阴模内刷5mm厚原型层,再用强度大于6mpa的α石膏粉浇注以形成该原型层的衬托,充当石膏型芯。

步骤s5、将所述石膏阴模与所述石膏型芯进行组装成模型,用热烘枪对其加热至原型层微软时将其剥离。

步骤s6、把经过熔炼的铜合金溶液通过离心机浇注在模型上,再经过冷却凝固、抛光、电镀制成所述微型雕塑。

优选的,所述石膏材料由以下质量百分比的组分组成:α石膏粉69.2%,石英砂25%,氧化铁粉0.5%,硫酸镁4%,葡萄糖酸钠0.5%,碱性纤维0.8%。

优选的,所述石英砂粒度为70-200目,含水量≤0.25%,含泥量≤1%。

优选的,所述步骤s4后,步骤s5前,还包括:步骤s41、在所述石膏型芯涂一层小于0.1mm厚的涂料。

与相关技术相比,本发明的微型雕塑的铸造方法使用强度大于6mpa的α石膏粉浇注以形成该原型层的衬托,充当石膏型芯,保证了其不变形,可靠性好;该方法中除了较大的凹凸面外,大部分花纹和小凹凸模型不用做活块,而且加热剥离后花纹等艺术特征清晰,且生产成本低。

【附图说明】

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案,下面将对本发明实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本发明实施例提供的微型雕塑的铸造方法的流程框图。

【具体实施方式】

下面将结合本发明实施例,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅是本发明的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本发明保护的范围。

如图1所述,本发明提供了一种微型雕塑的铸造方法,该方法包括如下步骤:

步骤s1、根据所需材质调制石膏材料。

本实施方式中,所述石膏材料由以下质量百分比的组分组成:α石膏粉69.2%,石英砂25%,氧化铁粉0.5%,硫酸镁4%,葡萄糖酸钠0.5%,碱性纤维0.8%。

其中,更优的,所述石英砂粒度为70-200目,含水量≤0.25%,含泥量≤1%。

步骤s2、根据制作尺寸,用50℃全透明加温成型硅橡胶制成雕塑原型。

步骤s3、用所述石膏材料在所述雕塑原型上制作两开阴模,并预留浇注口,待所述石膏材料硬化风干后脱模得到石膏阴模。

步骤s4、将60℃的所述石膏材料在空心的所述石膏阴模内刷5mm厚原型层,再用强度大于6mpa的α石膏粉浇注以形成该原型层的衬托,充当石膏型芯。

更优的,还包括:步骤s41、在所述石膏型芯涂一层小于0.1mm厚的涂料,用于保证花纹等工艺特征清晰。

步骤s5、将所述石膏阴模与所述石膏型芯进行组装成模型,用热烘枪对其加热至原型层微软时将其剥离。

步骤s6、把经过熔炼的铜合金溶液通过离心机浇注在模型上,再经过冷却凝固、抛光、电镀制成所述微型雕塑。

与相关技术相比,本发明的微型雕塑的铸造方法使用强度大于6mpa的α石膏粉浇注以形成该原型层的衬托,充当石膏型芯,保证了其不变形,可靠性好,且可减小较多活块的使用;该方法中除了较大的凹凸面外,大部分花纹和小凹凸模型不用做活块,而且加热剥离后花纹等艺术特征清晰,且生产成本低。

以上所述的仅是本发明的实施方式,在此应当指出,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明创造构思的前提下,还可以做出改进,但这些均属于本发明的保护范围。

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