技术总结
本发明属于金属镀膜领域，具体来说，涉及一种用于提高金属蒸发镀膜均匀性的装置及方法。装置的组成包括电磁搅拌线圈、固定柱、内筒、基板固定架、基板、蒸发源、蒸发材料、钟罩；蒸发源和蒸发材料置于钟罩中线处，基板置于基板固定架上并在蒸发源正上方，内筒同心放置于蒸发源外侧，电磁搅拌线圈分布在内壁外侧四周。本发明通过电磁搅拌装置对金属粒子进行搅拌，从而使金属粒子在水平面内分布均匀，从而达到使金属蒸发镀膜均匀的效果。
技术研发人员：宋金会;柳永博;卜镜元;孟德峰;张西京;王志立
受保护的技术使用者：大连理工大学
技术研发日：2019.12.12
技术公布日：2020.02.28