一种研磨机的粗细调节机构及具有该调节机构的研磨机的制作方法

文档序号:19520238发布日期:2019-12-24 22:30阅读:780来源:国知局
一种研磨机的粗细调节机构及具有该调节机构的研磨机的制作方法

本实用新型涉及研磨机技术领域,特别指一种研磨机的粗细调节机构。



背景技术:

随着社会的发展,人们生活水平和生活品位的提高,研磨机已经作为日常用品之一,为人们熟知常见。传统的研磨机如一般由电机、旋转轴、定磨轮和动磨轮组成,所述动磨轮固定于旋转轴,由电机驱动旋转,与定磨轮配合实现磨豆功能,这样设置,存在如下缺陷和不足:1、定磨轮和动磨轮之间的距离不可调,也就是说出粉的粗细不可调,影响其推广应用。为解决上述技术问题,行内做了大量的研究和探索,如授权公告号为cn201879519u中国实用新型专利,其公开了一种咖啡磨豆机,其包括上磨盘、上磨盘定位座、下磨盘以及螺纹圈座,所述下磨盘由电机驱动旋转,但轴向不可动,所述上磨盘固定于上磨盘定位座上,且上磨盘定位座设有与螺纹圈座配合的螺纹,上述现有技术主要通过调节螺纹圈座来驱动上磨盘定位座的上下移动来实现调节上磨盘和下磨盘之间的距离,达到调节出粉粗细的目的。这样设置,确能有效解决了传统技术存在的问题,但上述现有技术采用下磨盘旋转,上磨盘上下移动的结构设置,即上磨盘和下磨盘都需要动作的结构设置,因为两者均发生运动,配合难度大,且配合间隙难于精准控制。

故现有技术尚有较大的改进空间。



技术实现要素:

本实用新型的目的是提出一种研磨机的粗细调节机构,其所述静磨轮固定设于磨腔内,所述旋转轴从磨腔上部伸入磨腔内,通过调节设于旋转轴上动磨轮与静磨轮之间的位置,即可实现粗细调节,结构简单,可以实现准确调节。

为了达到上述目的,本实用新型采用的技术方案如下:

本实用新型所述的一种研磨机的粗细调节机构,包括主体,所述主体内成型有磨腔,所述磨腔内设有动磨轮、静磨轮以及旋转轴,所述静磨轮固定设于磨腔内,所述旋转轴从磨腔上部伸入磨腔内;所述动磨轮通过磨轮支架可沿旋转轴轴向移动地套设于旋转轴上,由旋转轴驱动磨轮支架和动磨轮一体旋转;所述磨轮支架底部设有调节磨轮支架沿旋转轴轴向移动的调节机构。本实用新型通过磨轮支架将动磨轮套设于旋转轴上,并可以沿旋转轴上下移动,通过调节机构调节动磨轮与静磨轮之间的距离,且静磨轮不动,这种设置结构简单,操作方便,且精确度高。

根据以上技术方案,所述调节机构包括可旋转地设于磨腔下部的旋钮,可驱动磨轮支架沿旋转轴轴向移动的滑动杆,所述旋钮与滑动杆配合设置,以驱动滑动杆沿旋转轴轴向移动,所述旋钮的旋转边配合设于磨腔下部的旋转槽内,所述旋转槽用于限制旋钮轴向移动,所述滑动杆上设有导向柱,所述磨腔内壁上轴向设有导向槽,所述导向柱配合设于导向槽内,所述导向槽用于限制滑动杆以旋转轴为中心旋转。公开了调节机构的具体结构,提高了可操作性。

根据以上技术方案,所述滑动杆与磨轮支架之间设有轴承,所述滑动杆固定于轴承的外环,所述磨轮支架固定于轴承的内环。所述轴承的设置,可以极小的减小磨轮支架与滑动杆之间的摩擦力。

根据以上技术方案,所述旋转轴外端面与磨轮支架之间设有压缩弹簧。所述压缩弹簧的设置,在通过旋钮调节滑动杆下移动时,更为轻松省力。

根据以上技术方案,所述磨轮支架上设有限位槽,所述旋转轴上设于限位柱,所述限位柱可上下移动地设于限位槽内。具体公开磨轮支架与旋转轴的轴向移动结构,提高可操作性。

根据以上技术方案,所述旋钮上设于调节凸点,所述滑动杆设有螺旋状斜面,所述调节凸点抵设于螺旋状斜面上。本实用新型采用调节凸点与螺旋状斜面的配合,可以实现贴紧配合,进一上提高精确度。

根据以上技术方案,所述调节凸点两个,对称设于旋钮,所述螺旋状斜面有两个,对称设于滑动杆上。对称设置,可以更有效的实现平衡,达到更好的效果。

根据以上技术方案,所述旋钮上周边位置设于旋转角度定位槽,所述旋转角度定位槽内贯穿有定位杆,所述定位杆一端固定于磨腔内壁上。所述旋转角度定位槽和定位杆的配合,可以很好的实现旋钮旋转角度的限制,从而限进动磨轮的最大移动距离。

根据以上技术方案,所述旋转角度定位槽有两个,对称设于旋钮上,所述定位杆有两个,对应设于两个角度定位槽内。对称设置,可以更有效的实现平衡,达到更好的效果。

本实用新型所述的一种研磨机,其含有上述的粗细调节机构,包括驱动所述旋转轴的驱动装置,所述驱动装置固定于主体内。

本实用新型的磨豆机,所述电机上方设有转向机构,所述电机的输出轴与转向机构连接,所述旋转轴一端可拆卸固定设有动磨轮,所述旋转轴另一端与转向机构连接。本实用新型通过设置转向机构,可以有效避免电机与旋转轴处于同一直接上,使旋转轴和电机的设置位置更加灵活,有效的解决现有技术中存在的缺陷和不足。

附图说明

图1是本实用新型研磨机的整体结构示意图;

图2是图1中a处放大结构示意图(粗细调节机构结构示意图);

图3是本实用新型旋钮的结构示意图;

图4是本实用新型滑动杆的结构示意图。

图中:1、动磨轮;2、磨腔;3、滑动杆;4、旋钮;5、静磨轮;6、螺旋状斜面;7、调节凸点;8、轴承;9、定位杆;10、磨轮支架;11、压缩弹簧;12、旋转轴;13、主体;14、豆箱;15、驱动装置;16、支撑柱;17、粉杯;18、出粉口;19、旋转角度定位槽;20、导向柱;21、旋转边;22、旋转槽。

具体实施方式

下面结合附图与实施例对本实用新型的技术方案进行说明。

如图1所示,本实用新型所述的一种研磨机的粗细调节机构,包括主体13,所述主体13内成型有磨腔2,所述磨腔2内设有动磨轮1、静磨轮5以及旋转轴12,上述结构部件构成本实用新型主体结构。

所述静磨轮5固定设于磨腔2内,所述旋转轴12从磨腔上部伸入磨腔2内;所述动磨轮1通过磨轮支架10可沿旋转轴12轴向移动地套设于旋转轴12上,由旋转轴12驱动磨轮支架10和动磨轮1一体旋转;所述磨轮支架10底部设有调节磨轮支架10沿旋转轴12轴向移动的调节机构。

所述调节机构可以驱动磨轮支架10和动磨轮1一起沿旋转轴12轴向上下移动,可以实现动磨轮1与静磨轮5之间距离调节,与现有技术相比,本实用新型中,静磨轮5固定设置,即静止不动,只需要调节动磨轮1的位置即可实现与静磨轮5之间距离调节,结构更为简单,操作更为方便,且精确性更高。

具体而言,所述调节机构包括可旋转地设于磨腔2下部的旋钮4,可驱动磨轮支架10沿旋转轴12轴向移动的滑动杆3,所述旋钮4与滑动杆3配合设置,以驱动滑动杆3沿旋转轴12轴向移动。所述旋钮4的旋转边21配合设于磨腔2下部的旋转槽22内,所述旋转槽22用于限制旋钮4轴向移动,即旋钮4只能旋转,而不能沿旋转轴12轴向移动。所述滑动杆3上设有导向柱20,所述磨腔2内壁上轴向设有导向槽(图中未示出),所述导向柱20配合设于导向槽内,所述导向槽用于限制滑动杆3以旋转轴12为中心旋转,也即滑动杆3通过沿旋转轴12轴向移动,而不能以旋转轴12为中心旋转。这样设置的目的在于,旋钮4与滑动杆3可以形成有效配合,有效实现驱动磨轮支架10和动磨轮1一起沿旋转轴12轴向上下移动。

所述滑动杆3与磨轮支架10之间设有轴承8,所述滑动杆3固定于轴承8的外环,所述磨轮支架10固定于轴承8的内环。因为磨轮支架10随旋转轴12一起旋转,而滑动杆3不旋转,但滑动杆3需驱动磨轮支架10轴向上下移动,必然发生接触,为减少滑动杆3与磨轮支架10之间的摩擦力,在所述滑动杆3与磨轮支架10之间设有轴承8,可以有效实现接触但摩擦力小这一技术目的。

所述磨轮支架上设有限位槽(图中未示出),所述旋转轴上设于限位柱(图中未示出),所述限位柱可上下移动地设于限位槽内。这样的结构设置,可以有效实现磨轮支架可沿旋转轴轴向移动,同时可以沿旋转轴一起旋转。

所述旋转轴12外端面与磨轮支架10之间设有压缩弹簧11。这样设置,所述压缩弹簧11始终给予磨轮支架10向外的作用力,在通过旋钮4调节滑动杆3下移动时,更为轻松省力。

所述旋钮4上设于调节凸点7,所述滑动杆3设有螺旋状斜面6,所述调节凸点7抵设于螺旋状斜面6上。所述旋钮4与滑动杆3配合设置,更具体而言是所述调节凸点7配合贴设于螺旋状斜面6上,当旋钮4正反旋转时,节凸点7可以旋转是螺旋状斜面6的高位或者低位,从而可以实现滑动杆3沿旋转轴12轴向方向上下移动,从而驱动磨轮支架10以及动磨轮1上下移动。本实用新型采用调节凸点7与螺旋状斜面6的配合,可以实现贴紧配合,进一上提高精确度。

所述调节凸点7两个,对称设于旋钮4,所述螺旋状斜面6有两个,对称设于滑动杆3上。对称设置,可以更有效的实现平衡,达到更好的效果。

所述旋钮4上周边位置设于旋转角度定位槽19,所述旋转角度定位槽19内贯穿有定位杆9,所述定位杆9一端固定于磨腔2内壁上。所述旋转角度定位槽19和定位杆9的配合,可以很好的实现旋钮4旋转角度的限制,从而限进动磨轮1的最大移动距离。

所述旋转角度定位槽19有两个,对称设于旋钮4上,所述定位杆9有两个,对应设于两个角度定位槽19内。对称设置,可以更有效的实现平衡,达到更好的效果。

本实用新型所述的一种具有粗细调节机构的研磨机,包括驱动所述旋转轴12的驱动装置15,所述驱动装置15固定于主体13内。本实用新型所述的研磨机,其驱动装置15设于主体13的上部,这样设置,旋转轴12即可起到导向作用,也不影响驱动动磨轮1旋转。

另外,本实用新型所述的研磨机,还包括设于主体13上部的豆箱14,设于主体13下部的出粉口18,用于支撑主体13的支撑柱16和粉杯17,这些结构均非本发明的发明创新点,与现有技术并不本质差异,不做重复描述。

以上所述仅是本实用新型的较佳实施方式,故凡依本实用新型专利申请范围所述的构造、特征及原理所做的等效变化或修饰,均包括于本实用新型专利申请范围内。

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