本实用新型涉及连铸技术领域,具体涉及一种结晶器足辊喷淋装置和结晶器足辊系统。
背景技术:
在冶金行业连铸机上,足辊是结晶器下方的主要装置。足辊的作用是引导引锭杆进入结晶器,同时也对结晶器铜管起保护作用,防止穿引锭杆时引锭头碰坏铜管下口。此外拉坯时有足辊引导铸坯,可以对初出铜管的薄弱坯壳起支撑导向作用,减少铸坯变形或漏钢,也可减轻铸坯对铜管下口的磨损。
足辊区的喷淋装置为初出铜管的铸坯提供喷水冷却,属于二次冷却水系统,初出结晶器铜管的铸坯的坯壳很薄而且温度很高,所以需要喷淋装置对其进行大量喷水冷却。
现有的很多结晶器是通过结晶器本体将喷淋水供给到喷淋管,喷淋管一般直接安装在结晶器本体上,与足辊装置相对独立。这样会造成结晶器本体结构相对复杂,而且喷淋水管路检修更换困难,泄漏点也无法及时排查。
另外,有的结晶器配有外置电磁搅拌装置,拆装结晶器时足辊及喷淋装置会从电磁搅拌装置内部穿过,这就需要足辊及喷淋装置结构非常紧凑,整体布置范围不能超过电磁搅拌装置内径,否则在拆装时会碰坏电磁搅拌装置内部结构。
此外,对于二冷区密排布置的辊列,足辊距离下方扇形段的辊子很近,足辊及喷淋装置需小心避开扇形段设备,而且还不能阻挡扇形段喷嘴的喷射角度,否则会影响铸坯冷却效果。
技术实现要素:
本实用新型提供了一种结晶器足辊喷淋装置和结晶器足辊系统,以达到为结晶器出来的铸坯提供支撑及喷淋冷却效果的目的。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:一种结晶器足辊喷淋装置,包括:足辊框架;足辊喷淋水环,设置在足辊框架上,足辊喷淋水环设置有水环入口和多个水环出口;多根喷淋管,间隔设置在足辊框架外,多根喷淋管的入口端与多个水环出口一一对应连接,且每根喷淋管的管壁上均设置有多个朝向足辊框架内侧的喷嘴,喷淋水能从水环入口进入,依次经水环出口、喷淋管的入口端后由喷嘴喷出,以将位于足辊框架内侧的铸坯冷却。
进一步地,结晶器足辊喷淋装置还包括多个喷淋管安装座,每个水环出口处均设置有一个喷淋管安装座;每根喷淋管对应的安装在一个喷淋管安装座内。
进一步地,足辊框架呈多面体状,足辊框架包括连接法兰、底部法兰和多个立柱,连接法兰和底部法兰间隔设置,多个立柱间隔设置在连接法兰和底部法兰之间。
进一步地,足辊框架呈六面体状,足辊框架包括内弧面侧、外弧面侧和两个相对的侧面侧。
进一步地,足辊喷淋水环固定安装在底部法兰上。
进一步地,在内弧面侧、外弧面侧和两个相对的侧面侧的对应处均设置有一个水环出口,每个水环出口上均设置有一个喷淋管安装座。
进一步地,结晶器足辊喷淋装置还包括支撑板,支撑板分别连接足辊喷淋水环和底部法兰。
进一步地,水环入口为多个,多个水环入口分别设置在内弧面侧的喷淋管安装座的两侧。
本实用新型还提供了一种结晶器足辊系统,包括结晶器足辊喷淋装置和多个足辊组,结晶器足辊喷淋装置为上述的结晶器足辊喷淋装置,多个足辊组间隔设置在足辊框架内。
进一步地,连接法兰与紧邻的足辊组之间具有第一喷嘴间隙,底部法兰与紧邻的足辊组之间具有第二喷嘴间隙,相邻的足辊组之间具有第三喷嘴间隙,多个喷嘴对应设置在第一喷嘴间隙、第二喷嘴间隙和第三喷嘴间隙处。
本实用新型的有益效果是,本实用新型实施例用于与结晶器连接,以通过结晶器足辊系统对结晶器出来的铸坯提供支撑及喷淋冷却的作用。
附图说明
构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本实用新型的进一步理解,本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型,并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中:
图1为本实用新型实施例未安装足辊和喷淋管的结构示意图;
图2为图1的喷淋水环处的剖面结构示意图;
图3为本实用新型实施例与结晶器和扇形段的安装位置示意图。
图中附图标记:10、足辊框架;11、连接法兰;12、底部法兰;13、立柱;20、足辊;30、足辊喷淋水环;31、水环入口;32、喷淋管安装座;40、喷淋管;41、喷嘴;50、支撑板;60、结晶器;70、电磁搅拌装置;81、扇形段喷嘴;82、扇形段辊子。
具体实施方式
需要说明的是,在不冲突的情况下,本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本实用新型。
如图1和图2所示,本实用新型实施例提供给了一种结晶器足辊喷淋装置,包括足辊框架10、足辊喷淋水环30和多根喷淋管40。多个足辊组间隔设置在足辊框架10内。足辊喷淋水环30设置在足辊框架10上,足辊喷淋水环30设置有水环入口31和多个水环出口。多根喷淋管40间隔设置在足辊框架10外,多根喷淋管40的入口端与多个水环出口一一对应连接,且每根喷淋管40的管壁上均设置有多个朝向足辊框架10内侧的喷嘴41,喷淋水能从水环入口31进入,依次经水环出口、喷淋管40的入口端后由喷嘴41喷出,以将位于足辊框架内侧的铸坯冷却。
本实用新型实施例用于与结晶器连接,以通过结晶器足辊系统对结晶器出来的铸坯提供支撑及喷淋冷却的作用。
足辊框架10呈多面体状,足辊框架10包括连接法兰11、底部法兰12和多个立柱13,连接法兰11和底部法兰12间隔设置,多个立柱13间隔设置在连接法兰11和底部法兰12之间。
上述多面体为空间多面体,即由若干个平面多边形围成的几何体。本实用新型实施例中上述足辊框架10为六面体,当然也可以采用八面体,十二面体等形式。以下将以六面体形式的足辊框架10进行说明:
足辊框架10呈六面体状,足辊框架10包括内弧面侧、外弧面侧和两个相对的侧面侧,上述连接法兰11所处位置为足辊框架10的顶面,底部法兰12所处位置为足辊框架10的底面。
本实用新型实施例中足辊喷淋水环30固定安装在底部法兰12上。在内弧面侧、外弧面侧和两个相对的侧面侧的对应处均设置有一个水环出口,每个水环出口处均设置有一个喷淋管安装座32,喷淋管40对应与喷淋管安装座32螺栓连接(以便于拆卸和定位)。即喷淋管安装座32为四个,沿足辊框架10的周向间隔分布在其外周面上,上述喷淋管40设置方向与立柱13的设置方向相同,喷淋管40设置在连接法兰11与底部法兰12之间,喷淋管40的入口与足辊喷淋水环30连通。
足辊喷淋水环30由若干根矩形空心钢管焊接成一个环形,整体焊接在底部法兰12下方。足辊喷淋水环30设置有两个水环入口31(通径较小的接口),对称设置在内弧面侧的喷淋管安装座32的两侧。
如图1和图2所示,本实用新型实施例中结晶器足辊喷淋装置还包括支撑板50,支撑板50分别连接足辊喷淋水环30和底部法兰12。支撑板50同时与底部法兰12和足辊喷淋水环30焊接,既加强了足辊喷淋水环30的强度和刚度,又可以支撑整个结晶器直接放置在地面上而不需要额外的存放台架。
需要说明的是,本实用新型实施例的喷淋水直接由水环入口31从车间管线供给,而不是通常通过结晶器本体供给;这样可以简化结晶器本体的结构设计,同时也可以用于原设计未考虑足辊喷淋水的结晶器的利旧本体增设喷淋水改造。
如图3所示,本实用新型实施例在安装时,通过连接法兰11与结晶器60(方、圆坯结晶器)连接,且本实用新型实施例的整体最大宽度小于结晶器60外置的电磁搅拌装置70的内径,使本实用新型实施例能够可以随结晶器60一同在线拆装而不会碰撞外置的电磁搅拌装置70。本实用新型实施例的下侧设置有扇形段,该扇形段具有扇形段喷嘴81和扇形段辊子82。本实用新型实施例在线就位后不会碰撞下方的扇形段,也不会阻挡扇形段喷嘴81的正常喷射。
本实用新型还提供了一种结晶器足辊系统,包括结晶器足辊喷淋装置和多个足辊组,结晶器足辊喷淋装置为上述的结晶器足辊喷淋装置,多个所述足辊组间隔设置在足辊框架10内。
具体地,连接法兰11与紧邻的足辊组之间具有第一喷嘴间隙,底部法兰12与紧邻的足辊组之间具有第二喷嘴间隙,相邻的足辊组之间具有第三喷嘴间隙,多个喷嘴41对应设置在第一喷嘴间隙、第二喷嘴间隙和第三喷嘴间隙处。
将喷嘴41设置在第一喷嘴间隙、第二喷嘴间隙和第三喷嘴间隙处,以避开上述足辊组,可以将足辊喷淋水环30提供的冷却液喷射至足辊框架10内并对铸坯进行喷淋冷却。
进一步地,每个足辊组在内弧面侧、外弧面侧和两个相对的侧面侧的对应处均设置有至少一个足辊20。以本实用新型实施例为例,立柱13为四个,在同一个足辊组内包括四个足辊20,四个足辊20分别设置在内弧面侧、外弧面侧和两个相对的侧面侧的对应处,每个足辊20的两端分别与相邻的立柱13连接,并能够相对立柱13转动。同一足辊组内各个足辊20的轴线连线所构成的平面应与铸坯在该平面处的行进方向垂直。
从以上的描述中,可以看出,本实用新型上述的实施例实现了如下技术效果:
本实用新型实施例用于与结晶器连接,以通过结晶器足辊系统对结晶器出来的铸坯提供支撑导向以及喷淋冷却的作用。
本实用新型实施例可以简化结晶器本体的结构设计,同时也可以用于原设计未考虑足辊喷淋水的结晶器的利旧本体增设喷淋水改造。
以上所述,仅为本实用新型的具体实施例,不能以其限定实用新型实施的范围,所以其等同组件的置换,或依本实用新型专利保护范围所作的等同变化与修饰,都应仍属于本专利涵盖的范畴。另外,本实用新型中的技术特征与技术特征之间、技术特征与技术方案之间、技术方案与技术方案之间均可以自由组合使用。