一种用于磁控靶的收放式挡板及含其的磁控溅射镀膜机的制作方法

本实用新型属于磁控溅射镀膜技术领域，具体涉及一种用于磁控靶的收放式挡板及含其的磁控溅射镀膜机。

背景技术：

磁控溅射属于物理气相沉积(physicalvapordeposition，pvd)中的一种，磁控溅射镀膜技术是一种重要的薄膜制备方法，可以在载体上制备金属、半导体、绝缘体等多材料的薄膜，具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强的优点。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。

专利cn201810226135.8提供了一种磁控溅射系统及溅射方法，其中，磁控收放式挡板组件包括第一手轮、挡板轴、万向节和挡板，第一手轮安装在有机玻璃罩的外部上端，挡板轴的上端穿过有机玻璃罩与第一手轮连接，挡板轴的下端穿过真空室堵盖与万向节的一端连接，万向节的另一端与挡板连接。

目前，本领域技术人员发开了包含多个磁控靶的磁控溅射设备，用于制备不同材料的薄膜，节省了重复上样、抽真空、溅射镀膜等操作步骤。自2011年本领域提出材料基因组计划后，国内磁控溅射镀膜高通量的研究取得一定进展，例如，专利cn201820416442.8公开了一种用于高通量镀膜工艺的五靶磁控溅射镀膜仪，包括机架，机架内上部设置有真空腔室，机架底部设置有plc控制器，真空腔室内部设置有若干个磁控溅射靶头，真空腔室外顶部设置有若干个分别与各个磁控溅射靶头连接的高压连接器，高压连接器与plc控制器连接，每个磁控溅射靶头下方安装有电动挡板，真空腔室的底部安装有样品台，样品台下方设置有加热平台，加热温度由温控表进行控制，样品台的上面覆盖一个旋转台，旋转台上设置有一孔，机架内部还设置有用于驱动旋转台旋转的电机，可一次性制备最多32个样品。

然而，目前磁控靶挡板如何设计才能提高挡板运动时空间的利用率，结构简化，运行方便控制，是本领域技术人员面临的问题。另外，目前高通量磁控溅射镀设备研究较少，一次性处理样品量有待提高，并且如何实现一次性处理样品的高一致性，一直是本领域技术人员面临的问题。

技术实现要素：

针对上述问题，本实用新型提供了一种用于磁控靶的收放式挡板，所述收放式挡板竖直放置，并包括气缸、挡板轴、第一连片、第二连片和靶挡板，所述气缸设在所述收放式挡板的顶部，所述挡板轴固定连接气缸的活塞，并能够随活塞做伸缩运动，所述第一连片的顶部固定在气缸外部，底部铰接所述靶挡板，所述第二连片的顶部连接挡板轴，底部连接靶挡板；所述靶挡板设在所述收放式挡板的底部，所述挡板轴通过第二连片带动靶挡板相对于第一连片做伸展或收缩闭合的运动。

所述收放式挡板是气缸通过所述挡板轴、第一连片和第二连片组成的传动机构带动靶挡板做伸展或收缩闭合的运动，实现临时遮挡磁控靶靶头的技术效果。

所述气缸的一端连接气源，另一端设置挡板轴，所述挡板轴连接气缸的活塞，并随活塞做伸缩运动，并且挡板轴位于气缸的外部。

优选的，所述气缸的外部设置套体，用于保护气缸免受溅射镀膜的影响，更优选的，所述第一连片固定在套体上。优选的，所述气缸为微型气缸。

所述第一连片的底部通过铰接部件连接所述靶挡板，使得靶挡板能够围绕铰接部件向上转动或向下转动，当靶挡板伸展时，靶挡板以铰接部件为支点向上转动，即可遮挡所述收放式挡板上方的磁控靶；当靶挡板收缩闭合时，靶挡板以铰接部件为支点向下转动，即可远离磁控靶。优选的，所述铰接部件为合页或铰链。

所述靶挡板的形状选自扇形、方形、圆形、平行四边形或三角形，优选的，所述靶挡板的形状为圆形。

所述第二连片的顶部连接挡板轴，底部连接靶挡板，第二连片与挡板轴和靶挡板连接的两处均为活动连接，在传动过程中，所述第二连片的倾斜角度不断变化。

使用时，气源为所述气缸供气，驱动活塞和挡板轴向下伸出，所述第二连片的顶端随挡板轴向下运动，第二连片的倾斜角度变小，逐渐趋向于水平，第二连片的底端推动所述靶挡板向上运动，靶挡板以所述铰接部件为支点向上转动，即呈伸展状，可以遮挡磁控靶的靶头；然后，气缸驱动活塞和挡板轴向上收缩，所述第二连片的顶端随挡板轴向上运动，第二连片的倾斜角度变大，逐渐趋向于竖直，第二连片的底端拉动所述靶挡板向下运动，靶挡板以所述铰接部件为支点向下转动，当多个磁控靶对应的靶挡板均向下转动时，多个靶挡板即呈收缩闭合状，远离磁控靶的靶头。

本实用新型所述的收放式挡板能够提高挡板运动时工作腔室内空间的利用率，结构简化，通过控制所述气缸的供气，即可控制单个收放式挡板的运行，简便易行。

本实用新型还提供一种磁控溅射镀膜机，所述镀膜机包括工作腔室、样品架、磁控靶、和所述收放式挡板，所述磁控靶设置在工作腔室内的上部，所述收放式挡板设在磁控靶下方，所述样品架设置在收放式挡板的下方，样品架包括样品台、支撑连接装置和驱动旋转装置，所述支撑连接装置的顶部固定连接样品台，底部穿过工作腔室的底板连接所述驱动旋转装置的从动齿轮，所述驱动旋转装置设置在工作腔室的外部。

所述工作腔室为所述镀膜机的核心工作部件，磁控溅射镀膜操作在所述工作腔室的内部进行。所述工作腔室的上部具有倾斜壁面，所述倾斜壁面与水平面的倾斜角度为30-60度，所述磁控靶设在工作腔室的倾斜壁面上，并与倾斜壁面平行。

优选的，所述倾斜壁面的倾斜角度为40-50度，在本实用新型的一个具体实施方式中，所述倾斜角度为45度。

所述工作腔室的中部和下部为立方体或圆柱体形状；所述工作腔室的一侧设有样品门，用于样品进出，当样品门关闭时，工作腔室内部形成密闭空间，在真空抽气装置的作用下形成真空环境。所述工作腔室的材质选自不锈钢或合金钢。

优选的，所述样品门与工作腔室的门框之间设有密封条和磁吸板，提高工作腔室的密封性。

优选的，所述工作腔室的上部为圆台形状，圆台侧面为倾斜壁面。

所述磁控靶设置在工作腔室上部的倾斜壁面上，磁控靶具有与倾斜壁面相同的倾斜角度，即所述磁控靶与水平面的倾斜角度为30-60度，优选的，所述倾斜角度为40-50度。磁控靶的靶头面向工作腔室内部，优选的，所述磁控靶通过法兰固定在所述倾斜壁面上。所述工作腔室外设置高压连接器，每个高压连接器与对应的磁控靶连接，所述高压连接器通过电路与电源及控制系统连接。

优选的，所述磁控靶的数量为2-5个，并均匀环绕分布在所述倾斜壁面上，即不同磁控靶的靶头朝向不同方向，每个磁控靶可以设置不同的靶材，实现一次性多种材料镀膜或使用不同材料镀多层膜，同时使得所述样品台上的样品能够接受多方向的靶材溅射镀膜。

本实用新型中在所述工作腔室的不同方位设置多个具有倾斜角度的磁控靶，达到了以下技术效果：(1)所述磁控靶具有一定的倾斜角度，保证每个磁控靶的溅射镀膜范围覆盖所述样品台；(2)同一个磁控靶对所述样品台上的所有样品均匀镀膜，提高所有样品的一致性；(3)满足多种材料镀膜和镀多层膜的需要；(4)对同一个样品镀多层膜而言，不同磁控靶镀膜均匀一致，提高了样品膜层的平整度；(5)满足共溅射或依次溅射镀膜的多功能要求，且充分利用空间，尽量减小工作腔室的体积。

所述收放式挡板的数量与磁控靶的数量相同。

所述样品架设置在所述收放式挡板的下方，所述样品架能够在驱动旋转装置的作用下旋转，调整样品台上的样品与每个磁控靶的对应关系，便于样品差异化镀膜。

所述样品台为板状，中部设有样品区，所述样品区表面均匀平整，有利于提高所有样品镀膜的一致性，所述样品区的直径为80-150mm，优选的，所述样品区的直径为100-120mm。本实用新型所述的镀膜机比传统磁控溅射镀膜设备的一次性样品处理量大一个数量级，所述样品台提供面积较大的平整的样品区，为所述镀膜机处理高通量样品提供了可能。

所述样品台的形状选自扇形、方形、圆形、平行四边形或三角形，根据样品的数量和镀膜顺序要求，选自合适的样品台的形状。

优选的，所述样品台的顶面设有样品槽，用于放置样品，所述样品槽的排布方式选自阵列排布或多圈同心圆排布，所述样品槽的数量为40-200个，优选的，所述样品槽的数量为80-150个，更优选的，所述样品槽的数量为80-100个，适用于高通量制备多组份混合纳米薄膜和纳米多层功能薄膜器件。

所述样品台的内部设有加热器，底部设有热电偶，所述加热器与热电偶相互接触，所述热电偶和加热器通过电路连接加热电源。与传统磁控溅射镀膜设备的样品台与加热装置分离设置的设计相比，本实用新型的样品台与加热器的一体化设计，使得样品受热更加均匀，热量利用率更高，减少了能源消耗和冷却负担。

所述样品台的底部设有托板，支撑所述样品台，优选的，所述托板与样品台之间填充有绝缘材料。所述托板的材质为不锈钢或合金钢，满足样品台与所述支撑连接装置的刚性连接需求，所述托板与样品台之间填充的绝缘材料起到隔热和绝缘的双重作用，在提高热量利用率的同时，使得样品台与地绝缘，样品台可以承受1000v的偏压，实现快速加热。

所述支撑连接装置包括空轴、套轴和绝缘套管，所述空轴的顶端套入绝缘套管，并与绝缘套管固定连接；所述绝缘套管的顶端与所述托板固定连接；所述空轴的底部套入套轴，空轴能够在套轴内伸缩，从而带动样品台做升降运动。

所述支撑连接装置还包括固定部件、密封部件和轴承，所述固定部件选自螺母、螺钉、螺栓或铆钉，所述密封部件选自密封套、密封垫或密封圈。

所述套轴穿过工作腔室的底板的部位设置所述固定部件和密封部件，将所述支撑连接装置和样品台稳固支撑，并保证工作腔室的密封性。

所述套轴的外部套有至少一个轴承，使得套轴在旋转时运动更加流畅，优选的，所述轴承设置在所述从动齿轮之上的套轴的部分，更优选的，所述轴承设置在套轴穿过工作腔室的底板的部位。

所述驱动旋转装置包括主动齿轮、从动齿轮和第一电机，所述第一电机的转轴固定连接主动齿轮，主动齿轮与从动齿轮咬合配合，从而第一电机带动主动齿轮和从动齿轮转动。所述套轴的底部穿过所述工作腔室的底板后，穿过所述从动齿轮，所述从动齿轮带动套轴和空轴旋转，进而间接带动样品台旋转。

所述样品架可以采用手动升降，也可以采用机械升降，主要是调节所述空轴与套轴的上下相对位置，实现样品台的升降。

所述镀膜机还包括机柜，所述机柜容纳所述镀膜机的各个设备。

所述镀膜机还包括真空抽气装置，所述真空抽气装置包括分子泵、真空泵和气体管路，所述分子泵设在所述工作腔室的下方，并与工作腔室内部连通，所述真空泵设在机柜内的底部，真空泵通过气体管路与分子泵相连，为工作腔室提供真空环境。

所述镀膜机还包括电源及控制系统，所述电源及控制系统包括真空计、质量流量显示仪、直流电源、射频电源、适配器、偏压电源、加热电源、温度控制仪、显示屏和气源控制装置；所述真空计监测和控制工作腔室内部的真空度，真空计通过真空管路连接分子泵和真空泵；所述质量流量显示仪和射频电源通过气路和电路连接并控制每个所述磁控靶的溅射镀膜；所述直流电源、适配器、偏压电源通过电路连接并控制所述驱动旋转装置，从而控制所述支撑连接装置和样品台的旋转运动；所述加热电源和温度控制仪通过电路连接样品台内部的加热器，且控制加热器的加热温度；所述气源控制装置通过电路连接并控制所述气缸。

所述显示屏显示所述镀膜机的各项参数，例如真空度、磁控靶工作数量及镀膜时间和顺序、各个电源的电流电压、加热器温度等。所述显示屏设在机柜外表面，并通过电路连接所述真空计、质量流量显示仪、直流电源、射频电源、适配器、偏压电源、加热电源、温度控制仪和气源控制装置。

优选的，所述显示屏为触摸控制显示屏，方便技术人员直接在显示屏上设置和控制所述镀膜机的各项参数。

优选的，所述电源及控制系统设在机柜内部，更优选的，所述电源及控制系统的各个控制仪器的按键显示部分设在机柜的外表面。

优选的，所述机柜下方设置万向轮，便于技术人员移动所述镀膜机。

附图说明

图1所示为收放式挡板结构图。

图2所示为主机结构图。

图3所示为样品架结构图。

图4所示为样品挡板结构侧面图。

图5所示为样品挡板结构俯视图。

图6所示为磁控溅射镀膜机的整体机柜正面图。

附图中，1-主机，2-工作腔室，201-样品门，202-磁吸板，3-样品架，301-样品台，302-加热器，303-热电偶，304-托板，305-云母绝缘片，306-空轴，307-套轴，308-绝缘套管，309-轴承，310-固定环，311-主动齿轮，312-从动齿轮，313-第一电机，4-磁控靶，5-收放式挡板，501-第二气缸，502-挡板轴，503-第一连片，504-第二连片，505-靶挡板片，506-第二套体，507-合页，6-样品挡板，601-第一气缸，602-转挡轴，603-支柱，604-转挡连片，605-挡板，606-第一套体，7-分子泵，8-真空泵，9-机柜，10-电脑显示屏，11-风扇，12-电源及控制系统。

具体实施方式

实施例1

本实施例的收放式挡板结构如图1所示，收放式挡板5竖直放置，并包括第二气缸501、挡板轴502、第一连片503、第二连片504和靶挡板片505，第二气缸501设在工作腔室2的顶部，第二气缸501的活塞连接并能够带动挡板轴502做伸缩运动，第一连片503的顶部固定在第二气缸501外部的第二套体506上，底部铰接靶挡板片505，第二连片504的顶部连接挡板轴502，底部连接靶挡板片505，靶挡板片505的形状为圆形。靶挡板片505设在磁控靶4的下方，挡板轴502通过第二连片504带动靶挡板片505相对于第一连片503做伸展或收缩闭合的运动。

第二气缸501的一端连接气源，另一端设置挡板轴502，挡板轴502连接第二气缸501的活塞，并随活塞做伸缩运动，并且挡板轴502位于第二气缸501的外部，第二气缸501的外部靠近靶挡板片505的部分地设置第二套体506，用于保护第二气缸501免受溅射镀膜的影响，同时用于固定第一连片503。

第二气缸501连接气源的部分设置在工作腔室2的外部，有利于节省空间，缩小工作腔室2的体积，在第二气缸501与工作腔室2顶部的衔接处设置螺母和密封垫，保证收放式挡板5的稳定固定和工作腔室2的密闭性。

第一连片503的底部通过合页507连接靶挡板片505，使得靶挡板片505能够活动，当靶挡板片505伸展时，靶挡板片505以合页507为支点向上转动，即可遮挡磁控靶4；当靶挡板片505收缩闭合时，靶挡板片505以合页507为支点向下转动，即可远离磁控靶4。

第二连片504与挡板轴502和靶挡板片505连接的两处均为活动连接，在传动过程中，第二连片504的倾斜角度不断变化。

使用时，气源为第二气缸501供气，驱动活塞和挡板轴502向下伸出，第二连片504的顶端随挡板轴502向下运动，第二连片504的倾斜角度变小，逐渐趋向于水平，第二连片504的底端推动靶挡板片505向上运动，靶挡板片505以合页507为支点向上转动，即呈伸展状，可以遮挡磁控靶4的靶头；然后，第二气缸501驱动活塞和挡板轴502向上收缩，第二连片504的顶端随挡板轴502向上运动，第二连片504的倾斜角度变大，逐渐趋向于竖直，第二连片504的底端拉动靶挡板片505向下运动，靶挡板片505以合页507为支点向下转动，当五个磁控靶4对应的靶挡板片505均向下转动时，五个靶挡板片505即呈收缩闭合状，远离磁控靶4的靶头。

实施例2

本实施例的磁控溅射镀膜机的主机1结构如图2所示，主机1包括工作腔室2、样品架3、磁控靶4、实施例1的收放式挡板5和样品挡板6，主机1为溅射镀膜一体化装置的核心工作部件，磁控溅射镀膜操作在工作腔室2的内部进行。工作腔室2的上部圆台形状，圆台侧面为倾斜壁面，倾斜壁面与水平面的倾斜角度为45度。工作腔室2的中部和下部为圆柱体形状。工作腔室2的一侧设有样品门201，用于样品进出，样品门201与工作腔室2的门框之间设有磁吸板202，提高工作腔室2的密封性。当样品门201关闭时，工作腔室2内部形成密闭空间，在真空抽气装置的作用下形成真空环境。工作腔室2的材质为不锈钢。

磁控靶4通过法兰固定在工作腔室2上部的倾斜壁面上，并与倾斜壁面平行，使得磁控靶4具有与倾斜壁面相同的倾斜角度，磁控靶4的靶头面向工作腔室2内部。

磁控靶4的数量为五个，并均匀分布在倾斜壁面上，即不同磁控靶4的靶头朝向不同方向，每个磁控靶4可以设置不同的靶材，实现一次性多种材料镀膜或使用不同材料镀多层膜，同时使得样品台301上的样品能够接受多方向的靶材溅射镀膜。工作腔室2外设置五个高压连接器，每个高压连接器与对应的磁控靶4连接，高压连接器通过电路与电源及控制系统连接。

本实施例的样品架3的结构如图3所示，样品架3设置在磁控靶4的下方，包括样品台301、支撑连接装置和驱动旋转装置，支撑连接装置的顶部固定连接样品台301，底部穿过工作腔室2的底板连接驱动旋转装置的从动齿轮312，驱动旋转装置设置在工作腔室2的外部。样品架3能够手动实现升降升降，调整样品台301与磁控靶4之间的距离，样品架3还能够在驱动旋转装置的作用下旋转，调整样品台301上的样品与每个磁控靶4的对应关系，便于样品差异化镀膜。

样品台301为圆形板状，中部设有样品区，样品区表面均匀平整，有利于提高所有样品镀膜的一致性，样品区的直径为150mm，能够一次性处理100个样品，实现了处理样品的高通量。

样品台301的内部设有加热器302，底部设有热电偶303，加热器302与热电偶303相互接触，并通过电路连接加热电源。

样品台301的底部设有托板304，支撑样品台301，托板304的材质为不锈钢，满足样品台301与支撑连接装置的刚性连接需求。托板304与样品台301之间填充有云母绝缘片305，起到隔热和绝缘的双重作用，在提高热量利用率的同时，使得样品台301与地绝缘，样品台301可以承受1000v的偏压，实现快速加热。

支撑连接装置包括空轴306、套轴307、绝缘套管308、固定部件、密封部件和轴承309。空轴306的顶端套入绝缘套管308，并通过固定环310与绝缘套管308固定连接，绝缘套管308同样使得样品台301与地绝缘。绝缘套管308的顶端通过螺栓与托板304固定连接，即空轴306通过绝缘套管308与样品台301间接固定连接。空轴306的底部套入套轴307，空轴306能够在套轴307内伸缩，从而带动样品台301做升降运动。

套轴307穿过工作腔室2的底板的部位设置螺母、平垫、密封套，将支撑连接装置和样品台301稳固支撑，并保证工作腔室2的密封性。套轴307的外部套有两个轴承309，分别设在套轴307位于工作腔室2内部和外部的位置，使得套轴307在旋转时运动更加流畅。

驱动旋转装置包括主动齿轮311、从动齿轮312和第一电机313，第一电机313的转轴固定连接主动齿轮311，主动齿轮311与从动齿轮312咬合配合，从而第一电机313带动主动齿轮311和从动齿轮312转动。套轴307的底部穿过工作腔室2的底板后，穿过从动齿轮312，从动齿轮312带动套轴307和空轴306旋转，进而间接带动样品台301旋转。

本实施例的样品台301为手动升降。

根据样品台301上不同位置的样品的镀膜需要，样品挡板6能够临时遮挡样品台301上的不同位置，遮挡暂时不需要镀膜的样品。本实施例的样品挡板6结构如图4和5所示，样品挡板6水平放置，包括第一气缸601、转挡轴602、支柱603、两个转挡连片604和两个挡板605，第一气缸601的活塞连接并能够带动转挡轴602做伸缩运动，支柱603的底部垂直固定在转挡轴602上，支柱603的顶端同时连接两个转挡连片604的前端，两个转挡连片604的后端分别连接两个挡板605，支柱603通过两个转挡连片604带动两个挡板605相互靠近或相互远离，挡板605设在样品台301的上方。

第一气缸601的一端连接气源，另一端设置转挡轴602，转挡轴602连接第一气缸601的活塞，并随活塞做伸缩运动，并且转挡轴602位于第一气缸601外部，第一气缸601的外部且靠近挡板605的部分设置第一套体606，用于保护第一气缸601免受溅射镀膜的影响，同时用于固定挡板605。

第一气缸601连接气源的部分设置在工作腔室2的外部，有利于节省空间，缩小工作腔室2的体积，在第一气缸601与工作腔室2侧壁的衔接处设置螺母和多个密封圈，保证样品挡板6的稳定固定和工作腔室2的密闭性。

支柱603连接转挡连片604与转挡轴602，转挡连片604平行于转挡轴602。两个转挡连片604的前端上下重叠地连接在支柱603上，形成一个顶点，两个转挡连片604的后端分开呈一定角度，并分别连接两个二级转挡连片，两个二级转挡连片再分别连接两个挡板605。两个挡板605的后端上下重叠地固定在第一气缸601外部的套体606上，两个挡板605的后端形成一个顶点，两个挡板605的前端分开呈一定角度。

挡板605的形状为前宽后窄的扇形。本发明设计的样品挡板6，处于两个挡板605之间的样品暴露在磁控靶4之下，能够进行溅射镀膜，两个挡板605下方的样品由于被遮挡，不会被镀膜，只采用简单的驱动设备第一气缸601，以及转挡轴602、支柱603、转挡连片604形成的第一传动机构，即可调整两个挡板605之间的距离，再配合样品台301的旋转，即可控制样品台301上所有样品的镀膜顺序或差异化镀膜，满足多种镀膜要求，操作简单，易于控制。

使用时，气源为第一气缸601供气，驱动活塞做伸缩运动，活塞带动转挡轴602和支柱603做伸缩运动，由于转挡连片604的前端随支柱603向前伸出，两个转挡连片604之间的夹角减小，带动两个二级转挡连片之间的夹角减小，两个二级转挡连片的后端分别带动两个挡板650之间的夹角减小，两个挡板605相互靠近，暴露在两个挡板605之间的样品数量减少；活塞带动转挡轴602和支柱603收缩时，由于转挡连片604的前端随支柱603向后收缩，两个转挡连片604之间的夹角增大，带动两个二级转挡连片之间的夹角增大，两个二级转挡连片的后端分别带动两个挡板605之间的夹角增大，两个挡板605彼此远离，暴露在两个挡板605之间的样品数量增多。通过两个挡板605的开合，调整暴露在磁控靶4之下的样品台301的面积，即样品数量。

收放式挡板5的数量为五个，分别对应五个磁控靶4，收放式挡板5均设在工作腔室2的顶部，靶挡板片505处于对应的磁控靶的下方。第一气缸601和第二气缸501连接的气源为同一气源，通过并联气路分别连接第一气缸601和第二气缸501，并联气路上分别设置气压调节阀。

本实施例的磁控溅射镀膜机的整体结构如图6所示，真空抽气装置包括分子泵7、真空泵8和气体管路，分子泵7设在工作腔室2的下方，并与工作腔室2内部连通，真空泵8设在机柜9内的底部，真空泵8通过气体管路与分子泵7相连，为工作腔室2提供真空环境。

电源及控制系统12包括真空计、质量流量显示仪、直流电源、射频电源、适配器、偏压电源、加热电源、温度控制仪和气源控制装置，并设在机柜9内的下方；真空计监测和控制工作腔室2内部的真空度，真空计通过真空管路连接分子泵7和真空泵8；质量流量显示仪和射频电源通过气路和电路连接并控制每个磁控靶4的溅射镀膜；直流电源、适配器、偏压电源通过电路连接并控制驱动旋转装置，从而控制支撑杆和样品台301的旋转运动；加热电源和温度控制仪通过电路连接样品台301内部的加热丝302，且控制加热丝302的加热温度；气源控制装置通过电路连接并控制第一气缸601和第二气缸501。

电脑设在机柜9上部，连接并控制电源及控制系统12。电脑显示屏10设在机柜9外表面，显示溅射镀膜一体化装置的各项参数，例如真空度、磁控靶4工作数量及镀膜时间顺序、各个电源的电流电压、加热丝302的温度。

机柜9下方设置万向轮，便于技术人员移动溅射镀膜一体化装置。风扇11设在机柜9顶部，为机柜9内的各个部件降温。