镀膜置物架及镀膜机构的制作方法

本实用新型涉及镀膜技术领域，尤其是涉及一种镀膜置物架及镀膜机构。

背景技术：

为改善产品性能，大多工业产品表面都镀有功能薄膜，以优化产品表面光学、热学性能，传统的真空镀膜技术一般为物理气相沉积技术和化学气相沉积技术，物理气相沉积是利用蒸发或者溅射等物理形式，把固体的材料转化为院子、分子或者粒子态的气相物质沉积到基体或零件的表面，已形成膜层的制备方法，物理气相沉积技术具有薄膜均匀、靶材广泛、溅射范围宽的优点。

在对工件进行镀膜时，通过将待镀的工件置于镀膜架上进行镀膜，传统镀膜架的镀膜形式单一，镀膜的中心厚边缘薄，造成膜层的平整度较差、镀膜不均匀，镀膜效果差。

技术实现要素：

本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本实用新型提出一种镀膜置物架及镀膜机构，能够克服镀膜厚度不均匀的缺陷。

第一方面，本实用新型的一个实施例提供了一种镀膜置物架，包括：

载物盘，所述载物盘上设有多个安装腔；

支架基体，所述支架基体能够转动，所述载物盘转动连接于所述支架基体上，所述载物盘能够跟随所述支架基体转动以及相对所述支架基体进行转动；

料盘，所述料盘安装于所述安装腔内，并能够跟随所述载物盘转动。

本实用新型实施例中的镀膜置物架至少具有如下有益效果：

本实用新型中的镀膜置物架采用“自转加公转”的转动形式，使料盘在相对支架基体转动的同时，能够跟随支架基体的转动而转动，在进行镀膜时，位于支架基体不同位置处的待镀膜件能够跟随料盘的运动而进行移动，初始位于支架基体边缘处的料盘能够移动至支架基体的中心处以及其他区域，初始位于支架中心处的料盘能够移动至支架基体的边缘处以及其他区域，待镀膜件不会因为位置约束出现镀膜边缘薄中心厚的情况，使膜层的厚度更为均匀，优化镀膜效果以及工件的产品性能。

根据本实用新型的另一些实施例的镀膜置物架，所述支架基体上安装有中心轮盘，所述载物盘均匀分布于所述中心轮盘的周围。

根据本实用新型的另一些实施例的镀膜置物架，所述中心轮盘能够跟随所述支架基体转动，所述载物盘能够跟随所述中心轮盘的转动而转动。

根据本实用新型的另一些实施例的镀膜置物架，所述支架基体包括连接架及多根支撑架，所述支撑架的一端连接于所述支架基体的中心处，所述支撑架的另一端与所述连接架连接并基于所述支架基体的中心向外发散。

根据本实用新型的另一些实施例的镀膜置物架，所述支架基体还包括载物架，所述载物架转动连接于所述支撑架上，所述载物盘放置于所述载物架上。

根据本实用新型的另一些实施例的镀膜置物架，所述中心轮盘的边缘设有第一轮齿，所述载物架的边缘设有第二轮齿，所述第一轮齿与所述第二轮齿啮合。

根据本实用新型的另一些实施例的镀膜置物架，所述载物盘上分布有若干第一插接块，所述载物架上分布有若干第二插接块，所述第一插接块能够与所述第二插接块插接。

根据本实用新型的另一些实施例的镀膜置物架，所述料盘的侧部设有安装台阶，所述安装台阶能够与所述安装腔的端面抵接，以使所述料盘的表面与所述安装腔的壁面之间形成安装空间。

根据本实用新型的另一些实施例的镀膜置物架，所述料盘上设有若干镀膜孔，所述镀膜孔与所述安装空间连通。

第二方面，本实用新型的一个实施例提供了一种镀膜机构，包括上述的镀膜置物架。

本实用新型实施例中的镀膜机构至少具有如下有益效果：

通过设置镀膜置物架，使镀膜机构对镀件的镀膜厚度更为均匀，提高镀膜机构的镀膜良品率。

附图说明

图1是镀膜置物架一个实施例的结构示意图；

图2是图1隐藏载物盘后的结构示意图；

图3是图1中支架基体的结构示意图；

图4是图1中载物盘的结构示意图；

图5是图2中a部分的放大图；

图6是图4中b部分的放大图；

图7是图1中料盘的结构示意图；

图8是料盘安装完成后的局部示意图。

具体实施方式

以下将结合实施例对本实用新型的构思及产生的技术效果进行清楚、完整地描述，以充分地理解本实用新型的目的、特征和效果。显然，所描述的实施例只是本实用新型的一部分实施例，而不是全部实施例，基于本实用新型的实施例，本领域的技术人员在不付出创造性劳动的前提下所获得的其他实施例，均属于本实用新型保护的范围。

在本实用新型实施例的描述中，如果涉及到方位描述，例如“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

在本实用新型实施例的描述中，如果某一特征被称为“设置”、“固定”、“连接”、“安装”在另一个特征，它可以直接设置、固定、连接在另一个特征上，也可以间接地设置、固定、连接、安装在另一个特征上。在本实用新型实施例的描述中，如果涉及到“若干”，其含义是一个以上，如果涉及到“多个”，其含义是两个以上，如果涉及到“大于”、“小于”、“超过”，均应理解为不包括本数，如果涉及到“以上”、“以下”、“以内”，均应理解为包括本数。如果涉及到“第一”、“第二”，应当理解为用于区分技术特征，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量或者隐含指明所指示的技术特征的先后关系。

图1至图4示出了一个实施例中的镀膜置物架的结构示意图，参照图1至图4，本实施例中的镀膜置物架包括能够转动的支架基体100、载物盘200及料盘300，支架基体100用于安装及支撑载物盘200，载物盘200用于安装及支撑料盘300，料盘300上用于防止待镀的工件；具体的，支架基体100能够转动，载物盘200转动连接于支架基体100上，从而在支架基体100自身转动的过程中，载物盘200能够相对支架基体100进行转动，使载物盘200形成“自转及公转”的转动形式，载物盘200上设有多个安装腔210，料盘300能够卡入安装腔210内，实现料盘300与载物盘200之间的固定，使得料盘300能够跟随载物盘200的转动而转动，通过设置多个安装腔210，增加了单次镀膜的待镀件个数，提高镀膜效率，待镀膜件能够安装于安装腔210内，料盘300的上表面能够承接待镀膜件，实现待镀膜件与料盘300之间的固定连接，使待镀膜件能够跟随料盘300转动。

本实施例中的镀膜置物架采用“自转加公转”的转动形式，使料盘300在相对支架基体100转动的同时，能够跟随支架基体100的转动而转动，在进行镀膜时，位于支架基体100不同位置处的待镀膜件能够跟随料盘300的运动而进行移动，初始位于支架基体100边缘处的料盘300能够移动至支架基体100的中心处以及其他区域，初始位于支架中心处的料盘300能够移动至支架基体100的边缘处以及其他区域，待镀膜件不会因为位置约束出现镀膜边缘薄中心厚的情况，使膜层的厚度更为均匀，优化镀膜效果以及工件的产品性能。

需要说明的是，本实施例中的支架基体100上连接有动力驱动装置，该动力驱动装置可选择为电机、马达、旋转气缸、电缸等部件，以为支架基体100的转动提供动力支持，在保证驱动力驱动装置与支架基体100连接并能驱动支架基体100运动的前提下，该动力驱动装置可以连接于支架基体100的中心处或者其他位置。

本实施例中，支架基体100的中心处安装有中心轮盘110，载物盘200均匀分布于中心轮盘110的周围，支架基体100的底部设有中心轴120，中心轮盘110与该中心轴120连接，中心轴120与上述的动力驱动装置连接并能够在动力驱动装置的带动下转动，使得中心轮盘110能够在跟随中心轴120的转动而转动。需要说明的是，中心轴120可与中心轮盘110转动连接，中心轮盘110与中心轴120可通过不同的驱动装置进行动力驱动，同样实现中心轴120与中心轮盘110的转动。本实施例中的载物盘200在中心轮盘110的外周均匀围设有一圈，载物盘200整体相对于中心轮盘110的中心呈中心对称，以保证镀膜的均匀性；当然，载物盘200还可设置为交错式分布(在远离中心轮盘110的区域跳动式靠近、远离中心区域)或者在中心轮盘110的外周排布不少于两圈，以进一步提高镀膜效率。

参照图3，本实施例中，支架基体100包括连接架130及多根支撑架140，连接架130呈环形并置于支架基体100的顶部，支撑架140的一端与中心轴120连接，支撑架140的另一端与连接架130连接，并且支撑架140基于与中心轴120的连接处向远离中心轴120的方向发散，从而使得支架基体100呈伞状，载物盘200转动连接于支撑架140上，支撑架140的发散式分布为载物盘200提供了安装空间320，避免相邻载物盘200之间干涉。

可在支架基体100上设置动力元件，该动力元件与载物盘200连接并用于驱动载物盘200转动，每一动力元件可与载物盘200连接并驱动该第一载物盘200转动，或者每一动力元件与多个载物盘200连接并用于驱动多个载物盘200同时进行转动；动力元件可选用电机、马达等部件。也可在载物盘200与中心轮盘110之间设置动力传动件，实现中心轮盘110向载物盘200的动力传递，如，在载物盘200与中心轮盘110的外周绕设传送带，通过带传动实现中心轮盘110与载物盘200之间的动力传递以及同步运动，实现载物盘200在跟随支架基体100转动的同时相对支架基体100进行转动。参照图5，本实施例中，支撑架140上还固定有载物架150，载物盘200安装于载物架150上，中心轮盘110的边缘设有第一轮齿111，载物架150的边缘设有第二轮齿152，第一轮齿111与第二轮齿152之间啮合，因此载物盘200能够跟随载物架150的转动而跟随中心轮盘110的转动而转动，因所有载物架150的第二轮齿152均与中心轮盘110的轮齿啮合，因此全部的载物盘200均能够跟随中心轮盘110同步转动，从而所有料盘300的转速相同、位移相同，以进一步保证镀膜的均匀性；支撑架140上架设有转轴153，该转轴153与载物架150连接，载物架150能够跟随转轴153的转动实现相对支架基体100的转动。

上述载物架150与中心轮盘110之间的啮合形式不限于此，如，只设置一个载物架150的轮齿与中心轮盘110的轮齿啮合，使中心轮盘110转动时只带动一个载物架150转动，相邻的载物架150上的第二轮齿152相互啮合，通过与中心轮盘110啮合的在载物架150的带动，使其他载物架150能够跟随中心轮盘110同步转动，同样能够实现载物架150与中心轮盘110之间的动力传递。

本实施例中，每一支撑架140上均安装有一个载物架150，载物架150呈盘状并用于安装及支撑载物盘200。具体的，参照图6，载物盘200的底面上设有若干第一插接块210，载物架150的上表面分布有若干第二插接块151，第一插接块210与第二插接块151的个数相同，并且第一插接块210与第二插接块151上均设有相互适配的凹槽211及凸起212，第一插接块210上的凸起212能够插入第二插接块151上的凹槽211内，第二插接块151上的凸起212可以插入第一插接块210上的凹槽211内，从而实现第一插接块210与第二插接块151之间的插接；第一插接块210与第二插接块151的分布形式相同，以第一插接块210为例，不同第一插接块210上凹槽211的开口方向均与载物盘200的切线方向平行，因此在第一插接块210与第二插接块151进行插接时，将第一插接块210与第二插接块151的凹槽211与凸起212对准，并将载物盘200或者载物架150转动一个角度即可，操作较为便捷。本实施例中，载物盘200上还固定有若干把手220，便于操作人员把持，使载物盘200的安装更具便利性。

参照图7与图8，本实施例中的料盘300边缘设有安装台阶310，安装台阶310能够扣接于载物盘200安装腔210的壁面上，实现安装腔210对料盘300的限位及固定。安装腔210可在载物盘200上呈环状排列、发散式直线排列，本实施例中，安装腔210在载物盘200上结合环形及发散式的排布方式，安装腔210排列呈三条直线，三条直线将载物盘200分成三等分的扇形，每个扇形区域内，安装腔210排列呈两个环形，通过上述排列方式，使载物盘200上的安装腔210数量最多，提高单次镀膜件的数量，进一步优化镀膜效率。

料盘300置于安装腔210内后，料盘300的上表面基于载物盘200的上表面向内凹陷，形成能够容置待镀膜件的安装空间320，待镀膜件能够嵌入该安装空间320内，实现对待镀膜件的定位。料盘300上设有多个镀膜孔330，料盘300的背部还设有多个容置腔340，容置腔340、镀膜孔330与安装空间320连通，在进行镀膜时，镀源位于料盘300的下方，镀源能够伸入镀膜孔330内，多余镀源能够通过镀膜孔330存置于容置腔340内，防止造成溢镀，影响待镀膜件的达因值，进而提高镀膜良率。

本实用新型还提供了一种镀膜机构，镀膜机构包括上述的镀膜置物架，通过设置镀膜置物架，使镀膜机构对镀件的镀膜厚度更为均匀，提高镀膜机构的镀膜良品率。镀膜机构还包括镀源及镀台，镀台用于安装及支撑镀源，并使镀源转动及移动，以保证镀源能够对应不同位置处的料盘300。镀源可采用蒸镀坩埚，镀台上可安装多个镀源，每一镀源可根据蒸发孔的数量及排布方式选择相应类型，如点旋转式镀源、线旋转式镀源或者面旋转式镀源。镀台采用可转动形式，镀源安装于镀台上后能够跟随镀台的转动而进行位置移动，以使镀源能够对不同位置处的待镀膜件进行镀膜，并通过循环移动，提高对带镀膜件镀膜的均匀性。

上面结合附图对本实用新型实施例作了详细说明，但是本实用新型不限于上述实施例，在所述技术领域普通技术人员所具备的知识范围内，还可以在不脱离本实用新型宗旨的前提下作出各种变化。此外，在不冲突的情况下，本实用新型的实施例及实施例中的特征可以相互组合。