用于替换坩埚的蒸发沉积系统的制作方法

相关申请的交叉引用

本申请是基于于2018年10月24日提交的韩国专利申请第2018-0127647号并且主张所述申请的优先权的权益，通过引用将所述申请的整体内容结合在此。

本公开内容涉及用于替换坩埚的蒸发沉积系统，并且更具体地，涉及用于通过蒸发有机材料、无机材料、金属等以在基板表面上形成薄膜来替换坩埚的蒸发沉积系统。

背景技术：

蒸发器是一种通过使用诸如化学气相沉积(chemicalvapordeposition；cvd)、物理气相沉积(physicalvapordeposition；pvd)、蒸发沉积等的方法在基板表面上形成薄膜的装置，所述基板诸如用于制造半导体的晶片、用于制造液晶显示器(liquidcrystaldisplay；lcd)的基板、用于制造有机发光二极管(organiclightemittingdiode；oled)的基板等。

此外，在用于制造oled的基板的情况下，在沉积材料的沉积中采用通过蒸发有机材料、无机材料、金属等在基板表面上形成薄膜的工艺。在其中执行沉积工艺的真空腔室中，可提供蒸发源、玻璃基板、掩模、对准装置等。

通过蒸发沉积材料(蒸发材料)形成薄膜的oled蒸发器可包括其中垂直装载沉积基板的沉积腔室、安装在沉积腔室内部并且加热和蒸发沉积材料以便相对于基板蒸发沉积材料的源，其中所述沉积材料被蒸发以在基板表面上形成薄膜。

此外，所述源可包括容纳沉积材料的蒸发容器(坩埚)、加热蒸发容器的加热器、耦接至蒸发容器的管件、朝向基板突出并且与管件连通的多个喷嘴。

在oled基板上沉积沉积材料时存在各种问题。作为一实例，取决于蒸发容器的容量，沉积材料受限地容纳在蒸发容器之内，其中因为蒸发容器的容量小于用于在大型基板上以所需水平形成薄膜的沉积材料的总量，所以坩埚应替换几次至几十次，以便将沉积材料的薄膜在大型基板上沉积到所需水平。

所述源加热和蒸发真空腔室中的沉积材料，但是坩埚替换是在真空腔室之外进行，并且因此将多个源交替取出几次至几十次并且随后在坩埚替换之后重新装载所述源会花费大量能量和时间。

技术实现要素：

鉴于上文，本公开内容的目的是提供一种用于替换坩埚的蒸发沉积系统，所述系统使用最少的源在大型基板上沉积薄膜，并且促进坩埚替换。

根据本公开内容的一个实施方式，提供了一种用于替换坩埚的蒸发沉积系统，所述系统包括：真空腔室，所述真空腔室被配置为容纳基板；蒸发源，被配置为供应气相沉积材料至基板；多个移动腔室，每个腔室被配置为容纳蒸发源并且沿着轨道移动；和连接腔室，所述连接腔室被配置为连接移动腔室和真空腔室，其中每个移动腔室的前表面具有第一开口和第一开关阀，气相沉积材料通过所述第一开口移动至连接腔室中，并且第一开关阀打开和关闭第一开口。

连接腔室具有第一入口，移动腔室通过第一入口进出连接腔室，并且第一接触构件可设置在第一入口中，所述第一接触构件与移动腔室的外表面选择性地接触。

连接壳体可分别在移动方向上耦接至每个移动腔室的两个端部，多个移动腔室可通过连接壳体连接以整体地移动，连接腔室具有第一入口，移动腔室和移动壳体可通过第一入口进出连接腔室，并且第一接触构件可设置在第一入口中，所述第一接触构件与连接壳体的外表面选择性地紧密接触。

第二开口可分别在移动方向上设置于每个移动腔室的两个端部，并且每个连接壳体具有打开和关闭第二开口的第二开关阀。

蒸发源可包括：分配管，所述分配管被配置为通过喷嘴喷射气相沉积材料；蒸发坩埚，所述蒸发坩埚耦接至分配管并且配置为容纳气相沉积材料；支撑件，所述支撑件可移动地安装至轨道；和致动器，所述致动器安装在支撑件上以升高和降低蒸发坩埚，并且所述蒸发坩埚可通过第二开口进入和离开。

在移动腔室中，分隔壁可被设置在分配管与蒸发坩埚之间的移动腔室的每个腔室中，分配管可通过穿过分隔壁的连接部耦接至蒸发坩埚，并且闸阀(gatevalve)可设置在连接部中。

连接腔室具有面向移动腔室的前表面的第二入口，并且第二接触构件可设置在第二入口中，所述第二接触构件与移动腔室的前表面选择性地紧密接触。

连接壳体可分别在移动方向上耦接至每个移动腔室的两个端部，多个移动腔室可通过连接壳体连接以整体地移动，连接腔室具有第二入口，所述第二入口面向移动腔室和连接腔室的前表面，并且第二接触构件可设置在第二入口中，所述第二接触腔室与移动腔室和连接壳体的前表面选择性地紧密接触。

每个移动腔室的后表面具有：第三开口，蒸发源的蒸发坩埚通过所述第三开口进出每个移动腔室；和第三开关阀，所述第三开关阀打开和关闭第三开口。

真空腔室具有：第四开口，真空腔室通过所述第四开口与连接腔室连通；和第四开关阀，所述第四开关阀打开和关闭所述第四开口。

根据根据本公开内容的示例性实施方式的用于替换坩埚的蒸发沉积系统，可以使用最少的源在大型基板上沉积薄膜并且可以通过沿着轨道移动多个移动腔室来促进坩埚替换，每个移动腔室容纳蒸发源，并且通过连接腔室将移动腔室和真空腔室连接。

附图说明

图1至图3是根据本公开内容的示例性实施方式的用于替换坩埚的蒸发沉积系统的示意图；

图4a和图4b是根据本公开内容的示例性实施方式的用于替换坩埚的蒸发沉积系统的示意性侧视图；

图5至图7是根据本公开内容的另一示例性实施方式的用于替换坩埚的蒸发沉积系统的示意图；

图8a和图8b是根据本公开内容的另一示例性实施方式的用于替换坩埚的蒸发沉积系统的示意性侧视图；和

图9是根据本公开内容的又一示例性实施方式的用于替换坩埚的蒸发沉积系统的示意图。

具体实施方式

在下文中，将参照附图来具体地描述本公开内容的示例性实施方式，以便更详细地描述本公开内容。在整个说明书中，相似的元件符号表示相似的元件。

图1至图3是根据本公开内容的示例性实施方式的用于替换坩埚的蒸发沉积系统的示意图，并且图4a和图4b是根据本公开内容的示例性实施方式的用于替换坩埚的蒸发沉积系统的示意性侧视图。

如图1至图4中所示，根据本公开内容的示例性实施方式用于替换坩埚的蒸发沉积系统10的特征在于，分别容纳蒸发源200的多个移动腔室300选择性地连接至容纳基板1的真空腔室100，并且蒸发沉积系统10包括真空腔室100、蒸发源200、移动腔室300和连接腔室400。根据本公开内容的示例性实施方式的用于替换坩埚的蒸发沉积系统10可通过控制器(未示出)自动地控制。

如图1至图3中所示，真空腔室100被配置为在所述腔室中形成真空状态，并且在真空腔室100中提供用于输送基板1的输送轨道120。因为用于输送基板1的输送轨道120是在韩国专利待审公开第2018-0005285号中披露的众所周知的技术，因此将省略所述技术的详细描述。

如图1至图3中所示，在真空腔室100中以直立状态提供基板1。在真空腔室100中，在面向基板1的正面的壁中设置第四开口。第四开口是与连接腔室400连通的部分，并且通过第四开关阀v4打开或关闭。尽管没有给第四开口提供元件符号，但是第四开口应被理解为第四开关阀v4的一部分。在图4中，省略示出第四开关阀v4。

尽管未示出，掩模和支撑掩模的框架安装在基板1的前侧。在根据本公开内容的示例性实施方式的用于替换坩埚的蒸发沉积系统10中，当基板1沿着输送轨道120移动时，气相沉积材料被涂布。此外，另外地或可替代地，在根据本公开内容的示例性实施方式的用于替换坩埚的蒸发沉积系统10中，在其中停止蒸发源200的状态下，当基板1沿着输送轨道120移动时，气相沉积材料被涂布。

基板1的表面涂布有由金属材料或类似者组成的材料。金属材料可由金属、钙、铝、钡、钌、镁、银或类似者制成。

如图1至图3中所示，真空腔室100通过闸阀110与另一腔室(未示出)选择性地连接或隔离。当完成沉积材料的沉积时，打开闸阀110，基板1沿着输送轨道120移动至另一腔室以进行后续工艺。尽管未示出，真空腔室100通过真空泵形成真空状态。

蒸发源200将气相沉积材料提供至基板1，并且被提供在移动腔室300中。在其中移动腔室300停止的状态下，蒸发源200在基板1的正面上排出气相沉积材料，所述基板在沿着输送轨道120的水平方向上移动。蒸发源200被配置为包括分配管210、蒸发坩埚220、和支撑件230。

图1至图3示出根据本公开内容的示例性实施方式的包括作为蒸发源200的一对分配管210和一对蒸发坩埚220的类型。例如，在一对蒸发坩埚220的任何一个坩埚中包含的沉积材料可提供有银(ag)，并且在任何一个坩埚中包含的沉积材料可提供有镁(mg)。

如图4中所示，分配管210被配置为通过喷嘴211排出气相沉积材料，并且形成为在纵向方向上较长。在纵向方向上较长的内部空间形成在分配管210内部。多个喷嘴211沿着长度方向形成在分配管210中。

尽管未详细示出，分配管210可以多层结构形成。例如，分配管210可具有多层结构，所述多层结构包括：第一层，所述第一层形成内部空间的边界并且与气相沉积材料接触；第二层，在所述第二层中安装加热器；第三层，所述第三层将加热器的热能朝向第二层反射；和第四层，所述第四层形成分配管210的外表面并且制冷剂通过所述第四层流动；等等。

分配管210的此多层结构形成最大化加热器的热能效率的结构。因为分配管210的所述多层结构是在韩国专利公开第685431号和第928136号中披露的众所周知的技术，所以将省略所述技术的详细描述。

如图4中所示，蒸发坩埚220被配置为容纳沉积材料(未示出)，并且设置在分配管210之下。尽管未详细示出，蒸发坩埚220可具有多层结构。例如，蒸发坩埚220可具有多层结构，所述多层结构包括与沉积材料接触的第一层、其中安装有加热器的第二层、和将加热器的热能朝向第二层反射的第三层，等等。

分配管210通过连接部212耦接至蒸发坩埚220。连接部212形成在分配管210的下端部。连接部212意指从分配管210朝向蒸发坩埚220延伸的导管。第一法兰(flange)p1形成在蒸发坩埚220的上端部，并且第二法兰p2形成在连接部212的下端部。连接部212和蒸发坩埚220是通过法兰连接结构连接的。尽管未示出，但是第一法兰p1和第二法兰p2可通过夹具或螺栓紧固形成耦合力。

如图1至图4中所示，支撑件230支撑蒸发坩埚220和分配管210，并且可移动地安装至轨道r。参照韩国专利待审公开第2018-0005285号，支撑件230可安装有沿着轨道r形成输送力的传输装置。

如图4中所示，支撑件230具有升高蒸发坩埚220的致动器231。致动器231被配置为形成用于升高蒸发坩埚220的力，并且作为液压缸或线性致动器提供。致动器231形成通过液压或电动机的驱动力升高负载的结构。底座板(seatingpanel)232耦接至致动器231的负载的上端。在其中蒸发坩埚220安置在底座板232的上表面的状态下，所述坩埚被致动器231升高。底座板232可以板的形式制造。当在图4b中所示的状态中蒸发坩埚220由致动器231升高时，第一法兰p1的上表面与第二法兰p2的下表面紧密接触。

如图1至图4中所示，移动腔室300被配置为容纳蒸发源200，并且从真空腔室100的外部沿着轨道r移动或停止。在真空腔室100的外底部表面上提供用于输送移动腔室300的轨道r。移动腔室300通过支撑件230可移动地安装至轨道r。因为移动腔室300安装在轨道r上，所以移动腔室300与底表面间隔开。

如图4中所示，在移动腔室300中，分隔壁310设置在分配管210和蒸发坩埚220之间。分隔壁310将移动腔室300的内部空间上下分隔，以阻止气体在分配管210的上部空间和蒸发坩埚220的下部空间之间的移动。分配管210通过穿过分隔壁310的连接部212耦接至蒸发坩埚220。因此，气体仅通过分配管210在基于分隔壁310的上部空间和下部空间之间移动是可能的。连接部212具有闸阀(gv)以阻止气体的移动。因此，当闸阀gv关闭时，在基于分隔壁310的上部空间和下部空间之间的气体移动被完全阻止。

如上所述，支撑件230可安装有沿着轨道r形成输送力的传输装置。尽管未示出，移动腔室300通过真空泵形成真空状态。

如图1至图3中所示，连接壳体300a分别地在移动方向上耦接至移动腔室300的两个端部，并且多个移动腔室300通过连接壳体300a连接以沿着轨道r整体地移动。移动腔室300和连接壳体300a是以长方体的形式制造。此外，移动腔室300和连接壳体300a在轨道r的宽度方向上形成相同宽度。因此，如图1中所示，移动腔室300和连接壳体300a在耦接状态下沿着轨道r的长度方向形成长的长方体形状。尽管未示出，连接壳体300a可与移动腔室300整体地制造。

如图1至图3中所示，连接腔室400被配置为将移动腔室300和真空腔室100连接，并且耦接至真空腔室100的外壁表面。当第四开关阀v4打开时，真空腔室100和连接腔室400通过第四开口连接。尽管未示出，连接腔室400通过真空泵形成真空状态。

如上所述，在真空腔室100的外底部表面上提供用于输送移动腔室300的轨道r。如图4中所示，轨道r形成为穿过连接腔室400的内部。即，轨道r也设置在连接腔室400的内部底表面上。

如图1至图4中所示，连接腔室400可具有第一入口，移动腔室300通过所述第一入口进出。如上所述，轨道r形成为穿过连接腔室400的内部。因此，第一入口分别设置在轨道r所穿过的连接腔室400的两个壁中。尽管没有给第一开口提供元件符号，但是第一开口应被理解为第一接触构件d1的一部分。

如图4中所示，第一入口形成矩形，所述矩形分别与移动腔室300的顶表面和底表面、移动腔室300的前表面(面向基板1的表面)和后表面(与前表面相对的表面)间隔开。尽管第一入口的上部未在图4中示出，但可以理解，第一入口的上部和下部大致基于分隔壁310对称。

与连接壳体300a的外表面选择性地紧密接触的第一接触构件d1形成在第一入口处。如图4a中所示，第一接触构件d1被配置为选择性地密封连接腔室400，并且在其中移动腔室300停止的状态下，第一接触构件d1与连接壳体300a的外表面紧密接触。当连接壳体300a与移动腔室300整体地制造时，第一接触构件d1与移动腔室300的外表面紧密接触。

如图4b中所示，当移动腔室300移动时，第一接触构件d1与移动腔室300的外表面和连接壳体300a间隔开。应将理解，在图1和图3中，在其中移动腔室300停止的状态下，第一接触构件d1与连接壳体300a的外表面紧密接触。应将理解，在图2中，在移动移动腔室300的过程中，第一接触构件d1与连接壳体300a的外表面间隔开。第一接触构件d1被配置为包括侧接触构件d1a和上部与下部接触构件d1b。

侧接触构件d1a被配置为与连接壳体300a的两侧紧密接触，并且分别设置在第一入口的左侧和右侧上。图4a示出其中一对侧接触构件d1a分别与连接壳体300a的左侧和右侧紧密接触的状态。图4b示出其中一对侧接触构件d1a分别与连接壳体300a的左侧和右侧间隔开的状态。

侧接触构件d1a是以在纵向上较长的板的形式制造。在侧接触构件d1a中，分别安装用于阻挡在侧接触构件d1a和连接壳体300a之间的间隙的填料，和用于阻挡在侧接触构件d1a和连接腔室400之间的间隙的填料。尽管未示出，但是所述一对侧接触构件d1a通过致动器231分别与连接壳体300a的侧表面紧密接触或间隔开。

上部和下部接触构件d1b被配置为与连接壳体300a的上表面和下表面紧密接触，并且分别设置在第一入口的上侧和下侧上。图4a示出其中上部和下部接触构件d1b与连接壳体300a的底部紧密接触的状态。图4b示出其中上部和下部接触构件d1b与连接壳体300a的底部间隔开的状态。尽管在第一入口的上侧上提供的上部和下部接触构件d1b未在图4中示出，但是上部和下部接触构件d1b可理解为与在第一入口的下侧上提供的上部和下部接触构件d1b相同的结构。轨道r未设置在提供上部和下部接触构件d1b的位置处。

上部和下部接触构件d1b是以在水平方向上较长的板的形式制造。在上部和下部接触构件d1b中，分别安装用于阻挡在上部和下部接触构件d1b与连接壳体300a之间的间隙的填料，和用于阻挡在上部和下部接触构件d1b与连接构件400之间的间隙的填料。尽管未示出，但是所述一对上部和下部接触构件d1b可通过致动器231分别与连接壳体300a的上表面和下表面紧密接触或间隔开。

如图1至图3所示，第一开口设置在移动腔室300的前侧上，气相沉积材料通过所述第一开口移动至连接腔室400中。第一开口是与连接腔室400连通的部分，并且通过第一开关阀v1打开或关闭。尽管没有给第一开口提供元件符号，但是第一开口应被理解为第一开关阀v1的一部分。在图4中，省略示出第一开关阀v1。

第二开口分别在移动方向上形成在移动腔室300的两个端部。第二开口是当替换蒸发坩埚220时蒸发坩埚220进入和离开的部分。连接壳体300a具有打开和关闭第二开口的第二开关阀v2。如上所述，连接壳体300a分别在移动方向上耦接至移动腔室300的两个端部。因此，移动腔室300的内部空间通过第二开关阀v2与外部空间连接或隔离。

在下文中，描述了根据本公开内容的示例性实施方式的用于替换坩埚的蒸发沉积系统10的使用状态。在下文中，在图1至图3中，为了易于理解使用状态，左移动腔室300被称为第一移动腔室300，并且设置在第一移动腔室300中的蒸发源200被称为第一蒸发源200。此外，在图1至图3中，右移动腔室300被称为第二移动腔室300，并且设置在第二移动腔室300中的蒸发源200被称为第二蒸发源200。另外，在图1至图3中，第一移动腔室300的左连接壳体300a被称为第一连接壳体300a，并且第二移动腔室300的右连接壳体300a被称为第二连接壳体300a。

根据本公开内容的示例性实施方式的用于替换坩埚的蒸发沉积系统10可通过控制器(未示出)自动地控制。

如图1至图3中所示，移动腔室300从真空腔室100的外部沿着轨道r移动或停止。多个移动腔室300通过连接壳体300a连接以沿着轨道r整体地移动。如图2和图4b中所示，当移动腔室300移动时，第一接触构件d1与移动腔室300的外表面间隔开。当移动腔室300移动时，第一开口、第二开口和第四开口关闭。

如图1和图4a中所示，在其中移动腔室300停止的状态下，第一接触构件d1在第一移动腔室300的两侧上与连接壳体300a的外表面紧密接触。当第一接触构件d1密封连接腔室400时，操作真空腔室100，以便使连接腔室400的内部处于真空状态。当连接腔室400的内部处于真空状态时，第一移动腔室300的第一开关阀v1和第四开关阀v4打开。

在所述状态下，填充在蒸发坩埚220中的沉积材料被加热器加热，并且从分配管210的喷嘴211朝向基板1排出气相沉积材料。在其中第一蒸发源200停止的状态下，在基板1沿着输送轨道120移动的同时，用气相沉积材料涂覆基板。当填充在蒸发坩埚220中的沉积材料耗尽时，第一移动腔室300的第一开关阀v1、第一蒸发源200的闸阀gv、和第四开关阀v4关闭。随后，第一接触构件d1在第一移动腔室300的两侧上与连接壳体300a的外表面间隔开。

如图2至图3中所示，移动腔室300从真空腔室100的外部沿着轨道r移动。如图3和图4a中所示，在其中移动腔室300停止的状态下，第一接触构件d1在第二移动腔室300的两侧上与连接壳体300a的外表面紧密接触。当第一接触构件d1密封连接腔室400时，操作真空腔室100，以便使连接腔室400的内部处于真空状态。当连接腔室400的内部处于真空状态时，第二移动腔室300的第一开关阀v1和第四开关阀v4打开。

在所述状态下，填充在蒸发坩埚220中的沉积材料被加热器加热，并且从分配管210的喷嘴211朝向基板1排出气相沉积材料。在其中第二蒸发源200停止的状态下，在基板1沿着输送轨道120移动的同时，用气相沉积材料涂覆基板1。

此时，第一连接壳体300a的第二开关阀v2打开，并且第一蒸发源200的蒸发坩埚220被替换。如上所述，在其中闸阀gv关闭的状态下，在基于分隔壁310的上部空间和下部空间之间的气体移动被完全阻止。因此，在替换蒸发坩埚220的过程中，外部空气的流入被阻挡在分隔壁310的上部空间中。当替换蒸发坩埚220时，第一连接壳体300a的第二开关阀v2关闭。然后，操作真空腔室100，以便使第一移动腔室300的内部再次处于真空状态。

当填充在第二蒸发源200的蒸发坩埚220中的沉积材料耗尽时，第二移动腔室300的第一开关阀v1、第二蒸发源200的闸阀gv和第四开关阀v4关闭。随后，第一接触构件d1在第二移动腔室300的两侧上与连接壳体300a的外表面间隔开。如图1和图2中所示，移动腔室300从真空腔室100的外部沿着轨道r移动。此后，重复上述过程。

图9是根据本公开内容的又一示例性实施方式的用于替换坩埚的蒸发沉积系统的示意图。

如图9中所示，在根据本公开内容的又一示例性实施方式的用于替换坩埚的蒸发沉积系统30中，在基于轨道r的两侧上提供真空腔室100。连接腔室400连接两个真空腔室100。所述一对蒸发源200设置在移动腔室300中以朝向两个沉积腔室100排出气相沉积材料。

图5至图7是根据本公开内容的另一示例性实施方式的用于替换坩埚的蒸发沉积系统的示意图，图8a和图8b是根据本公开内容的另一示例性实施方式的用于替换坩埚的蒸发沉积系统的示意性侧视图。

如图5至图8中所示，根据本公开内容的另一示例性实施方式用于替换坩埚的蒸发沉积系统20的特征在于，分别容纳蒸发源200的多个移动腔室300选择性地连接至容纳基板1的真空腔室100，并且蒸发沉积系统20包括真空腔室100、蒸发源200、移动腔室300和连接腔室400。根据本公开内容的另一示例性实施方式的用于替换坩埚的蒸发沉积系统20可通过控制器(未示出)自动地控制。

如图5至图7中所示，真空腔室100被配置为在所述腔室中形成真空状态，并且在真空腔室100中提供用于输送基板1的输送轨道120。因为用于输送基板1的输送轨道120是在韩国专利待审公开第2018-0005285号中披露的众所周知的技术，因此将省略所述技术的详细描述。

如图5至图7中所示，在真空腔室100中以直立状态提供基板1。在真空腔室100中，在面向基板1的正面的壁中形成第四开口。第四开口是与连接腔室400连通的部分，并且通过第四开关阀v4打开或关闭。尽管没有给第四开口提供元件符号，但是第四开口应被理解为第四开关阀v4的一部分。在图8中，省略示出第四开关阀v4。

尽管未示出，掩模和支撑掩模的框架安装在基板1的前侧。在根据本公开内容的另一示例性实施方式的用于替换坩埚的蒸发沉积系统20中，在其中蒸发源200停止的状态下，当基板1沿着输送轨道120移动时，基板1被气相沉积材料涂布。

基板1的表面涂布有由金属材料或类似者制成的沉积材料。金属材料可由金属、钙、铝、钡、钌、镁、银或类似者制成。

如图5至图7中所示，真空腔室100通过闸阀110与另一腔室(未示出)选择性地连接或隔离。当完成沉积材料的沉积时，打开闸阀110，基板1沿着输送轨道120移动至另一腔室以进行后续工艺。尽管未示出，真空腔室100通过真空泵形成真空状态。

蒸发源200将气相沉积材料提供至基板1，并且被提供在移动腔室300中。当移动腔室300停止时，蒸发源200在基板1的正面上排出气相沉积材料，所述基板沿着输送轨道120的水平地移动。蒸发源200包括分配管210、蒸发坩埚220、和支撑件230。

图5至图7示出根据本公开内容的另一示例性实施方式的包括作为蒸发源200的一对分配管210和一对蒸发坩埚220的类型。例如，在一对蒸发坩埚220的任何一个坩埚中包含的沉积材料可提供有银(ag)，并且在另一坩埚中包含的沉积材料可提供有镁(mg)。

如图8中所示，分配管210被配置为通过喷嘴211排出气相沉积材料，并且形成为在纵向方向上较长。在纵向方向上较长的内部空间形成在分配管210内部。多个喷嘴211沿着长度方向形成在分配管210中。

尽管未详细示出，分配管210可以多层结构形成。例如，分配管210可具有多层结构，所述多层结构包括：第一层，所述第一层形成内部空间的边界并且与气相沉积材料接触；第二层，在所述第二层中安装加热器；第三层，所述第三层将加热器的热能朝向第二层反射；和第四层，所述第四层形成分配管210的外表面并且制冷剂通过所述第四层流动；等等。

分配管210的此多层结构形成最大化加热器的热能效率的结构。因为分配管210的多层结构是在韩国专利公开第685431号和第928136号中披露的众所周知的技术，所以将省略所述技术的详细描述。

如图8中所示，蒸发坩埚220被配置为容纳沉积材料(未示出)，并且设置在分配管210之下。尽管未详细示出，蒸发坩埚220可具有多层结构。例如，蒸发坩埚220可具有多层结构，所述多层结构包括与沉积材料接触的第一层、其中安装有加热器的第二层、和将加热器的热能朝向第二层反射的第三层，等等。

分配管210通过连接部212耦接至蒸发坩埚220。连接部212形成在分配管210的下端部。连接部212意指从分配管210朝向蒸发坩埚220延伸的导管。第一法兰p1形成在蒸发坩埚220的上端部，并且第二法兰p2形成在连接部212的下端部。连接部212和蒸发坩埚220是通过法兰连接结构连接的。尽管未示出，但是第一法兰p1和第二法兰p2可通过夹具或螺栓紧固形成耦合力。

如图5至图8中所示，支撑件230支撑蒸发坩埚220和分配管210，并且可移动地安装至轨道r。参照韩国专利待审公开第2018-0005285号，支撑件230可安装有沿着轨道(r)形成输送力的传输装置。

如图8中所示，支撑件230具有升高蒸发坩埚220的致动器231。致动器231被配置为形成用于升高蒸发坩埚220的力，并且作为液压缸或线性致动器提供。致动器231形成通过液压或电动机的驱动力升高负载的结构。底座板232耦接至致动器231的负载的上端。在其中蒸发坩埚220安置在底座板232的上表面的状态下，所述坩埚被致动器231升高。底座板232可以板的形式制造。当在图8b中所示的状态中蒸发坩埚220由致动器231升高时，第一法兰p1的上表面与第二法兰p2的下表面紧密接触。

如图5至图8中所示，移动腔室300被配置为容纳蒸发源200，并且从真空腔室100的外部沿着轨道r移动或停止。在真空腔室100的外底部表面上提供用于输送移动腔室300的轨道(r)。移动腔室300通过支撑件230可移动地安装至轨道r。因为移动腔室300安装在轨道r上，所以移动腔室300与底表面间隔开。

如图8中所示，在移动腔室300中，分隔壁310设置在分配管210和蒸发坩埚220之间。分隔壁310将移动腔室300的内部空间上下分隔，以阻止气体在分配管210的上部空间和蒸发坩埚220的下部空间之间的移动。分配管210通过穿过分隔壁310的连接部212耦接至蒸发坩埚220。因此，气体仅通过分配管210在基于分隔壁310的上部空间和下部空间之间移动是可能的。连接部212具有闸阀(gv)以阻止气体移动。因此，当闸阀gv关闭时，在基于分隔壁310的上部空间和下部空间之间的气体移动被完全阻止。

如上所述，支撑件230可安装有沿着轨道r形成输送力的传输装置。尽管未示出，移动腔室300通过真空泵形成真空状态。

如图5至图7中所示，连接壳体300a分别地在移动方向上耦接至移动腔室300的两个端部，并且多个移动腔室300通过连接壳体300a连接以沿着轨道r整体地移动。移动腔室300和连接壳体300a是以长方体的形式制造。此外，移动腔室300和连接壳体300a在轨道r的宽度方向上形成相同宽度。因此，如图5中所示，移动腔室300和连接壳体300a在耦接状态下沿着轨道r的长度方向形成长的长方体形状。尽管未示出，连接壳体300a可与移动腔室300整体地制造。

如图5至图7中所示，连接腔室400被配置为将移动腔室300和真空腔室100连接，并且耦接至真空腔室100的外壁表面。当第四开关阀v4打开时，真空腔室100和连接腔室400通过第四开口连接。尽管未示出，连接腔室400通过真空泵形成真空状态。

如图5至图8中所示，连接腔室400具有面向移动腔室300的前侧的第二入口。尽管没有给第二开口提供元件符号，但是第二开口应被理解为第二接触构件d2的一部分。

与移动腔室300和连接壳体300a的前侧选择性地紧密接触的第二接触构件d2形成在第二入口处。如图8a中所示，第二接触构件d2被配置为选择性地密封连接腔室400，并且在其中移动腔室300停止的状态下，第二接触构件d2与移动腔室300和连接壳体300a的前侧紧密接触。当连接壳体300a与移动腔室300整体地制造时，第二接触构件d2与移动腔室300的前侧紧密接触。

如图8b中所示，当移动腔室300移动时，第二接触腔室d2与移动腔室300和连接壳体300a的前侧间隔开。应将理解，在图5和图7中，在其中移动腔室300停止的状态下，第二接触构件d2与移动腔室300和连接壳体300a的前侧紧密接触。应将理解，在图6中，在移动移动腔室300的过程中，第二接触构件d2与移动腔室300和连接壳体300a的前侧间隔开。

尽管未详细示出，第二入口形成为矩形形状，并且第二接触构件d2形成为方管形状。在第二接触构件d2中，分别安装用于阻挡在第二接触构件d2和连接壳体300之间的间隙的填料，和用于阻挡在第二接触构件d2和连接腔室400之间的间隙的填料。尽管未示出，但是第二接触构件d2与移动腔室300和连接壳体300a的前侧通过致动器231紧密接触或间隔开。

如图5至图7中所示，移动腔室300的前表面具有第一开口，气相沉积材料通过所述第一开口移动至连接腔室400中。第一开口是与连接腔室400连通的部分，并且通过第一开关阀v1打开或关闭。尽管没有给第一开口提供元件符号，但是第一开口应被理解为第一开关阀v1的一部分。在图8中，省略示出第一开关阀v1。

如图5至图8中所示，第三开口设置在移动腔室300的后侧。第三开口是当替换蒸发坩埚220时蒸发坩埚220进入和离开的一部分，并且通过第三开关阀v3打开或关闭。尽管没有给第三开口提供元件符号，但是第三开口应被理解为第三开关阀v3的一部分。

在下文中，描述了根据本公开内容的另一示例性实施方式的用于替换坩埚的蒸发沉积系统20的使用状态。在下文中，在图5至图7中，为了易于理解使用状态，左移动腔室300被称为第一移动腔室300，并且设置在第一移动腔室300中的蒸发源200被称为第一蒸发源200。此外，在图5至图7中，右移动腔室300被称为第二移动腔室300，并且设置在第二移动腔室300中的蒸发源200被称为第二蒸发源200。另外，在图5至图7中，第一移动腔室300的左连接壳体300a被称为第一连接壳体300a，并且第二移动腔室300的右连接壳体300a被称为第二连接壳体300a。

根据本公开内容的另一示例性实施方式的用于替换坩埚的蒸发沉积系统20可通过控制器(未示出)自动地控制。

如图5至图7中所示，移动腔室300从真空腔室100的外部沿着轨道r移动或停止。多个移动腔室300通过连接壳体300a连接以沿着轨道r整体地移动。如图6和图8b中所示，当移动腔室300移动时，第二接触构件d2与移动腔室300的外表面间隔开。当移动腔室300移动时，第一开口、第三开口和第四开口关闭。

如在图5和图8a中所示，在其中移动腔室300停止的状态下，第二接触构件d2与移动腔室300和连接壳体300a的前侧紧密接触。当第二接触构件d2密封连接腔室400时，操作真空腔室100，以便使连接腔室400的内部处于真空状态。当连接腔室400的内部处于真空状态时，第一移动腔室300的第一开关阀v1和第四开关阀v4打开。

在所述状态下，填充在蒸发坩埚220中的沉积材料被加热器加热，并且从分配管210的喷嘴211朝向基板1排出气相沉积材料。在其中第一蒸发源200停止的状态下，在基板1沿着输送轨道120移动的同时，用气相沉积材料涂覆基板。当填充在蒸发坩埚220中的沉积材料耗尽时，第一移动腔室300的第一开关阀v1、第一蒸发源200的闸阀gv、和第四开关阀v4关闭。随后，第二接触构件d2与第一移动腔室300和连接壳体300a的前侧间隔开。

如图6至图7中所示，移动腔室300从真空腔室100的外部沿着轨道r移动。如在图7和图8a中所示，在其中移动腔室300停止的状态下，第二接触构件d2与第二移动腔室300和连接壳体300a的前侧紧密接触。当第二接触构件d2密封连接腔室400时，操作真空腔室100，以便使连接腔室400的内部处于真空状态。当连接腔室400的内部处于真空状态时，第二移动腔室300的第一开关阀v1和第四开关阀v4打开。

在所述状态下，填充在蒸发坩埚220中的沉积材料被加热器加热，并且从分配管210的喷嘴211朝向基板1排出气相沉积材料。在其中第二蒸发源200停止的状态下，在基板1沿着输送轨道120移动的同时，用气相沉积材料涂覆基板1。

此时，第一移动腔室300的第三开关阀v3打开，并且第一蒸发源200的蒸发坩埚220被替换。如上所述，在其中闸阀gv关闭的状态下，在基于分隔壁310的上部空间和下部空间之间的气体移动被完全阻止。因此，在替换蒸发坩埚220的过程中，外部空气的流入基于分隔壁3100被阻挡在上部空间中。当替换蒸发坩埚220时，第一移动腔室300的第三开关阀v3关闭。然后，操作真空腔室100，以便使第一移动腔室300的内部再次处于真空状态。

当填充在第二蒸发源200的蒸发坩埚220中的沉积材料耗尽时，第二移动腔室300的第一开关阀v1、第二蒸发源200的闸阀gv、和第四开关阀v4关闭。随后，第二接触构件d2与第二移动腔室300和连接壳体300a的前侧间隔开。如图5和图6中所示，移动腔室300从真空腔室100的外部沿着轨道r移动。此后，重复上述过程。

尽管已为了说明目的描述了本公开内容的示例性实施方式，但是本领域技术人员将了解，在不背离如由所附权利要求书限定的本公开内容的范围的情况下，各种修改、添加和替换是可能的。因此，这些修改、添加和替换也应被理解为落在本公开内容的范围之内。