边缘抛光装置及抛光吸盘垫清洗方法与流程

本发明涉及半导体制造设备领域，特别涉及一种边缘抛光装置及抛光吸盘垫清洗方法。

背景技术：

在半导体器件制造的过程中，一般需要对晶圆边缘进行抛光，以去除前道工序在边缘的缺陷(如划伤)，降低晶圆的边缘缺陷率，并将晶圆直径维持在一个稳定的范围以满足客户规格要求；同时，对于晶圆在清洗后的边缘颗粒清洗及外延制程的边缘缺陷率提供保证。

晶圆的边缘抛光一般在独立的边缘抛光装置上进行，参阅图1，图1是现有的边缘抛光装置的示意图，从图1中可看出，边缘抛光装置包括抛光吸盘11、吸盘垫圈12、吸盘垫13、抛光液入口14和抛光部15，抛光吸盘11、抛光液入口14和抛光部15均安装于一支撑单元(未图示)上。吸盘11具有一凸台(未图示)，在将晶圆16放置在抛光吸盘11上之前，先将吸盘垫圈12固定在抛光吸盘11的凸台的外周，再将吸盘垫13张贴在吸盘垫圈12和抛光吸盘11的顶表面上；在将晶圆16放置在吸盘垫13上之后，晶圆16被抛光吸盘11吸附固定住，抛光液从抛光液入口14滴到晶圆16上，抛光吸盘11带动晶圆16旋转，使得晶圆16上的抛光液被甩到晶圆16的边缘，同时，抛光部15也高速旋转以对晶圆16施加压力并与晶圆16维持相对运动，从而对晶圆16的边缘进行化学机械研磨。其中，由于吸盘垫13是具有吸水性的材质，被甩到晶圆16的边缘的抛光液会流到晶圆16的底面，进入到吸盘垫13中；并且，在晶圆16放置到吸盘垫13上之前也会经过一道抛光工艺，晶圆16底面在前道工艺残留的抛光液也会被带到吸盘垫13中，随着边缘抛光的晶圆16的数量的增多，使得吸盘垫13上积累的抛光液也越来越多，那么抛光液就会对晶圆16的底面产生腐蚀。

并且，由于抛光部15在高速旋转对晶圆16施加压力时，在吸盘垫圈12和抛光吸盘11的凸台的侧壁所接触的位置处的上方(即图1中的d1处)，晶圆16和吸盘垫13之间的作用力最大，如果抛光液在吸盘垫13中大量积累，会导致晶圆16的底面在此位置处的腐蚀受损最严重，造成晶圆16的底面的此位置处形成环形的凹坑缺陷，如图2中所示的晶圆16底面的一圈凹坑缺陷d2，从而导致晶圆的良率下降。

因此，需要提出一种抛光吸盘垫清洗装置及其清洗方法和边缘抛光装置，以避免在对晶圆进行边缘抛光的过程中导致晶圆的底面产生凹坑缺陷，进而避免导致晶圆的良率下降。

技术实现要素：

本发明的目的在于提供一种边缘抛光装置及抛光吸盘垫清洗方法，能够减小抛光液在抛光吸盘垫上的积累速度，进而避免在对晶圆进行边缘抛光的过程中导致晶圆的底面产生凹坑缺陷，从而避免导致晶圆的良率下降。

为实现上述目的，本发明提供了一种边缘抛光装置，包括抛光吸盘、安装于所述抛光吸盘上的抛光吸盘垫、用于将已抛光的晶圆从所述抛光吸盘垫上移除的机械臂以及用于在对晶圆抛光后对所述抛光吸盘垫进行清洗的清洗装置，所述清洗装置包括：

清洗单元，用于清洗所述抛光吸盘垫，所述清洗单元包括喷嘴和清洗刷，所述喷嘴固定于所述清洗刷上，以对所述抛光吸盘垫进行冲洗和刷洗；以及，

移动单元，与所述清洗单元固定连接，所述移动单元用于带动所述清洗单元移动到所述抛光吸盘垫上的不同位置。

可选的，所述清洗单元与所述移动单元之间通过一中空的管路固定连接，所述管路与所述喷嘴连通，以向所述抛光吸盘垫喷射清洗液。

可选的，所述清洗刷包括一刷毛座和多组刷毛，所述刷毛的一端和所述喷嘴的一端均固定于所述刷毛座上，所述刷毛座固定连接于所述移动单元上。

可选的，所述移动单元包括垂向移动模块和水平向移动模块，所述垂向移动模块用于在垂直于所述抛光吸盘垫的方向上移动所述清洗单元，所述水平向移动模块用于在平行于所述抛光吸盘垫的方向上移动所述清洗单元。

可选的，所述移动单元包括驱动模块，用于驱动所述移动单元带动所述清洗单元。

可选的，所述清洗刷的下端在距离所述抛光吸盘垫的顶表面-2cm～15cm之间移动。

可选的，所述喷嘴向所述抛光吸盘垫喷射的清洗液的压强为1mpa～5mpa。

本发明还提供了一种抛光吸盘垫清洗方法，用于在对晶圆边缘抛光后清洗去除所述晶圆下方的抛光吸盘垫中的抛光液，包括：

冲洗步骤，采用一移动单元将一清洗单元从初始位置移动到所述抛光吸盘垫的上方并在所述抛光吸盘垫的上方不断移动，同时通过所述清洗单元上的喷嘴向所述抛光吸盘垫上喷射清洗液，以对所述抛光吸盘垫进行冲洗；

刷洗步骤，停止向所述抛光吸盘垫上喷射清洗液，采用所述移动单元将所述清洗单元向下移动，以使得所述清洗单元上的清洗刷接触所述抛光吸盘垫，且所述清洗单元在所述抛光吸盘垫上不断移动，以对所述抛光吸盘垫进行刷洗。

可选的，在所述冲洗步骤和所述刷洗步骤中，所述抛光吸盘垫处于旋转状态；和/或，所述清洗单元的清洗刷处于旋转状态。

可选的，多次循环重复所述冲洗步骤和所述刷洗步骤，以使得所述抛光吸盘垫中的抛光液被去除完全；在所述抛光吸盘垫中的抛光液被去除完全之后，通过所述移动单元将所述清洗单元移动到所述初始位置。

与现有技术相比，本发明的技术方案具有以下有益效果：

1、本发明的边缘抛光装置，通过设置用于清洗抛光吸盘垫的清洗单元以及用于带动所述清洗单元移动到所述抛光吸盘垫上的不同位置的移动单元，能够减小抛光液在所述抛光吸盘垫上的积累速度，进而避免在对晶圆进行边缘抛光的过程中导致晶圆的底面产生凹坑缺陷，从而避免导致晶圆的良率下降。

2、本发明的抛光吸盘垫清洗方法，通过在晶圆边缘抛光后，对抛光吸盘垫进行冲洗和刷洗，能够减小抛光液在所述抛光吸盘垫上的积累速度，进而避免在对晶圆进行边缘抛光的过程中导致晶圆的底面产生凹坑缺陷，从而避免导致晶圆的良率下降。

附图说明

图1是现有的边缘抛光装置的示意图；

图2是晶圆底面上的凹坑缺陷的示意图；

图3是本发明一实施例的边缘抛光装置的示意图；

图4是图3所示的边缘抛光装置中的抛光吸盘垫的俯视示意图；

图5是图3所示的边缘抛光装置中的清洗装置的横向剖面示意图；

图6是本发明一实施例的抛光吸盘垫清洗方法的流程图；

图7a～图7e是图6所示的抛光吸盘垫清洗方法中的器件示意图。

其中，附图1～图7e的附图标记说明如下：

11-抛光吸盘；12-吸盘垫圈；13-吸盘垫；14-抛光液入口；15-抛光部；16-晶圆；21-抛光吸盘；22-抛光吸盘垫圈；23-抛光吸盘垫；231-环形圈；232-支撑线条；30-清洗单元；31-喷嘴；32-清洗刷；321-刷毛座；322-刷毛；40-移动单元；50-管路。

具体实施方式

为使本发明的目的、优点和特征更加清楚，以下对本发明提出的边缘抛光装置及抛光吸盘垫清洗方法作进一步详细说明。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本发明实施例的目的。

本发明一实施例提供一种边缘抛光装置，参阅图3，图3是本发明一实施例的边缘抛光装置的示意图，从图3中可看出，所述边缘抛光装置包括抛光吸盘21、安装于所述抛光吸盘21上的抛光吸盘垫23、用于将已抛光的晶圆从所述抛光吸盘垫23上移除的机械臂(未图示)以及用于在对晶圆抛光后对所述抛光吸盘垫23进行清洗的清洗装置。

下面参阅图3～图5对所述边缘抛光装置进行详细说明，图4是图3所示的边缘抛光装置中的抛光吸盘垫的俯视示意图，图5是图3所示的边缘抛光装置中的清洗装置的横向剖面示意图。

所述抛光吸盘21用于对所述晶圆进行真空吸附，使得在对所述晶圆的边缘抛光的过程中，所述晶圆能够被固定住。

所述抛光吸盘21具有一凸台，所述凸台的外周上环绕安装有一圈抛光吸盘垫圈22，所述凸台的外径与所述抛光吸盘垫圈22的内径相等，使得所述抛光吸盘垫圈22与所述凸台的侧壁紧密接触。所述凸台的高度与所述抛光吸盘垫圈22的厚度相同；所述抛光吸盘垫23安装于所述抛光吸盘垫圈22和所述凸台的顶表面上。所述抛光吸盘21下方还有支撑部件等结构。

所述抛光吸盘21、所述抛光吸盘垫圈22和所述抛光吸盘垫23的内外圈均为圆形，所述晶圆的直径大于所述抛光吸盘垫圈22和所述抛光吸盘垫23的外径，以使得能够对所述晶圆的边缘进行抛光。

所述抛光吸盘垫圈22的外径可以等于或者略小于所述抛光吸盘垫23的外径，以使得所述抛光吸盘垫23能够覆盖所述抛光吸盘垫圈22。

所述抛光吸盘垫圈22和所述抛光吸盘垫23的外径均大于所述凸台下方的抛光吸盘21的外径，以使得在所述抛光吸盘垫圈22的下方留有一定的缓冲空间，即位于所述抛光吸盘垫圈22下方的未被所述抛光吸盘21覆盖的环形区域。所述抛光吸盘垫圈22的材质具有较大的强度和韧性，例如为塑料，以使得所述抛光吸盘垫圈22对所述抛光吸盘垫23起到支撑作用的同时，还能在所述晶圆的边缘受到抛光高压时，通过所述抛光吸盘垫圈22的韧性以及所述抛光吸盘垫圈22下方的缓冲空间，来减轻高压力在晶圆上造成的边缘印记。

所述抛光吸盘垫23的材质较软且具有吸水性，例如可以为无纺布，使得所述抛光吸盘垫23与所述晶圆接触的时候避免划伤所述晶圆，且能够吸收抛光液。

所述边缘抛光装置还包括抛光部(未图示)和抛光液入口(未图示)，所述抛光部可以包括对称地设置在所述晶圆边缘的外围的至少两个部件，所述抛光液入口位于所述晶圆的上方。在对所述晶圆的边缘抛光的过程中，抛光液从所述抛光液入口滴到所述晶圆上，所述抛光吸盘21带动所述晶圆以一定的转速旋转，使得所述晶圆上的抛光液被甩到所述晶圆的边缘，同时，所述抛光部也以一定的转速旋转，以使得所述抛光部与所述晶圆维持相对运动的同时，还对所述晶圆的边缘施加压力，从而对所述晶圆的边缘进行化学机械研磨。

所述机械臂可用于将待抛光的晶圆移动到所述抛光吸盘垫23上；且所述机械臂还可用于将已抛光的晶圆从所述抛光吸盘垫23上移除，以使得所述清洗装置能够对所述抛光吸盘垫23进行清洗。

如图4所示，所述抛光吸盘垫23包括同心的多个环形圈231和连接各个环形圈231的至少一支撑线条232，相邻的两个环形圈231之间存在间隙d3，以使得所述抛光吸盘21能够通过间隙d3对所述晶圆进行真空吸附。且所述抛光吸盘垫23的最外圈和最内圈的环形圈231的宽度大于位于二者之间的环形圈231的宽度，以使得存在足够多的间隙d3能够确保对所述晶圆的真空吸附力足够的同时，还能使得所述抛光吸盘垫23能够起到保护所述晶圆的底面不被划伤的作用。同时，所述抛光吸盘垫23的最外圈的环形圈231的内径小于所述凸台的外径，以使得在所述抛光吸盘垫圈22和所述抛光吸盘垫23分别与所述抛光吸盘21之间安装紧密时，所述抛光吸盘垫23的最外圈的环形圈231能够覆盖到所述凸台的侧壁与所述抛光吸盘垫圈22的接触处。

在对所述晶圆的边缘进行抛光的过程中，所述抛光部高速旋转对所述晶圆的边缘施加压力，为了减轻高压力在所述晶圆上造成的边缘印记，所述抛光吸盘垫圈22的外边缘都会略微向下方的缓冲空间形变，这样就导致透过所述晶圆向下施加压力于所述抛光吸盘垫23、所述抛光吸盘垫圈22和所述凸台上时，在所述抛光吸盘垫圈22和所述凸台的侧壁所接触的位置处的上方，所述晶圆与所述抛光吸盘垫23之间的作用力最大；并且，所述抛光吸盘垫23的环形圈231之间的间隙d3中会积累抛光液，所述抛光吸盘垫23本身也会吸附有抛光液，随着抛光的晶圆越来越多，间隙d3以及所述抛光吸盘垫23本身积累的抛光液也越来越多，那么，会导致所述晶圆的底面在所述抛光吸盘垫圈22和所述凸台的侧壁所接触的位置处的腐蚀受损最严重，形成一圈凹坑缺陷(dic缺陷)。因此，为了避免抛光液在间隙d3以及所述抛光吸盘垫23内部积累，需要在对每片所述晶圆完成边缘抛光之后，采用清洗装置对所述抛光吸盘垫23进行清洗，以减小抛光液在所述抛光吸盘垫23中(即所述间隙d3和所述抛光吸盘垫23内部)的积累速度，甚至完全去除所述抛光吸盘垫23中的抛光液。

如图3和图5所示，所述清洗装置包括清洗单元30和移动单元40，所述清洗单元30用于清洗所述抛光吸盘垫23，所述移动单元40用于带动所述清洗单元30移动到所述抛光吸盘垫23上的不同位置。

其中，所述清洗单元30包括喷嘴31和清洗刷32，所述喷嘴31固定于所述清洗刷32上，可以从所述喷嘴31向所述抛光吸盘垫23喷出清洗液，以对所述抛光吸盘垫23进行冲洗，并在冲洗完成后，采用所述清洗刷32对所述抛光吸盘垫23进行刷洗。

所述清洗刷32包括一刷毛座321和多组刷毛322，所述刷毛322的一端和所述喷嘴31的一端均固定于所述刷毛座321上，且所述刷毛322和所述喷嘴31均垂直于所述刷毛座321。所述喷嘴31优选固定于所述刷毛座321的中心，以使得清洗液在所述抛光吸盘垫23上喷洒均匀。所述刷毛322优选以所述喷嘴31为中心均匀地分布于所述刷毛座321上，以使得能够对所述抛光吸盘垫23的各个位置施力均匀，进而使得对所述抛光吸盘垫23的清洗效果更好。所述刷毛322的材质具有一定强度的同时，也具有一定的柔韧性，以使得在对所述抛光吸盘垫23进行刷洗的同时，避免损伤所述抛光吸盘垫23。所述刷毛座321的形状可以为圆形、方形等；所述刷毛座321的直径可以为20mm～100mm，或者也可以根据所述刷毛座321清洗的所述抛光吸盘垫23的直径大小选择合适直径的所述刷毛座321。

在对所述抛光吸盘垫23进行冲洗时，所述喷嘴31向所述抛光吸盘垫23喷射的清洗液可以为高压清洗液，以对所述抛光吸盘垫23具有足够的清洗力，将所述抛光吸盘垫23上的大部分的抛光液冲洗掉，尤其是位于所述抛光吸盘垫23的环形圈231之间的间隙d3中的抛光液能够被尽可能地去除完全。所述喷嘴31向所述抛光吸盘垫23喷射的清洗液的压强优选为1mpa～5mpa(例如为2mpa、4mpa等)，以在满足冲洗效果的同时，还能避免压强过大导致的所述抛光吸盘垫23的损伤。所述清洗液可以为水。

在对所述抛光吸盘垫23进行刷洗时，所述清洗刷32的下端可以在距离所述抛光吸盘垫23的顶表面-2cm～15cm(例如为0cm、5cm、10cm等)之间移动，即所述刷毛322的下端可以在距离所述抛光吸盘垫23的顶表面-2cm～15cm之间移动。所述刷毛322向下施力接触刷洗所述抛光吸盘垫23的过程中，所述刷毛322的下端与所述抛光吸盘垫23的顶表面的距离为负值；所述刷毛322位于所述抛光吸盘垫23的上方时，所述刷毛322的下端与所述抛光吸盘垫23的顶表面的距离为正值。由于所述抛光吸盘垫23的材质具有柔韧性，所述刷毛322可以对所述抛光吸盘垫23向下施加压力，将吸附在所述抛光吸盘垫23内部的抛光液刷洗出来；并且，所述刷毛322可以对准所述抛光吸盘垫23的环形圈231之间的间隙d3进行刷洗，将间隙d3中的抛光液刷洗去除，提高清洗效果。

所述移动单元40与所述清洗单元30固定连接，以带动所述清洗单元30移动。所述清洗单元30与所述移动单元40之间可以通过一中空的管路50固定连接，所述管路50与所述喷嘴31连通，以向所述抛光吸盘垫23喷射清洗液。其中，所述刷毛座321可以固定连接于所述移动单元40上，也就是说，所述刷毛座321可以通过所述管路50固定连接于所述移动单元40上，所述刷毛座321中设置有与所述喷嘴31和所述管路50连通的清洗液的流通通道，以使得所述清洗液经所述管路50、所述刷毛座321和所述喷嘴31喷射到所述抛光吸盘垫23上。

所述移动单元40可以包括垂向移动模块(未图示)和水平向移动模块(未图示)。所述垂向移动模块用于在垂直于所述抛光吸盘垫23的方向上移动所述清洗单元30，以使得所述清洗单元30在垂直于所述抛光吸盘垫23的方向上靠近和远离所述抛光吸盘垫23。所述水平向移动模块用于将所述清洗单元30从初始位置移动到所述抛光吸盘垫23的上方、用于带动所述清洗单元30在所述抛光吸盘垫23的上方和表面顺时针和逆时针的移动以及用于将所述清洗单元30从所述抛光吸盘垫23的上方移动到初始位置。

其中，所述水平向移动模块可以通过带动所述管路50顺时针和逆时针的移动来带动所述清洗单元30顺时针和逆时针移动，以使得能够对整个的所述抛光吸盘垫23进行冲洗和刷洗。所述清洗单元30在所述抛光吸盘垫23的上方和表面进行顺时针和逆时针移动的过程中，所述清洗刷32可以处于旋转状态，或者所述抛光吸盘垫23处于旋转状态，或者所述清洗刷32和所述抛光吸盘垫23均处于旋转状态，以提高冲洗和刷洗的效果。

所述移动单元40还可包括驱动模块(未图示)，用于驱动所述移动单元40带动所述清洗单元30。所述驱动模块可以为电机。

并且，若未采用所述清洗装置清洗所述抛光吸盘垫，所述抛光吸盘垫的使用寿命可能只有半天；若采用所述清洗装置清洗所述抛光吸盘垫，所述抛光吸盘垫的使用寿命可能达到一个月以上，也不会导致晶圆的底面产生明显的凹坑缺陷。

由上述内容可知，通过采用所述清洗装置在每次对所述晶圆边缘抛光完成之后，对所述抛光吸盘垫进行清洗，能够减小抛光液在所述抛光吸盘垫上(即所述间隙d3和所述抛光吸盘垫23内部)积累的速度，甚至可以完全去除所述抛光吸盘垫上积累的抛光液，延长了所述抛光吸盘垫的使用寿命，避免导致晶圆的底面产生一圈凹坑缺陷，进而避免导致晶圆的良率下降。

综上所述，本发明提供的边缘抛光装置，包括：抛光吸盘、安装于所述抛光吸盘上的抛光吸盘垫、用于将已抛光的晶圆从所述抛光吸盘垫上移除的机械臂以及用于在对晶圆抛光后对所述抛光吸盘垫进行清洗的清洗装置，所述清洗装置包括：清洗单元，用于清洗所述抛光吸盘垫，所述清洗单元包括喷嘴和清洗刷，所述喷嘴固定于所述清洗刷上，以对所述抛光吸盘垫进行冲洗和刷洗；以及，移动单元，与所述清洗单元固定连接，所述移动单元用于带动所述清洗单元移动到所述抛光吸盘垫上的不同位置。本发明提供的边缘抛光装置避免在对晶圆进行边缘抛光的过程中导致晶圆的底面产生凹坑缺陷，进而避免导致晶圆的良率下降。

本发明一实施例提供一种抛光吸盘垫清洗方法，用于在对晶圆边缘抛光后清洗去除所述晶圆下方的抛光吸盘垫中的抛光液，参阅图6，图6是本发明一实施例的抛光吸盘垫清洗方法的流程图，所述抛光吸盘垫清洗方法包括：

步骤s1，冲洗步骤，采用一移动单元将一清洗单元从初始位置移动到所述抛光吸盘垫的上方并在所述抛光吸盘垫的上方不断移动，同时通过所述清洗单元上的喷嘴向所述抛光吸盘垫上喷射清洗液，以对所述抛光吸盘垫进行冲洗；

步骤s2，刷洗步骤，停止向所述抛光吸盘垫上喷射清洗液，采用所述移动单元将所述清洗单元向下移动，以使得所述清洗单元上的清洗刷接触所述抛光吸盘垫，且所述清洗单元在所述抛光吸盘垫上不断移动，以对所述抛光吸盘垫进行刷洗。

下面参阅图7a～图7e更为详细的介绍本实施例提供的抛光吸盘垫清洗方法，图7a～图7e是图6所示的抛光吸盘垫清洗方法中的器件示意图。

按照步骤s1，冲洗步骤，采用一移动单元40将一清洗单元30从初始位置(如图7a所示的位置)移动到所述抛光吸盘垫23的上方(如图7b所示的位置)并在所述抛光吸盘垫23的上方不断移动(如图7c所示)，同时通过所述清洗单元30上的喷嘴31向所述抛光吸盘垫23上喷射清洗液，以对所述抛光吸盘垫23进行冲洗。

所述移动单元40和所述清洗单元30可以均为一边缘抛光装置中的清洗装置，所述边缘抛光装置可以参阅图3，所述边缘抛光装置还包括抛光吸盘21、安装于所述抛光吸盘21上的抛光吸盘垫23以及用于将已抛光的晶圆从所述抛光吸盘垫23上移除的机械臂(未图示)。所述边缘抛光装置还包括连接所述清洗单元30与所述移动单元40的一中空的管路50。所述边缘抛光装置中的各个结构可以参阅上述本发明的所述边缘抛光装置的说明，在此不再赘述。

在对所述晶圆完成边缘抛光之后，所述机械臂会将所述晶圆从所述抛光吸盘垫23上移除；接着，所述移动单元40通过所述管路50带动所述清洗单元30从所述初始位置移动到所述抛光吸盘垫23的上方，所述清洗单元30中的喷嘴31向所述抛光吸盘垫23喷出高压的清洗液；同时，所述移动单元40再通过所述管路50带动所述清洗单元30在平行于所述抛光吸盘垫23的方向上顺时针或逆时针的移动，以向所述抛光吸盘垫23的整个面喷射高压清洗液；同时，所述清洗单元30和/或所述抛光吸盘垫23可以处于旋转状态，以提高冲洗效果，将所述抛光吸盘垫23上的大部分的抛光液冲洗掉，尤其是位于所述抛光吸盘垫23的环形圈231之间的间隙d3中的抛光液能够被尽可能地去除完全。

按照步骤s2，刷洗步骤，停止向所述抛光吸盘垫23上喷射清洗液，采用所述移动单元40将所述清洗单元30向下移动，以使得所述清洗单元30上的清洗刷32接触所述抛光吸盘垫23，且所述清洗单元30在所述抛光吸盘垫23上不断移动(如图7d所示)，以对所述抛光吸盘垫23进行刷洗。

所述移动单元40可通过所述管路50带动所述清洗单元30在所述抛光吸盘垫23上顺时针或逆时针的移动，以对所述抛光吸盘垫23的整个面进行刷洗；同时，所述清洗单元30和/或所述抛光吸盘垫23可以处于旋转状态，以提高刷洗效果。

另外，可以多次循环重复所述冲洗步骤和所述刷洗步骤，以使得所述抛光吸盘垫23中的抛光液被去除完全。可以根据产品需求和成本选择合适的重复次数。

并且，在所述抛光吸盘垫23中的抛光液被去除完全之后，可以通过所述移动单元40将所述清洗单元30移动到所述初始位置(如图7e所示的位置)。

综上所述，通过在每次对所述晶圆边缘抛光完成之后，对所述抛光吸盘垫进行冲洗和刷洗，能够减小抛光液在所述抛光吸盘垫上的积累速度，甚至可以完全去除所述抛光吸盘垫上积累的抛光液，延长了所述抛光吸盘垫的使用寿命，避免导致晶圆的底面产生一圈凹坑缺陷，进而避免导致晶圆的良率下降。

上述描述仅是对本发明较佳实施例的描述，并非对本发明范围的任何限定，本发明领域的普通技术人员根据上述揭示内容做的任何变更、修饰，均属于权利要求书的保护范围。