堆积量信息取得装置、成膜装置、开闭装置、成膜方法及电子器件的制造方法与流程

[0001]
本发明涉及用于取得在基板上成膜的成膜材料的堆积量信息的堆积量信息取得装置、成膜装置、开闭装置、成膜方法及电子器件的制造方法。


背景技术：

[0002]
最近，作为平板显示装置，有机el显示装置(有机el显示器)备受关注。有机el显示装置是自发光显示器，响应速度、视角、薄型化等特性优于液晶面板显示器，在监视器、电视、以智能手机为代表的各种便携式终端等中正在快速代替现有的液晶面板显示器。另外，其应用领域也扩展到了汽车用显示器等。
[0003]
构成有机el显示装置的有机发光元件(有机el元件；oled)具有在两个相对的电极(阴极电极、阳极电极)之间形成有进行发光的有机物层的基本结构。有机发光元件的有机物层和金属电极层例如通过如下方式制造：在成膜装置中，对收容有成膜材料的蒸发源进行加热，使成膜材料蒸发，使成膜材料的蒸发粒子经由形成有像素图案的掩模堆积在基板上。
[0004]
在成膜装置中，为了测定和控制在基板上成膜的有机材料或金属材料的厚度以及/或者成膜率，使用石英晶体监视器。石英晶体监视器使用石英谐振器的共振频率与在石英谐振器的电极上堆积的成膜材料的量之间的关系，根据共振频率的变动值计算成膜材料的厚度以及/或者成膜率。
[0005]
随着石英谐振器的成膜材料堆积规定量以上，会产生石英谐振器无法维持共振振动的现象。在该状态下，已无法根据共振频率的变动值高精度地测定膜厚、成膜率，因此，若产生这样的现象，则判定为石英谐振器寿命耗尽，对石英谐振器进行更换。
[0006]
在石英晶体监视器，为了调节堆积在石英谐振器上的成膜材料的量而设置有遮挡器(chopper)。遮挡器不使石英谐振器向成膜源持续地露出，而是经由形成于遮挡器的孔状的开放部而间歇地或周期性地向成膜源露出，从而使堆积在石英谐振器上的成膜材料的量成为堆积在基板上的成膜材料的量的规定的比例，由此，抑制石英谐振器的寿命过度变短。
[0007]
发明要解决的课题
[0008]
具有孔状的开放部的遮挡器为了使石英谐振器向成膜源间歇地或周期性地露出而能够旋转地设置在成膜装置的真空容器内，但在真空容器内除了石英晶体监视器以外还配置有各种机构，来自设置于真空容器的观察窗的视野受到限制。
[0009]
尤其是，遮挡器的孔状的开放部有时被其他机构(例如，石英晶体监视器支承部件)遮挡而难以从观察窗看到，由于遮挡器通常是圆板状，因此，在孔状的开放部被遮挡而无法看到，只能看到圆板的外周部的情况下，存在无法经由观察窗目视确认遮挡器是否旋转的问题。


技术实现要素：

[0010]
本发明的目的在于提供一种能够容易地确认设置在成膜装置的真空容器的内部的遮挡器等开闭部件是否旋转的堆积量信息取得装置、成膜装置、开闭装置、成膜方法及电子器件的制造方法。
[0011]
用于解决课题的方案
[0012]
本发明的第一方案的堆积量信息取得装置取得与从成膜装置内的成膜源放出并堆积在成膜对象物上的成膜材料的堆积量相关的信息，其特征在于，所述堆积量信息取得装置包括：测量部件，所述测量部件具有测量元件，所述测量元件测量与从所述成膜源放出并堆积的成膜材料的量相关联的信息；以及开闭部件，所述开闭部件具有遮蔽部和孔状的开放部，所述遮蔽部使所述测量元件相对于所述成膜源遮蔽，所述开放部使所述测量元件相对于所述成膜源露出，所述开闭部件能够以所述测量元件通过所述开放部而以规定的周期露出的方式旋转，所述开闭部件包括旋转识别部，所述旋转识别部设置在所述开闭部件的外周部，能够识别所述开闭部件是否旋转。
[0013]
本发明的第二方案的成膜装置的特征在于，包括：真空容器；成膜源，所述成膜源设置在所述真空容器内，放出成膜材料；成膜对象物保持单元，所述成膜对象物保持单元设置在所述真空容器内，保持成膜对象物；以及本发明的第一方案的堆积量信息取得装置，所述堆积量信息取得装置取得与堆积在所述成膜对象物上的所述成膜材料的堆积量相关的信息。
[0014]
本发明的第三方案的开闭装置的特征在于，包括：开闭部件，所述开闭部件具有遮蔽部和孔状的开放部，设置成能够旋转；以及旋转驱动部，所述旋转驱动部使所述开闭部件以规定的周期旋转，所述开闭部件包括旋转识别部，所述旋转识别部设置在所述开闭部件的外周部，用于识别所述开闭部件是否旋转。
[0015]
本发明的第四方案的成膜方法的特征在于，使用本发明的第二方案的成膜装置将成膜材料成膜在成膜对象物上。
[0016]
本发明的第五方案的电子器件的制造方法的特征在于，使用本发明的第四方案的成膜方法来制造电子器件。
[0017]
发明效果
[0018]
能够容易地确认在成膜装置的真空容器的内部设置的遮挡器等开闭部件是否旋转。
附图说明
[0019]
图1是本发明一实施方式的电子器件的生产线的一部分的示意图。
[0020]
图2是本发明一实施方式的成膜装置的示意图。
[0021]
图3是示意性地表示石英谐振器的结构的剖视图。
[0022]
图4是表示本发明一实施方式的堆积量信息取得装置的测量部件以及开闭部件的结构的示意图。
[0023]
图5是示意性地表示在图2的成膜装置中开闭部件的配置的图。
[0024]
图6a～图6c分别是示意性地表示本发明一实施方式的、具有旋转识别部的开闭部件的结构的图。
[0025]
图7(a)～(c)是表示有机el显示装置的结构的示意图。
[0026]
附图标记说明
[0027]
11：成膜装置
[0028]
20：真空容器
[0029]
21：基板保持单元
[0030]
23：成膜源
[0031]
24：测量部件
[0032]
25：堆积量信息计算部
[0033]
26：开闭部件
[0034]
260、260a、260b：旋转识别部
[0035]
30：石英谐振器
具体实施方式
[0036]
以下，参照附图对本发明的优选实施方式以及实施例进行说明。但是，以下的实施方式以及实施例仅仅例示性地示出本发明的优选结构，本发明的范围并不限定于这些结构。另外，以下说明中的、装置的硬件结构以及软件结构、处理流程、制造条件、尺寸、材质、形状等，只要没有特别特定性的记载，其主旨并非将本发明的范围仅限定于此。
[0037]
本发明可以应用于在基板的表面堆积各种材料而进行成膜的装置，例如，可以优选应用于通过真空蒸镀进行成膜的真空蒸镀装置、溅射装置、cvd(chemical vapor deposition：化学气相沉积)装置等。作为基板的材料，可以选择玻璃、高分子材料的膜、金属、硅等任意材料，基板例如可以是在玻璃基板上层叠有聚酰亚胺等膜的基板。另外，作为成膜材料，也可以选择有机材料、金属性材料(金属、金属氧化物等)等任意材料。具体而言，本发明的技术可以应用于有机电子器件(例如，有机el元件、薄膜太阳能电池)、光学部件等的制造装置。其中，通过使成膜材料蒸发并经由掩模蒸镀到基板上而形成有机el元件的有机el元件的制造装置是本发明的优选应用例之一。
[0038]
<电子器件的制造装置>
[0039]
图1是示意性地表示电子器件的制造装置的一部分结构的俯视图。
[0040]
图1的制造装置例如用于智能手机用或电视用的有机el显示装置的显示面板的制造。在智能手机用的显示面板的情况下，例如，在4.5代的基板(约700mm
×
约900mm)或6代的全尺寸(约1500mm
×
约1850mm)或半切割尺寸(约1500mm
×
约925mm)的基板上进行用于形成有机el元件的成膜后，将该基板切下而制作成多个小尺寸的面板。
[0041]
电子器件的制造装置一般而言包括多个群组装置1和将群组装置之间相连的中继装置。
[0042]
群组装置1具备：对基板s进行处理(例如，成膜)的多个成膜装置11、收纳使用前后的掩模m的多个掩模储备装置12、以及配置在其中央的输送室13。如图1所示，输送室13与多个成膜装置11以及掩模储备装置12分别连接。
[0043]
在输送室13内配置有输送基板s以及掩模m的输送机器人14。输送机器人14将基板s从配置在上游侧的中继装置的通路室15向成膜装置11输送。另外，输送机器人14在成膜装置11与掩模储备装置12之间输送掩模m。输送机器人14例如是具有如下结构的机器人，即在
多关节臂上安装有保持基板s或掩模m的机械手。
[0044]
在成膜装置11中，蒸发源所收纳的成膜材料被加热器加热而蒸发，经由掩模在基板上成膜。与输送机器人14之间的基板s/掩模m的交接、基板s和掩模m的相对位置的调整(对准)、基板s向掩模m上的固定、成膜(蒸镀)等一系列的成膜工艺由成膜装置11进行。
[0045]
在掩模储备装置12中，将成膜装置11中的成膜工序要使用的新的掩模和已使用的掩模分开收纳在两个盒体中。输送机器人14将已使用的掩模从成膜装置11输送到掩模储备装置12的盒体，将掩模储备装置12的另一盒体中收纳的新的掩模输送到成膜装置11。
[0046]
在基板s的输送方向上将来自上游侧的基板s传递到群组装置1的通路室15、以及用于将在该群组装置1中完成成膜处理的基板s传递到下游侧的其他群组装置的缓冲室16与群组装置1连结。输送室13的输送机器人14从上游侧的通路室15接收基板s，并将其输送到该群组装置1内的一个成膜装置11(例如，成膜装置11a)。另外，输送机器人14从多个成膜装置11中的一个成膜装置(例如，成膜装置11b)接收该群组装置1中的成膜处理完成的基板s，并将其输送到与下游侧连结的缓冲室16。
[0047]
在缓冲室16与通路室15之间设置有改变基板的朝向的回旋室17。在回旋室17设置有用于从缓冲室16接收基板s而使基板s旋转180
°
并输送到通路室15的输送机器人18。由此，在上游侧的群组装置和下游侧的群组装置中，基板s的朝向变为相同，基板处理变得容易。
[0048]
通路室15、缓冲室16、回旋室17是将群组装置之间连结的所谓中继装置，设置在群组装置的上游侧以及/或者下游侧的中继装置包括通路室、缓冲室、回旋室中的至少一个。
[0049]
成膜装置11、掩模储备装置12、输送室13、缓冲室16、回旋室17等在有机发光元件的制造过程中维持在高真空状态。通路室15通常维持在低真空状态，但也可以根据需要维持在高真空状态。
[0050]
在本实施例中，参照图1对电子器件的制造装置的结构进行了说明，但本发明并不限于此，也可以具有其他种类的装置、腔室，这些装置、腔室之间的配置也可以改变。
[0051]
例如，本发明也可以应用于在使基板s和掩模m不是在成膜装置11中而是在其他装置或腔室进行粘合后，将其放置在载体(carrier)上，一边经过排成一列的多个成膜装置进行输送一边进行成膜工序的直列式的制造装置。
[0052]
<成膜装置>
[0053]
图2是示意性地表示用于在成膜对象物(例如，基板)上成膜规定的成膜材料的成膜装置11的结构的剖视图。
[0054]
成膜装置11具备真空容器20、基板保持单元21、掩模保持单元22以及成膜源23。
[0055]
真空容器20限定进行成膜工序的空间，真空容器20的内部被维持在真空等减压环境或者氮气等非活性气体环境。另外，在真空容器20设置有作业者能够观察内部的观察窗202。
[0056]
如图2所示，在真空容器20内部的上部设置有基板保持单元21和掩模保持单元22，在真空容器20内部的下部或底面设置有成膜源23。
[0057]
基板保持单元21是对从输送室13的输送机器人14接收到的基板s进行保持的构件，也称为基板支架。
[0058]
掩模保持单元22是对被送入真空容器20内的掩模m进行保持的构件，设置在基板
保持单元21的下方。掩模m具有与要在基板s上形成的薄膜图案对应的开口图案。
[0059]
成膜源23用于将成膜材料向基板s的方向放出，例如也可以是蒸发源。蒸发源对成膜材料进行加热而放出。因此，蒸发源包括：收纳有要在基板s上成膜的成膜材料的坩埚(未图示)；用于对坩埚进行加热的加热器(未图示)；以及在来自蒸发源的蒸发率变为恒定之前防止成膜材料朝向基板s飞散的挡板(未图示)等。蒸发源可以如点(point)蒸发源、线性(linear)蒸发源、旋转蒸发源等那样根据用途而具有各种结构。
[0060]
本发明的成膜装置11包括堆积量信息取得装置，该堆积量信息取得装置取得与从成膜源23放出并堆积在基板s上的成膜材料的堆积量相关的信息。与成膜材料的堆积量相关的信息可以是堆积在基板s上的成膜材料的膜厚以及/或者成膜率，但并不限于此。
[0061]
本发明一实施方式的堆积量信息取得装置包括测量部件24、堆积量信息计算部25以及开闭部件26。
[0062]
测量部件24是用于测量与从成膜源23放出并堆积于自身的成膜材料的量相关联的信息的部件。测量部件24例如可以包括根据堆积于自身的成膜材料的量(例如，重量或厚度)而使物理特性的值发生变化的测量元件。该测量元件的一例是石英谐振器30(参照图3)。石英谐振器30具有共振频率根据所堆积的成膜材料的量而变化的特性。
[0063]
图3是示意性地表示石英谐振器30的结构的剖视图。参照图3，石英谐振器30具有在沿一定的晶向剖开的石英片31的表面以及背面形成有电极膜32、33的结构。
[0064]
石英谐振器30所使用的石英片31优选使用温度特性比较优异的进行了at-切割(at-cut)的石英晶体。如图3所示，通过使电极膜33侧的背面为曲面，堆积成膜材料的电极膜32侧的表面为平面，能够提高石英谐振器30的振动的稳定性。
[0065]
石英谐振器30的电极膜32、33优选由以铝(al)为主成分的合金、或者金(au)构成。这是因为铝合金或者金的电极膜32、33与成膜材料的紧贴性良好，堆积在石英谐振器30的电极膜32上的膜能够良好地追随石英谐振器30的共振振动。在图3中，图示了成膜材料直接堆积在电极膜32上，但也可以在电极膜32上追加形成与电极材料的紧贴性更好且与成膜材料之间的边界连续变化的第三膜(例如与成膜材料不同的有机材料)。
[0066]
若对石英谐振器30的电极膜32、33施加交流电压，则石英谐振器30因石英晶体的压电特性而振动，在石英片的厚度满足确定的条件的情况下，以共振频率进行振动。这样的石英谐振器30的共振频率根据堆积在电极膜32上的成膜材料的质量变动而变化，在石英谐振器30的共振频率的变动值(与所堆积的成膜材料的量相关联的信息)与成膜材料的质量的变动值之间，以下那样的关系式(sauerbrey式)成立。
[0067]
δf＝-δmf2/(μρ
q
)
1/2
a
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(1)
[0068]
在此，δf是共振频率的变动值，δm是堆积在石英谐振器的电极膜32上的成膜材料的质量变动值，f是石英晶体的基本频率，μ是石英晶体的剪切系数(shear modulus)，ρ
q
是石英晶体的密度，a是电极面积。即，在石英谐振器30的电极膜32上堆积成膜材料，随着其质量增加，石英谐振器30的共振频率变小。
[0069]
利用这样的关系，可以根据测出的石英谐振器30的共振频率的变动值，求出堆积在电极膜32上的膜的质量的变动值、进而求出膜厚以及成膜率。
[0070]
如图4所示，本发明一实施方式的测量部件24可以具有多个(例如10个)石英谐振器30而构成。
[0071]
在这样的结构中，堆积量信息取得装置包括罩部件240，该罩部件240具有用于使多个石英谐振器30的一部分(例如，一个石英谐振器)向成膜源23露出的开口241。即，仅使测量部件24的多个石英谐振器30中的、位于与开口241对应的位置的石英谐振器30a向成膜源23露出，供从成膜源23飞散来的成膜材料堆积。在此期间，剩下的石英谐振器30a被罩部件240遮挡而不向成膜源23露出。
[0072]
若通过开口241而向成膜源23露出的石英谐振器30a的寿命耗尽，则使被罩部件240遮挡的其他石英谐振器30b旋转移动到与开口241对应的位置，同样地进行膜厚以及/或者成膜率的测定。这样一来，若设置于测量部件24的全部石英谐振器30的寿命耗尽，则更换测量部件24。由此，可以延长测量部件24的整体寿命，通过抑制为了进行石英谐振器30的个别的更换而增加成膜工序的停止时间这种情形，能够增加生产线的整体生产率。
[0073]
堆积量信息计算部25基于堆积在测量部件24的测量元件上的成膜材料的量，间接地计算与堆积在基板s上的成膜材料的堆积量相关的信息。例如，在测量部件24的测量元件为石英谐振器30的情况下，堆积量信息计算部25基于堆积在石英谐振器30上的成膜材料的量与堆积在基板s上的成膜材料的量之间的关系，计算堆积在基板s上的成膜材料的膜厚以及/或者成膜率。接着，成膜装置11的控制部(未图示)基于由堆积量信息计算部25算出的与堆积量相关的信息，对从成膜源23放出的成膜材料的量进行控制。
[0074]
开闭部件26是用于使测量部件24的测量元件例如石英谐振器30相对于成膜源23间歇地或周期性地开闭的部件。因此，如图4所示，开闭部件26具有孔状的开放部26a和除此之外的部分即遮蔽部26b。开闭部件26设置成通过未图示的旋转驱动部能够旋转。本发明的一个方式的开闭装置包括开闭部件26和对其进行旋转驱动的旋转驱动部。
[0075]
开闭部件26通过旋转驱动部以规定的角速度进行旋转，从而开闭部件26的开放部26a与罩部件240的开口241间歇地或周期性地对齐。由此，位于与罩部件240的开口241对应的位置的石英谐振器30a通过开闭部件26的开放部26a而周期性地或间歇地向成膜源23露出。
[0076]
通过选择上述那样的结构的开闭部件26，可以调节堆积在位于与罩部件240的开口241对应的位置的石英谐振器30a上的成膜材料的量。即，使具有遮蔽部26b和孔状的开放部26a的开闭部件26以一定的角速度旋转，位于与罩部件240的开口241对应的位置的石英谐振器30a被遮蔽部26b间歇地或周期性地相对于成膜源23遮蔽，从而能够以规定的比例减少堆积在该石英谐振器30a上的成膜材料的量。由此，能够延长石英谐振器30a的寿命，能够提高成膜装置11的生产率。
[0077]
本发明一实施方式的开闭部件26还具有设置在其外周部且能够识别开闭部件26是否旋转的旋转识别部260。以下，对具有旋转识别部260的开闭部件26的具体结构以及功能进行详细说明。
[0078]
<开闭部件的旋转识别部>
[0079]
图5是示意性地表示在成膜装置11中开闭部件26的配置的图。
[0080]
参照图5，开闭部件26配置在具有观察窗202的真空容器20的内部。而且，在开闭部件26与观察窗202之间配置有测量部件24。因该测量部件24，来自观察窗202的针对开闭部件26的视野受到限制。尤其是，开闭部件26的开放部26a形成在与朝向成膜源23的测量部件24的石英振动元件30a对应的位置，因此，从以测量部件24为基准形成在成膜源23的相反侧
的观察窗202看不到开闭部件26的开放部26a，仅能够观察开闭部件26的外周部附近。
[0081]
因此，在本发明的一实施例中，在开闭部件26的外周部设置旋转识别部260，以便能够经由观察窗202容易地确认开闭部件26是否旋转。
[0082]
旋转识别部260构成为能够通过作业者的目视或以光学方式来识别开闭部件26的旋转情况。即，旋转识别部260优选构成为能够通过作业者的目视或使用摄像装置(未图示)等光学构件来确认开闭部件26的旋转情况。
[0083]
图6a～图6c是分别示意性地表示具有旋转识别部260的开闭部件26的结构的图。
[0084]
参照图6a以及图6b，本发明的一实施例的开闭部件26具有从开闭部件26的周缘部朝向中央部设置的切口部260a作为旋转识别部。由此，开闭部件26的外周形状成为非圆形。
[0085]
切口部260a从开闭部件26的周缘部朝向中央部设置，只要具有能够从观察窗202通过目视或光学构件识别的形状即可，其形状并未特别限定。例如，切口部260a可以具有图6a所示那样的梯形、图6b所示那样的楔形等多种形状。
[0086]
从开闭部件26的周缘部朝向中央部的半径方向上的切口部260a的长度优选为能够从观察窗202通过目视或以光学方式确认的程度，并且形成为开闭部件26的机械强度不会降低这种程度的长度。另外，开闭部件26的周缘方向上的切口部260a的长度可以根据开闭部件26的旋转速度而不同。例如，在开闭部件26的旋转速度慢的情况下，优选缩短周缘方向上的切口部260a的长度。
[0087]
另外，切口部260a既可以如图4所示在开闭部件26的外周部仅设置一个，也可以如图6a以及图6b所示设置多个(例如，两个或其以上)。例如，在开闭部件26的旋转速度慢的情况下，优选设置多个切口部260a。在设置多个的情况下，优选在开闭部件26的周缘方向上以一定的间隔设置。
[0088]
切口部260a优选以如下位置以及大小来设置，即，在开闭部件26旋转期间，测量部件24的石英谐振器30a不会通过切口部260a而向成膜源23露出。即，切口部260a优选以不通过将测量部件24的石英谐振器30a与成膜源23连接的任意的直线上的方式设置。
[0089]
例如，切口部260a优选设置于开闭部件26的遮蔽部26b。尤其是，更优选在开闭部件26的半径方向上设置在比开放部26a靠外侧的位置。在半径方向上从周缘部起的切口部260a的长度优选为如下长度：即便开闭部件26旋转，测量部件24的石英谐振器30a也不会通过切口部260a向成膜源23露出。
[0090]
根据如上所述的结构，能够抑制成膜材料通过旋转的开闭部件26的切口部260a而不必要地堆积在石英谐振器30a上，能够抑制具有切口部260a的开闭部件26的机械强度降低。
[0091]
在图6a、图6b所示的实施例中，对作为旋转识别部260的切口部260a具有从开闭部件26的周缘部朝向中央部被切掉的形状进行了说明，但本发明的旋转识别部260只要能够从观察窗202识别，而且，不使测量部件24的石英谐振器30a向成膜源23露出，也可以不是从开闭部件26的周缘部被切掉的形状的切口部260a，例如，也可以是相比开闭部件26的周缘部形成在内侧的孔。
[0092]
参照图6c，本发明的另一实施例中的开闭部件26的旋转识别部260不是切口部，而是能够通过目视或光学构件识别的规定的识别标记260b。例如，图6c的识别标记260b也可以构成为具有与遮蔽部26b的其他部分不同的颜色以及/或材质。即，识别标记260b可以是
反射特性与遮蔽部26b的其他部分不同的材料的部分，或者也可以是与遮蔽部26b的其他部分不同的颜色的部分，也可以是材质以及颜色双方不同的部分。识别标记260b的材质以及/或者颜色与成为其背景的遮蔽部26b的其他部分相比，只要是比较醒目的材质以及/或者颜色即可，并不限定于特定的材质、颜色。
[0093]
这样的识别标记260b可以与遮蔽部26b的其他部分构成一体，也可以另行设置于遮蔽部26b的外周部。
[0094]
根据图6c的实施例，作为旋转识别部260而使用识别标记260b，因此，没有从开闭部件26被切掉的部分，可以更有效地抑制机械强度的降低。
[0095]
图6c的实施例中的识别标记260b的形状、大小、配置位置等可以采用与图6a以及图6b的实施例相关的结构。
[0096]
根据本发明，通过在开闭部件26的外周部设置切口部或识别标记等旋转识别部，从而能够容易地识别开闭部件是否旋转。尤其是，即便在开闭部件26被其他部件(例如，测量部件)遮挡而透过观察窗仅能够看到外周部的状况下，也能够利用设置于外周部的旋转识别部通过目视或光学构件容易地识别开闭部件是否旋转。由此，能够适时地确认开闭部件是否存在问题，能够取得正确的堆积量信息(例如，膜厚以及/或者成膜率)，另外，能够抑制由石英谐振器的寿命的缩短引起的成膜装置的生产率的降低。
[0097]
<电子器件的制造方法>
[0098]
接着，对使用本实施方式的成膜装置的电子器件的制造方法的一例进行说明。以下，作为电子器件的例子而例示有机el显示装置的结构以及制造方法。
[0099]
首先，说明制造的有机el显示装置。图7的(a)是有机el显示装置60的整体图，图7的(b)表示一个像素的截面结构。
[0100]
如图7的(a)所示，在有机el显示装置60的显示区域61，呈矩阵状地配置有多个具备多个发光元件的像素62。每一个发光元件具有具备被一对电极夹着的有机层的结构，详细情况在后面说明。需要说明的是，在此所说的像素是指在显示区域61中能够进行所希望的颜色的显示的最小单位。在本实施例的有机el显示装置的情况下，通过示出彼此不同的发光的第一发光元件62r、第二发光元件62g、第三发光元件62b的组合来构成像素62。像素62大多由红色发光元件、绿色发光元件以及蓝色发光元件的组合来构成，但也可以是黄色发光元件、青色发光元件以及白色发光元件的组合，只要是至少一种颜色以上即可，并未特别限定。
[0101]
图7的(b)是图7的(a)的a-b线处的局部截面示意图。像素62具有有机el元件，该有机el元件在基板63上具备第一电极(阳极)64、空穴输送层65、发光层66r、66g、66b中的任一方、电子输送层67以及第二电极(阴极)68。其中，空穴输送层65、发光层66r、66g、66b、电子输送层67相当于有机层。另外，在本实施方式中，发光层66r是发出红色光的有机el层，发光层66g是发出绿色光的有机el层，发光层66b是发出蓝色光的有机el层。发光层66r、66g、66b分别形成为与发出红色光、绿色光、蓝色光的发光元件(也有时记为有机el元件)对应的图案。另外，第一电极64按照每个发光元件分离地形成。空穴输送层65、电子输送层67以及第二电极68既可以与多个发光元件62r、62g、62b共用而形成，也可以按照每个发光元件形成。需要说明的是，为了防止第一电极64和第二电极68因异物而短路，在第一电极64之间设置有绝缘层69。并且，由于有机el层会因水分、氧而劣化，因此，设置有用于保护有机el元件免
受水分、氧侵蚀的保护层70。
[0102]
在图7的(b)中，空穴输送层65、电子输送层67用一层示出，但根据有机el显示元件的结构，也可以由包括空穴阻挡层、电子阻挡层在内的多层形成。另外，在第一电极64与空穴输送层65之间也可以形成空穴注入层，该空穴注入层具有能够顺畅地进行空穴从第一电极64向空穴输送层65的注入的能带结构。同样地，在第二电极68与电子输送层67之间也可以形成电子注入层。
[0103]
接着，对有机el显示装置的制造方法的例子进行具体说明。
[0104]
首先，准备形成有用于驱动有机el显示装置的电路(未图示)以及第一电极64的基板63。
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在形成有第一电极64的基板63上通过旋涂而形成丙烯酸树脂，通过光刻法以在形成有第一电极64的部分形成开口的方式对丙烯酸树脂进行构图而形成绝缘层69。该开口部相当于发光元件实际发光的发光区域。
[0106]
将构图有绝缘层69的基板63送入第一有机材料成膜装置，利用基板保持单元21以及/或者静电吸盘(未图示)保持基板，将空穴输送层65作为共用的层而成膜在显示区域的第一电极64上。空穴输送层65通过真空蒸镀而成膜。实际上，空穴输送层65形成为比显示区域61大的尺寸，因此，不需要高精细的掩模。
[0107]
接着，将形成至空穴输送层65的基板63送入第二有机材料成膜装置，利用基板保持单元21以及/或者静电吸盘进行保持。进行基板与掩模的对准，将基板载置于掩模上，在基板63的配置发出红色光的元件的部分，成膜发出红色光的发光层66r。
[0108]
与发光层66r的成膜同样地，利用第三有机材料成膜装置来成膜发出绿色光的发光层66g，进而利用第四有机材料成膜装置来成膜发出蓝色光的发光层66b。在发光层66r、66g、66b的成膜完成后，利用第五成膜装置在整个显示区域61成膜电子输送层67。电子输送层67作为共用的层而形成于三种颜色的发光层66r、66g、66b。
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将形成至电子输送层67的基板移动到金属性成膜材料的成膜装置而成膜第二电极68。
[0110]
根据本发明的一实施例，在有机材料以及/或者金属成膜材料的成膜装置的堆积量信息取得装置中，通过在开闭部件的外周部设置切口部或识别标记等旋转识别部，能够容易地识别开闭部件是否旋转。
[0111]
此后，移动到等离子体cvd装置而成膜保护层70，有机el显示装置60完成。
[0112]
从将构图有绝缘层69的基板63送入成膜装置起直至保护层70的成膜完成为止，若暴露在包含水分、氧在内的环境中，则由有机el材料制成的发光层可能会因水分、氧而劣化。因此，在本例中，成膜装置之间的基板的送入送出在真空环境或非活性气体环境下进行。
[0113]
上述实施例示出本发明的一例，本发明并不限定于上述实施例的结构，可以在其技术思想的范围内适当变形。