技术总结
本申请公开一种半导体工艺设备的反应腔室及半导体工艺设备，所公开的反应腔室中：端盖部通过铰链机构与腔室本体铰接，安装件可拆卸地设置于腔室本体上，端盖本体活动设置于安装件上，匀流装置设置于端盖本体朝向腔室本体的一侧；绝缘调节件包括绝缘调节基部和调节螺杆，绝缘调节基部与端盖本体可拆卸相连，绝缘调节基部设置于腔室本体上，且位于安装件内侧，安装件开设有与调节螺杆螺纹配合的螺纹通孔，调节螺杆的一端穿过螺纹通孔，且抵触于绝缘调节基部上；在调节螺杆转动的情况下，调节螺杆推动绝缘调节基部、端盖本体和匀流装置移动。上述方案能够解决匀流板以及匀流喷头与反应腔室的同心度较低的问题。应腔室的同心度较低的问题。应腔室的同心度较低的问题。
技术研发人员：朱海云
受保护的技术使用者：北京北方华创微电子装备有限公司
技术研发日：2020.10.22
技术公布日：2021/3/8