一种膜厚控制装置及磁控溅射机的制作方法

本实用新型涉及零件镀膜技术领域，具体而言，涉及一种膜厚控制装置及磁控溅射机。

背景技术：

目前，在车灯零件磁控溅射镀膜的工艺过程中，需要使用相应的挡板实现对磁控溅射靶材的遮挡。通常使用的挡板为整体式装卸遮挡，仅作为简单靶材遮挡作用。这种普通的挡板无法实现零件磁控溅射镀膜过程中的局部遮挡靶材功能，不能有效起到准确控制零件膜厚的作用。

技术实现要素：

本实用新型解决的问题是目前磁控溅射过程中无法实现对靶材的局部遮挡。

为解决上述问题，本实用新型提供一种膜厚控制装置，包括与靶材相邻设置的遮挡结构；所述遮挡结构包括支撑杆，以及若干依次相邻设置的挡板；所述挡板位于所述靶材的上方，且所述挡板与所述支撑杆活动连接。将传统的整体结构的遮挡板设置为若干个分体结构的挡板，进而通过对单个的挡板进行调节，来实现对靶材的局部进行遮挡，实现零件磁控溅射镀膜过程中的局部遮挡靶材以及可控镀膜。

可选地，所述遮挡结构的数量为两个，两个所述遮挡结构分别设置于所述靶材的两侧。通过两个遮挡结构的遮挡作用对零件上的镀膜区域进行控制，进而实现对镀膜厚度的控制，提高对镀膜控制的精确度。

可选地，所述挡板为方形的板状结构。通过规则的方形结构来扩大该膜厚控制装置的使用范围。

可选地，所述遮挡结构还包括调节装置，所述挡板与所述支撑杆通过所述调节装置相连。

可选地，所述调节装置包括设置于所述挡板上的导向孔，以及设置于所述支撑杆上的限位孔，所述限位孔与所述导向孔相适配，所述导向孔为长形孔，且所述导向孔向所述靶材的方向延伸；所述调节装置还包括与所述限位孔相适配的螺钉，以及与所述螺钉相适配的螺母，所述螺钉依次穿过所述限位孔与所述导向孔，通过将所述螺母与所述螺钉相连，实现对所述挡板以及所述支撑杆的连接。

可选地，所述导向孔的内侧设置有第一齿状结构，所述螺钉的外侧设置有与所述第一齿状结构相适配的第二齿状结构，所述第二齿状结构与所述第一齿状结构相啮合。

可选地，所述调节装置包括设置于所述支撑杆上端的滑块，以及设置于所述挡板下端的滑槽，所述滑块与所述滑槽相适配，所述滑槽为长形槽，且所述滑槽向所述靶材的方向延伸。

可选地，相邻设置的所述挡板之间滑动连接。

本实用新型的另一目的在于提供一种磁控溅射机，包括如上所述的膜厚控制装置。

与现有技术相比，本实用新型提供的膜厚控制装置具有如下优势：

本实用新型提供的膜厚控制装置，设置与靶材相邻的遮挡结构，通过在遮挡结构中设置若干个与支撑杆活动连接的挡板，从而能够根据零件的镀膜需求来对相应的挡板的位置进行调节，通过调节挡板的位置来改变对靶材的遮挡区域以及遮挡面积，进而实现对镀膜区域和镀膜厚度进行精确控制。

附图说明

图1为本实用新型所述的膜厚控制装置的结构简图。

附图标记说明：

1-支撑杆；2-挡板；21-导向孔；3-螺母；4-靶材。

具体实施方式

下面详细描述本实用新型的实施例，所述实施例的示例在附图中表示，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本实用新型，而不能理解为对本实用新型的限制，基于本实用新型的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“周向”、“径向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于简化描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性，或隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定为“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第一特征之“上”或之“下”，可以包括第一特征和第二特征直接接触，也可以包括第一特征和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征的正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度低于第二特征。

为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂，下面结合附图对本实用新型的具体实施例做详细的说明。

为解决目前磁控溅射过程中无法实现对靶材局部遮挡的问题，本实用新型提供一种膜厚控制装置，参见图1所示，该膜厚控制装置包括与靶材4相邻设置的遮挡结构，通过遮挡结构来对靶材4进行遮挡，通过遮挡结构的遮挡作用对零件上的镀膜区域进行控制，进而实现对镀膜厚度的控制；与靶材4相邻设置的遮挡结构的结构形式以及尺寸可根据镀膜需求而定。

本申请中的遮挡结构包括支撑杆1，以及若干依次相邻设置的挡板2；其中支撑杆1用于对若干挡板2进行支撑固定，该支撑杆1的形状及尺寸均可根据需求而定，本申请优选该支撑杆1的形状为长方体，支撑杆1的长度可根据靶材4的长度而定，该长方体状支撑杆1与靶材4平行设置，即支撑杆1平行设置于靶材4的旁边。

挡板2用于对靶材4进行遮挡，为实现对靶材4的局部遮挡，本申请优选支撑杆1上设置有若干依次相邻设置的挡板2；若干挡板2均位于靶材4的上方，以便于对靶材4进行遮挡，且每一挡板2均与支撑杆1活动连接，以便于使得每一挡板2与支撑杆1之间的相对位置均可调节，从而通过调节挡板2与支撑杆1之间的相对位置，来对挡板2对靶材4的遮挡区域进行调节，进而实现对零件上的镀膜区域以及镀膜厚度进行调节。

其中支撑杆1上对应的若干挡板2的尺寸及形状可以相同，也可以不同，为便于对结构进行理解，本申请优选支撑杆1上对应的若干挡板2的尺寸及形状均相同。支撑杆1上挡板2的数量根据需遮挡的靶材4的尺寸以及每一挡板2的尺寸而定。

使用该膜厚控制装置时，根据零件的镀膜需求，对相应的挡板2进行调节，通过挡板2来对靶材4上的局部区域进行遮挡，从而实现对镀膜区域和镀膜厚度的精确控制。

此外，为提高控制的精确度，还可适当缩小每一挡板2的尺寸，使得每一挡板2对靶材4的遮挡面积减小，从而使得对挡板2进行调节时，对靶材4的遮挡面积的变化减小，进而提高对遮挡面积进行控制的精确性，提高对镀膜区域和镀膜厚度控制的精确性。

本实用新型提供的膜厚控制装置，设置与靶材4相邻的遮挡结构，通过在遮挡结构中设置若干个与支撑杆1活动连接的挡板2，从而能够根据零件的镀膜需求来对相应的挡板2的位置进行调节，通过调节挡板2的位置来改变对靶材4的遮挡区域以及遮挡面积，进而实现对镀膜区域和镀膜厚度进行精确控制。

本实用新型提供的膜厚控制装置，将传统的整体结构的遮挡板设置为若干个分体结构的挡板2，进而通过对单个的挡板2进行调节，来实现对靶材4的局部进行遮挡，实现零件磁控溅射镀膜过程中的局部遮挡靶材以及可控镀膜。

进一步的，为提高对镀膜控制的精确性，本申请优选遮挡结构的数量为两个，两个遮挡结构分别设置于靶材4的两侧。

将两个遮挡结构分别设置于靶材4的两侧，通过两个遮挡结构分别从两侧来对靶材4进行遮挡，通过两个遮挡结构的遮挡作用对零件上的镀膜区域进行控制，进而实现对镀膜厚度的控制，提高对镀膜控制的精确度；位于靶材4两侧的遮挡结构的结构形式以及尺寸等可以相同，也可以不同，具体可根据镀膜需求而定；本申请优选位于靶材4两侧的遮挡结构的结构形式以及尺寸等均相同

使用该膜厚控制装置时，在靶材4的两侧均设置有遮挡结构，且每一遮挡结构均包括若干可活动的挡板2，根据零件的镀膜需求，对相应的挡板2进行调节，通过挡板2来对靶材4上的局部区域进行遮挡，从而实现对镀膜区域和镀膜厚度的精确控制。

挡板2的具体形状可根据镀膜需求而定，本申请优选挡板2为方形的板状结构，以便于通过规则的方形结构来扩大该膜厚控制装置的使用范围。

此外，根据镀膜需求，还可以在挡板2上设置需要的镂空图案，具体的镂空图案的形状及尺寸根据具体需求而定。

为便于对挡板2的位置进行调节，本申请中的遮挡结构还包括调节装置，挡板2与支撑杆1通过调节装置相连。

通过该调节装置，来对挡板2与支撑杆1之间的相对位置进行调节，从而降低操作难度，同时提高对挡板2进行调节的精确度，进而提高对镀膜进行控制的精确度。

具体的，该调节装置可以为任意形式能够对挡板2的位置进行调节的装置；本申请提供的一种结构形式为，调节装置包括设置于挡板2上的导向孔21，以及设置于支撑杆1上的限位孔，限位孔与导向孔21相适配，该导向孔21为长形孔，且导向孔21向靶材4的方向延伸；调节装置还包括与限位孔相适配的螺钉，以及与螺钉相适配的螺母3，螺钉依次穿过限位孔与导向孔21，通过将螺母3与螺钉相连，实现对挡板2以及支撑杆1的连接。

其中导向孔21向靶材4的方向延伸具体是指，导向孔21的长度方向沿从挡板2向靶材4的方向分布，从而使得挡板2能够沿导向孔21的长度方向移动，在挡板2沿导向孔21的长度方向移动的过程中，改变该挡板2在导向孔21长度方向上对靶材4的遮挡面积，从而改变在导向孔21的长度方向上对零件镀膜的控制。

具体的，使用该膜厚控制装置时，将螺钉从下向上依次穿过限位孔与导向孔21，根据镀膜需求，沿导向孔21的长度方向调整挡板2的位置，将挡板2的位置调整到满足遮挡需求的位置后，将螺母3在该螺钉上旋紧，实现对挡板2和支撑板1的固定，完成对挡板2的调节。

由于本申请中在靶材4的两侧各设置有一套遮挡结构，且每套遮挡结构中均包括一支撑杆1，以及若干与该支撑杆1活动连接的挡板2，每一挡板2上均设置有向靶材4的方向延伸的导向孔21，从而使得每一挡板2均可以沿着设置于其自身的导向孔21的长度方向，向靠近靶材4的方向，或远离靶材4的方向移动，从而改变挡板2对靶材4的遮挡区域以及遮挡面积，提高对镀膜的控制精度。由于每一支撑杆1上设置的若干挡板2均可自由调节，从而能够实现对靶材4的局部遮挡，通过对两个遮挡结构中不同的挡板2进行调节，能够实现对靶材4的多种遮挡方案，从而在实现对靶材4进行精确遮挡的同时，还可使该膜厚控制装置能够适用于多种不同的场合，满足用户的多种镀膜需求，扩大膜厚控制装置的使用范围。

为便于对挡板2进行调节，本申请进一步在导向孔21的内侧设置有第一齿状结构，螺钉的外侧设置有与第一齿状结构相适配的第二齿状结构，第二齿状结构与第一齿状结构相啮合。

通过在螺钉的外侧设置第二齿状结构，使得螺钉形成一齿轮结构，同时在导向孔21的内侧设置第一齿状结构，使得导向孔21形成齿轮槽，需要对挡板2的位置进行调节时，将螺母3从螺钉上旋松，然后旋转螺钉，由于螺钉外侧的第二齿状结构与导向孔21内侧的第一齿状结构相啮合，螺钉旋转的同时，该螺钉外侧的第二齿状结构带动第一齿状结构移动，进而带动挡板2移动，实现对挡板2位置的调节。

本申请通过设置相互啮合的齿状结构，使得螺钉一方面作为调节构件，对挡板2的位置进行调节，另一方面又作为固定构件，来对挡板2与支撑杆1进行紧固锁付，在不增加零部件数量的基础上，降低对挡板2的位置进行调节的难度。

本申请提供另一种结构的调节装置，该调节装置包括设置于支撑杆1上端的滑块，以及设置于挡板2下端的滑槽，滑块与滑槽相适配，滑槽为长形槽，且滑槽向靶材4的方向延伸。

滑槽向靶材4的方向延伸具体是指，滑槽的长度方向沿从挡板2向靶材4的方向分布，从而使得挡板2能够沿滑槽的长度方向移动，在挡板2沿滑槽的长度方向移动的过程中，改变该挡板2在滑槽长度方向上对靶材4的遮挡面积，从而改变在滑槽的长度方向上对零件镀膜的控制。

将调节装置设置为滑块与滑槽结构，结构简单，易于操作。

进一步的，遮挡结构中相连设置的挡板2之间可以抵接；为减小相邻挡板2之间的摩擦力，减小相邻挡板2之间的间隙，本申请优选相邻挡板2之间滑动连接，并进一步优选相邻设置的挡板2之间通过相适配的滑块与滑槽相连，或相邻设置的挡板2之间通过滑轨相连。

本实用新型的另一目的在于提供一种磁控溅射机，该磁控溅射机包括如上所述的膜厚控制装置。

本实用新型提供的磁控溅射机，设置有与靶材4相邻的遮挡结构，通过在遮挡结构中设置若干个与支撑杆1活动连接的挡板2，从而能够根据零件的镀膜需求来对相应的挡板2的位置进行调节，通过调节挡板2的位置来改变对靶材4的遮挡区域以及遮挡面积，进而实现对镀膜区域和镀膜厚度进行精确控制。

虽然本公开披露如上，但本公开的保护范围并非仅限于此。本领域技术人员，在不脱离本公开的精神和范围的前提下，可进行各种变更与修改，这些变更与修改均将落入本实用新型的保护范围。