一种用于金刚石膜沉积的衬底预处理支架的制作方法

文档序号:23832549发布日期:2021-02-03 18:33阅读:98来源:国知局
一种用于金刚石膜沉积的衬底预处理支架的制作方法

[0001]
本实用新型涉及一种支架装置,具体为一种用于金刚石膜沉积的衬底预处理支架。


背景技术:

[0002]
金刚石膜在异质衬底上的生长是从形核开始的,即需要在异质衬底上生长出一个大于临界尺寸的金刚石晶核,由于必须首先形成大于临界尺寸的晶核,因此在没有经过预处理的的光滑衬底的表面上形核需要经历一个相当长的“孕育期”,而且形核的密度和好坏直接影响着金刚石的质量。为了缩短其孕育期和提高金刚石的形核密度,通常需要在沉积前对衬底进行预处理。
[0003]
在众多预处理方法中,利用超声波对衬底处理,是一重要而常用的方法,具体过程如下:将衬底放入钛粉和金刚石粉的悬浊液里超声预处理,使其产生足够的缺陷及ti粉、金刚石粉附着在基底上,在形核时提供足够的形核位置,以便快速形核,若直接将基底放入悬浊液中,在超声处理时会沉入底部,处理效果较差,若采用一般的夹持架,会使基底的某一部分处理不到,这样的后果会使未处理到的部分,在沉积金刚石膜时,较难沉积金刚石膜,并且两种中方法处理的数量有限。
[0004]
因此,针对这些问题,而提供一种用于金刚石膜沉积的衬底预处理支架。


技术实现要素:

[0005]
本实用新型的目的就在于为了解决上述问题而提供一种用于金刚石膜沉积的衬底预处理支架。
[0006]
本实用新型通过以下技术方案来实现上述目的:一种用于金刚石膜沉积的衬底预处理支架,包括端盖,所述端盖的下面设置有腔体,所述腔体的下端设置有吸盘,所述腔体的侧面设置有支撑架,所述端盖的内部设置有密封垫,所述端盖的上端设置有开度控制装置,所述腔体的内部设置有连接腔,所述连接腔的上端设置有密封槽,所述开度控制装置的顶端设置有螺杆,所述螺杆的下侧位置处设置有连接块,所述连接块的内部设置有开度块。
[0007]
优选的,所述端盖的上端面设置有进气孔和抽气孔,所述进气孔和抽气孔设置为对称结构。
[0008]
优选的,所述腔体的底部设置有若干个吸盘连接孔,所述吸盘连接孔的上端连接有连接腔,连接腔的内部设置有干燥剂。
[0009]
优选的,所述开度控制装置的开度块设置为圆台、圆球、或圆锥状形状,且所述开度块的最大尺寸大于或等于进气孔的内径。
[0010]
优选的,所述端盖的内部两侧设置有密封垫,所述密封垫的下端设置有密封槽。
[0011]
优选的,所述支撑架贯穿在端盖的上下两端,所述支撑架设置为细长型结构。
[0012]
与现有技术对比,本实用新型具备以下有益效果:
[0013]
1、该对沉积金刚石膜的衬底超声预处理时的衬底支架,利用气压差,使基底在外
部的气压的作用下,紧贴支架上,使衬底稳定悬于悬浊液中,衬底的每部分受到均匀处理,并且在处理的数量上有很大的提高,具有很好的应用前景,同时该装置简单且易于生产,降低使用成本。
[0014]
2、该对沉积金刚石膜的衬底超声预处理时的衬底支架,通过设置进气孔和抽气孔,在工作时用真空泵抽腔体内的空气,使得进气孔的开度小于抽气孔的开度,同时腔体的吸盘要在液体以下且吸盘要柔软,增加超声的处理效果,使得装置的衬底支架设计的更加合理有效,提升装置的实用性,便于装置在市面上推广。
附图说明
[0015]
图1为本实用新型的结构示意图;
[0016]
图2为本实用新型剖面的结构示意图;
[0017]
图3为本实用新型端盖的结构示意图;
[0018]
图4为本实用新型腔体的结构示意图;
[0019]
图中:1、端盖;2、腔体;3、吸盘;4、支撑架;5、密封垫;6、开度控制装置;7、进气孔;8、抽气孔;9、连接腔;10、密封槽;11、吸盘连接孔;12、螺杆;13、开度块;14、连接块。
具体实施方式
[0020]
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
[0021]
请参阅图1~4,一种用于金刚石膜沉积的衬底预处理支架,包括端盖1,所述端盖1的上端面设置有进气孔7和抽气孔8,所述进气孔7和抽气孔8设置为对称结构;所述端盖1的下面设置有腔体2,所述腔体2的下端设置有吸盘3,所述腔体2的底部设置有若干个吸盘连接孔11,所述吸盘连接孔11的上端连接有连接腔9,连接腔9的内部设置有干燥剂,所述腔体2的侧面设置有支撑架4,所述开度控制装置6的开度块13设置为圆台、圆球、或圆锥状形状,且所述开度块13的最大尺寸大于或等于进气孔7的内径,所述端盖1的内部设置有密封垫5,所述端盖1的上端设置有开度控制装置6,所述端盖1的内部两侧设置有密封垫5,所述密封垫5的下端设置有密封槽10,所述腔体2的内部设置有连接腔9,所述连接腔9的上端设置有密封槽10,所述开度控制装置6的顶端设置有螺杆12,所述支撑架4贯穿在端盖1的上下两端,所述支撑架4设置为细长型结构,所述螺杆12的下侧位置处设置有连接块14,所述连接块14的内部设置有开度块13。
[0022]
工作原理:当使用该对沉积金刚石膜的衬底支架时,将腔体2的外圆尺寸加工成150mm,在腔体2的中心铣出深7mm,直径为80mm的圆槽,并且在腔体2的上表面铣出直90mm,深度为2mm的密封槽10,在腔体2的底部加工出吸盘连接孔11。将端盖1的端面尺寸加工成95mm,并且进气孔7、抽气孔8外径分别为7mm和5mm,通过螺杆12将腔体2和端盖1固定在一起。之后装上支撑架4,将抽气孔8与机械泵相连调节开度,调节开度控制装置6让进气量小于抽气量,将整个衬底支架倒放,吸盘3向上,打开机械泵抽气,将衬底放置在吸盘3之上,没有吸盘3剩余,由于抽气量大于进气量故密封腔内的气压小于外界气压,衬底被固定吸盘
上,再将衬底支架整体放入ti粉和金刚石粉的乙醇悬浊液中,这时吸盘3向下,进行超声处理。
[0023]
对于本领域技术人员而言,显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节,而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下,能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此,无论从哪一点来看,均应将实施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定,因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
[0024]
此外,应当理解,虽然本说明书按照实施方式加以描述,但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案,说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见,本领域技术人员应当将说明书作为一个整体,各实施例中的技术方案也可以经适当组合,形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。
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