一种台式双面研抛机的制作方法

本实用新型涉及精加工技术领域，尤其是涉及一种台式双面研抛机。

背景技术：

目前双端面研磨加工中，研磨设备主要工作原理是通过在两块平面度以及平行度较高的磨料上，使待研磨工件在两个平行磨料中往复运动，在此种研磨设备工作过程中，待研磨的工件主要依靠磨料之间的摩擦力驱使工件运动，研磨后的工件研磨结果不理想，而且主要依靠操作人员通过大量时间总结经验才能获得较高的加工质量，另外，此种研磨设备工作效率低下。

本申请人发现现有技术至少存在以下技术问题：现有的研磨设备加工质量差和加工效率低下。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种台式双面研抛机，以解决现有技术中存在的研磨设备加工质量差的技术问题。本实用新型提供的诸多技术方案中的优选技术方案所能产生的诸多技术效果详见下文阐述。

为实现上述目的，本实用新型提供了以下技术方案：

本实用新型提供的台式双面研抛机，包括第一研磨盘结构、第二研磨盘结构以及行星轮结构，所述行星轮结构设置在所述第一研磨盘结构与所述第二研磨盘结构之间；

所述行星轮结构包括太阳轮、内齿轮以及多个行星轮，多个所述行星轮均与所述太阳轮和所述内齿轮相啮合，在所述太阳轮上连接有中心轴驱动系统，所述中心轴驱动系统驱动所述太阳轮转动，能够带动所述行星轮转动；待研磨的工件设置在所述行星轮上；

所述第二研磨盘结构与所述第一研磨盘结构能将待研磨的工件夹在两者之间，所述行星轮结构能带动工件做行星运动，所述第一研磨盘结构与工件之间、所述第二研磨盘结构与待研磨的工件之间均能通过摩擦力驱动工件转动。

优选地，所述第二研磨盘结构包括第二研磨盘以及第二研磨盘驱动机构，所述第二研磨盘驱动机构能够驱动所述第二研磨盘转动，让所述第二研磨盘与设置在所述行星轮上的待研磨的工件产生相对移动。

优选地，所述第二研磨盘结构还包括升降机构，所述升降机构能够驱动所述第二研磨盘和所述第二研磨盘驱动机构升降运动，使待研磨的工件夹紧在所述第二研磨盘结构与所述第一研磨盘结构之间。

优选地，所述第二研磨盘与所述太阳轮的中心在同一轴线上。

优选地，所述第一研磨盘结构包括第一研磨盘以及第一研磨盘驱动机构，所述第一研磨盘驱动机构能够驱动所述第一研磨盘转动，让所述第一研磨盘与设置在所述行星轮上的待研磨的工件产生相对移动。

优选地，所述第一研磨盘驱动机构包括第一驱动源和第一驱动轴，所述第一驱动轴与所述第一研磨盘连接，所述第一驱动源驱动所述第一驱动轴转动，带动所述第一研磨盘转动；

所述中心轴驱动系统包括中心转轴和中心轴驱动系统，所述中心转轴与所述太阳轮连接，所述中心轴驱动系统驱动所述中心转轴转动，带动所述太阳轮转动，

所述第一驱动轴为空心轴，所述中心转轴转动穿设在所述第一驱动轴内。

优选地，所述第二研磨盘包括固定盘和浮动盘，所述浮动盘套设在所述固定盘上，所述固定盘与所述第二研磨驱动机构连接，所述浮动盘与待研磨的工件相接触，所述固定盘与所述浮动盘之间在竖直方向具有浮动位移。

优选地，在所述行星轮上设置有若干个存放孔，待研磨的工件设置在所述存放孔内。

优选地，该台式双面研抛机还包括冷却液供给系统，所述冷却液供给系统将冷却液输送至所述第一研磨盘结构与所述第二研磨盘结构之间。

优选地，该台式双面研抛机还包括控制器，所述控制器与所述第一研磨盘结构、所述第二研磨盘结构、所述冷却液供给系统以及所述行星轮结构均电连接。

本实用新型的有益效果是：本实用新型提供的台式双面研抛机，待研磨的工件能够跟随行星轮做行星运动，既能够以自身轴心自转，又能够以太阳轮中心公转，而且，中心轴驱动系统可以自由设置转动速度以及转动方向，改变研磨盘的消耗规律，使其研磨消耗更加均匀稳定，保证加工质量的要求，提高加工质量和加工效率。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本实用新型的立体图；

图2是本实用新型的部分结构示意图；

图3是本实用新型的行星轮结构的结构示意图。

图中1、第一研磨盘结构；2、第二研磨盘结构；3、行星轮结构；4、冷却液供给系统；5、控制器；6、机架；11、第一研磨盘；12、第一驱动源；13、第一驱动轴；21、第二研磨盘；22、第二驱动源；23、第二驱动轴；24、第三驱动源；25、导轨；26、滑块；27、固定块；31、太阳轮；32、行星轮；33、内齿轮；34、中心转轴；35、中心轴驱动源；36、固定柱；211、固定盘；212、浮动盘；61、工作台。

具体实施方式

下面可以参照附图图1～图3以及文字内容理解本实用新型的内容以及本实用新型与现有技术之间的区别点。下文通过附图以及列举本实用新型的一些可选实施例的方式，对本实用新型的技术方案(包括优选技术方案)做进一步的详细描述。需要说明的是：本实施例中的任何技术特征、任何技术方案均是多种可选的技术特征或可选的技术方案中的一种或几种，为了描述简洁的需要本文件中无法穷举本实用新型的所有可替代的技术特征以及可替代的技术方案，也不便于每个技术特征的实施方式均强调其为可选的多种实施方式之一，所以本领域技术人员应该知晓：可以将本实用新型提供的任一技术手段进行替换或将本实用新型提供的任意两个或更多个技术手段或技术特征互相进行组合而得到新的技术方案。本实施例内的任何技术特征以及任何技术方案均不限制本实用新型的保护范围，本实用新型的保护范围应该包括本领域技术人员不付出创造性劳动所能想到的任何替代技术方案以及本领域技术人员将本实用新型提供的任意两个或更多个技术手段或技术特征互相进行组合而得到的新的技术方案。

本实用新型提供了一种加工质量和加工效率更高的台式双面研抛机。

下面结合图1～图3对本实用新型提供的技术方案进行更为详细的阐述。

本实用新型提供了一种台式双面研抛机，包括第一研磨盘结构、第二研磨盘结构以及行星轮结构，所述行星轮结构设置在所述第一研磨盘结构与所述第二研磨盘结构之间；

所述行星轮结构包括太阳轮、内齿轮以及多个行星轮，多个所述行星轮均与所述太阳轮和所述内齿轮相啮合，在所述太阳轮上连接有中心轴驱动系统，所述中心轴驱动系统驱动所述太阳轮转动，能够带动所述行星轮转动；待研磨的工件设置在所述行星轮上；

所述第二研磨盘结构与所述第一研磨盘结构能将待研磨的工件夹在两者之间，所述行星轮结构能带动工件做行星运动，所述第一研磨盘结构与工件之间、所述第二研磨盘结构与待研磨的工件之间均能通过摩擦力驱动工件转动。

本实用新型提供的台式双面研抛机，待研磨的工件能够跟随行星轮做行星运动，既能够以自身轴心自转，又能够以太阳轮中心公转，而且，中心轴驱动系统可以自由设置转动速度以及转动方向，改变研磨盘的消耗规律，使其研磨消耗更加均匀稳定，保证加工质量的要求，提高加工质量和加工效率。

作为可选地实施方式，所述第二研磨盘结构包括第二研磨盘以及第二研磨盘驱动机构，所述第二研磨盘驱动机构能够驱动所述第二研磨盘转动，让所述第二研磨盘与设置在所述行星轮上的待研磨的工件产生相对移动。

所述第二研磨盘结构自身能够独立转动，使得所述第二研磨盘与工件之间的摩擦力可控，自由调节转动速度以及转动方向，进一步改变研磨盘的消耗规律。

作为可选地实施方式，所述第二研磨盘结构还包括升降机构，所述升降机构能够驱动所述第二研磨盘和所述第二研磨盘驱动机构升降运动，使待研磨的工件夹紧在所述第二研磨盘结构与所述第一研磨盘结构之间。

升降机构的设置，使得第二研磨盘与第一研磨盘之间能够实现接触与分离，随意调节接触位置以及施加在工件上的压力，使工件研磨能够达到分工进行，前期需要粗加工时，可以增加压力，快速打磨，需要精加工时，合理控制压力，使其慢速打磨出精品。

作为可选地实施方式，所述第二研磨盘与所述太阳轮的中心在同一轴线上。在同一轴线上能够更好的把控第二研磨盘与太阳轮之间压力的控制，保证加工质量和加工效率。

作为可选地实施方式，所述第一研磨盘结构包括第一研磨盘以及第一研磨盘驱动机构，所述第一研磨盘驱动机构能够驱动所述第一研磨盘转动，让所述第一研磨盘与设置在所述行星轮上的待研磨的工件产生相对移动。

所述第一研磨盘结构自身能够独立转动，使得所述第一研磨盘可以自由调节转动速度以及转动方向，进一步改变第一研磨盘的消耗规律。

作为可选地实施方式，所述第一研磨盘驱动机构包括第一驱动源和第一驱动轴，所述第一驱动轴与所述第一研磨盘连接，所述第一驱动源驱动所述第一驱动轴转动，带动所述第一研磨盘转动；

所述中心轴驱动系统包括中心转轴和中心轴驱动系统，所述中心转轴与所述太阳轮连接，所述中心轴驱动系统驱动所述中心转轴转动，带动所述太阳轮转动，

所述第一驱动轴为空心轴，所述中心转轴转动穿设在所述第一驱动轴内。

上述结构，使得本实用新型提供的台式双面研抛机的整体体积变小，而且中心轴驱动系统与第一研磨盘驱动机构可以实现单独控制，不受到彼此的影响；体积的减小使得台式双面研抛机可以放置到任何场地使用，尤其是实验室或者办公室等场地，非常方便。

作为可选地实施方式，所述第二研磨盘包括固定盘和浮动盘，所述浮动盘套设在所述固定盘上，所述固定盘与所述第二研磨驱动机构连接，所述浮动盘与待研磨的工件相接触，所述固定盘与所述浮动盘之间在竖直方向具有浮动位移。

第二研磨盘的设计能够分散压力，调节压力的均匀性，具有一定的缓冲效果，避免了第二研磨盘与工件的刚性接触，使研磨盘的使用周期显著增加；尤其对于平面度较低的工件，在加工过程中第二研磨盘自身能够做出适宜的调整。

作为可选地实施方式，在所述行星轮上设置有若干个存放孔，待研磨的工件设置在所述存放孔内。通过设置存放孔用来放置工件，使工件在行星轮上的位置被限定。

作为可选地实施方式，该台式双面研抛机还包括冷却液供给系统，所述冷却液供给系统将冷却液输送至所述第一研磨盘结构与所述第二研磨盘结构之间。持续的冷却液供给系统，可以稳定的控制研磨过程中的温度变化，并不断提供新的磨料，确保加工效率。

作为可选地实施方式，该台式双面研抛机还包括控制器，所述控制器与所述第一研磨盘结构、所述第二研磨盘结构、所述冷却液供给系统以及所述行星轮结构均电连接。

实施例1:

本实用新型提供的台式双面研抛机，包括机架6以及设置在所述机架6上的第一研磨盘结构1、第二研磨盘结构2、行星轮结构3、冷却液供给系统4以及控制器5，所述行星轮结构3设置在所述第一研磨盘结构1与所述第二研磨盘结构2之间且三者的中心处于同一轴线上；所述控制器5与所述第一研磨盘结构1、所述第二研磨盘结构2、所述冷却液供给系统4以及所述行星轮结构3均电连接。

在所述机架6上设置有工作台61，所述第一研磨盘结构1设置在所述工作台61上，所述第一研磨盘结构1包括第一研磨盘11以及第一研磨盘驱动机构，在所述工作台61的中部开设有第一通孔，所述第一研磨盘驱动机构包括第一驱动源12和第一驱动轴13，所述第一驱动轴13为空心轴，所述第一驱动轴13可转动穿设在所述第一通孔内，所述第一驱动轴13的顶部与所述第一研磨盘11固定连接，所述第一驱动源12能够驱动所述第一驱动轴13转动，带动所述第一研磨盘11转动，使得所述第一研磨盘11与后文中设置在所述行星轮32上的待研磨的工件产生相对移动。

所述行星轮结构3包括太阳轮31、内齿轮33、多个行星轮32以及中心轴驱动系统，在每个所述行星轮上设置有若干个存放孔，待研磨的工件放置在所述存放孔内，所述内齿轮33通过若干固定柱36固定在所述工作台61上且位于所述第一研磨盘11上方，所述中心轴驱动系统包括中心转轴34和中心轴驱动源35，所述中心转轴34可转动穿设在空心的所述第一驱动轴13内，所述中心转轴34的顶部与所述太阳轮31连接，所述中心转轴34的底部与中心轴驱动源35连接，所述中心轴驱动源35能驱动所述中心转轴34转动，带动所述太阳轮31转动；

多个所述行星轮32设置在所述太阳轮31和所述内齿轮33之间，多个所述行星轮32均与所述太阳轮31和所述内齿轮33相啮合，在所述中心轴驱动系统驱动所述太阳轮31转动时，所述太阳轮31能够带动所述行星轮32转动，使得所述行星轮32既能够围绕自身轴心自转，又能够绕着中心转轴34公转，待研磨的工件设置在所述行星轮32上，使得待研磨的工件能够跟随所述行星轮32做行星运动。

所述第二研磨盘结构2包括第二研磨盘21、第二研磨盘驱动机构以及升降机构，所述第二研磨盘驱动机构包括第二驱动源22和第二驱动轴23，所述第二驱动轴23与所述第二研磨盘21固定连接，所述第二驱动源22能驱动所述第二驱动轴23转动，所述第二驱动轴23转动带动所述第二研磨盘21转动，使得所述第二研磨盘21与设置在所述行星轮32上的待研磨的工件产生相对移动。

所述升降机构能够带动所述第二研磨盘结构2升降移动，所述升降机构包括第三驱动源24、导轨25、滑块26以及固定块27，所述滑块26与所述固定块27固定连接，所述固定块27与所述第二研磨盘驱动机构连接，所述第三驱动源24驱动所述滑块26在所述导轨25上升降移动，带动所述第二研磨盘21和第二研磨盘驱动机构升降移动。

所述第二研磨盘21包括固定盘211和浮动盘212，所述固定盘211与所述第二驱动轴23连接，所述浮动盘212与待研磨工件相接触，所述浮动盘212与所述固定盘211连接且两者在竖直方向上设置有浮动位移，在所述升降机构带动所述第二研磨盘21移动至与所述行星轮32上的待研磨的工件相接触时，能够分散压力，调节压力的均匀性，具有一定的缓冲效果，而且在第二研磨盘21出现磨损时，浮动盘212与固定盘211之间的浮动能够进行适当的调整，延长第二研磨盘21的使用寿命。

所述冷却液供给系统4用于将冷却液输送至所述第一研磨盘结构1与所述第二研磨盘结构2之间，对研磨工作进行冷却。

以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。