技术特征：
1.一种用于六面体工件的表面磨抛设备，所述六面体工件包括四个面积相对小的侧面和两个大表面，其特征在于：包括有：机架；输送轨道，所述的输送轨道为直线形且相对机架前后方向固定，用于承载工件；搬运机构，所述搬运机构包括：第一移动架，所述第一移动架可沿着输送轨道的分布方向前后往复移动，且每次移动距离固定；第二移动架，所述第二移动架与第一移动架同步运动，同时所述第二移动架可相对第一移动架上下往复移动；夹具，所述夹具位于所述输送轨道的上侧，所述夹具数量若干且沿着机架的前后方向等间距分布，相邻夹具之间的间距与第一移动架的移动行程相同，所述搬运机构可带动所有夹具同步运动；第一抛光机组，所述第一抛光机组包括两台相对分布的表面抛光机，所述第一抛光机组可对工件的任意两平行侧面进行平面抛光；第二抛光机组，所述第二抛光机组可对工件的大表面进行抛光；转移机构，所述输送轨道与第一抛光机组之间连接有转移机构，所述输送轨道与第二抛光机组之间也连接有转移机构；第一转向机构，可对工件进行竖直轴向的转向作业；第二转向机构，可对工件进行水平轴向的转向作业；所述搬运机构可带动所述夹具上下前后移动，所述夹具的动作模式依次为向下与工件形成夹持固定、带动工件向后移动、向上与工件脱离、向前回归原位；所述搬运机构按上述动作模式循环，所述夹具可带动输送轨道上的工件向后等距逐步移动；所述的第一抛光机组设有两组，且沿着输送轨道的分布方向前后设置，所述第一转向机构位于两第一抛光机组之间；所述第二抛光机组也设有两组，且沿着输送轨道的分布方向前后设置，所述第二抛光机组位于第一抛光机组的后侧，所述第二转向机构位于两第二抛光机组之间；所述搬运机构每完成一次循环后设有固定的停歇时间，在该停歇时间内，所述搬运机构可将输送轨道上的工件转移到第一抛光机组或者第二抛光机组上；完成抛光后搬运机构可将工件转移回输送轨道的原位上或者直接完成下料。2.根据权利要求1所述的用于六面体工件的表面磨抛设备，其特征在于：两第一抛光机组之间的第二移动架上设有转动轴为竖直设置的转向气缸，所述转向气缸可带动一个夹具在竖直轴向上转动90
°
，所述转向气缸与对应夹具组成所述第一转向机构。3.根据权利要求1或2所述的用于六面体工件的表面磨抛设备，其特征在于：第二转向机构包括：转动装置，所述转动装置的输出轴为水平且垂直于输送轨道分布方向，所述转动装置的输出轴每次转动180
°
；夹持组件，用于夹持工件，所述夹持组件与转动装置的输出轴固接；进给组件，所述进给组件可带动转动装置整体移动，使夹持组件靠近或远离输送轨道上的工件。4.根据权利要求3所述的用于六面体工件的表面磨抛设备，其特征在于：所述夹持组件为手指气缸。5.根据权利要求3所述的用于六面体工件的表面磨抛设备，其特征在于：转移机构包括：移动座，所述移动座具备在水平方向上且垂直于输送轨道方向往复移动；承托块，所述承托块的上表面与输送轨道表面重合，所述承托块固定在移动座上；夹紧机构，所述夹紧机
构相对移动座固定且可夹持位于承托块上的工件，且夹持方向与移动座移动方向平行；输送轨道上设有缺口，使所述承托块可随移动座移动至缺口内，所述夹具可将工件移动至所述承托块上。6.根据权利要求5所述的用于六面体工件的表面磨抛设备，其特征在于：第一抛光机组还包括有两组定位机构，所述定位机构包括定位块和顶块，两者分别位于移动座移动路径的两侧；两组定位机构上的定位块为关于移动座移动路径异侧分布；所述顶块可将路过的承托块上的工件抵合到定位块上。7.根据权利要求6所述的用于六面体工件的表面磨抛设备，其特征在于：所述第一抛光机的抛光面与移动座移动路径平行，所述第一抛光机与机架之间连接有直线移动机构，所述直线移动机构的移动方向与移动座移动路径垂直。8.根据权利要求5所述的用于六面体工件的表面磨抛设备，其特征在于：第二抛光机组包括：框架，所述框架与所述机架为滑动配合，滑动方向与输送轨道的分布方向平行；砂轮，所述砂轮与框架转动连接，砂轮的滚动轴与框架移动方向平行；z轴移动机构，所述z轴移动机构的移动方向为竖直方向且位于砂轮下方，用于连接输送轨道与第二抛光机组的转移机构整体固定在所述z轴移动机构上，z轴移动机构可同步带动该转移机构以及其上的工件靠近或远离所述砂轮。9.根据权利要求5所述的用于六面体工件的表面磨抛设备，其特征在于：机架上设有振动盘，振动盘的输出端与输送轨道的前端连接。10.根据权利要求1所述的用于六面体工件的表面磨抛设备，其特征在于：所述夹具上设有两片前后间隔分布的夹片，夹片之间的间距为由上至下逐渐增大设置。