一种陶瓷用研磨抛光一体化设备的制作方法

本发明涉及陶瓷研磨技术领域，尤其是一种陶瓷用研磨抛光一体化设备。

背景技术：

陶瓷水阀片在使用时需要保证其表面的光滑及平整度，现有的用于研磨陶瓷水阀片的研磨盘在研磨过程中需要人工进行加水，人工操作导致陶瓷水阀片的生产质量不一，处于中间位置的陶瓷在研磨过程中相比较外侧的陶瓷研磨过程中能接触到的水会比较少，从而导致中间位置的陶瓷在研磨过程中受热大，容易产生裂痕，难以保证生产质量。

现有的陶瓷厂在进行陶瓷研磨后，还需要将研磨好的陶瓷搬到对应的抛光机上进行抛光，从而导致生产效率低下，并且现有的抛光设备对陶瓷抛光的时候只能单面抛光。

技术实现要素：

为解决上述技术问题，本发明提供了一种陶瓷用研磨抛光一体化设备。

本发明的技术方案为：一种陶瓷用研磨抛光一体化设备，包括机架、下研磨组件与研磨抛光组件；

所述机架上设有有第一转动件，所述下研磨组件设于第一转动件上，所述研磨抛光组件包括伸缩旋转结构、旋转杆、上研磨组件与上抛光组件，所述伸缩旋转结构设于机架上，所述旋转杆设于伸缩旋转结构上端，所述旋转杆的两端分别设有上研磨组件与上抛光组件，所述上研磨组件与上抛光组件经过旋转可分别位于下研磨组件正上方。

优选地，所述下研磨盘组件包括固定盘与下研磨盘，所述固定盘固定连接于第一转动件上，所述下研磨盘固定设于固定盘，所述固定盘与下研磨盘接触的面上设有第一储水槽，所述下研磨盘上设有至少一圈的均匀分布的第一金刚石磨片，任一所述第一金刚石磨片与下研磨盘上均设有第一注水孔，所述第一注水孔内设有第一磨片定位杆，所述第一磨片定位杆呈空心状。

优选地，所述伸缩旋转结构包括旋转件与伸缩杆，所述旋转件设于机架上，所述旋转件上设有伸缩杆。

优选地，所述上研磨组件包括上研磨固定盘、上研磨盘、第一转动杆与第一转动结构，所述上研磨固定盘下方设有上研磨盘，所述上研磨固定盘与上研磨盘接触的面上设有第二储水槽，所述上研磨盘上设有至少一圈的均匀分布的第二金刚石磨片，任一所述第二金刚石磨片与上研磨盘上均设有第二注水孔，所述第二注水孔内设有第二磨片定位杆，所述第二磨片定位杆呈空心状，所述第一转动杆一端可转动设于旋转杆上并贯穿于旋转杆的上表面，另一端与上研磨固定盘、上研磨盘相连，所述第一转动杆为内凹状，开口设于上方，所述第一转动杆与第二储水槽相接触的面上设有多个第一进水口，所述第一转动杆与第一转动结构相连。

优选地，所述第一转动杆上端与储水结构相连。

优选地，所述上抛光组件包括上抛光固定盘、抛光盘、第二转动杆与第二转动结构，所述上抛光固定盘下方设有抛光盘，所述上抛光固定盘与抛光盘接触的面上设有第三储水槽，所述抛光盘上设有至少一圈的均匀分布的抛光片，任一所述抛光片与抛光盘上均设有第三注水孔，所述第三注水孔内设有抛光片定位杆，所述抛光片定位杆呈空心状，所述第二转动杆一端可转动设于旋转杆上并贯穿于旋转杆的上表面，另一端与上抛光固定盘、抛光盘相连，所述第二转动杆为内凹状，开口设于上方，所述第二转动杆与第三储水槽相接触的面上设有多个第二进水口，所述第二转动杆与第二转动结构相连。优选地，所述第二转动杆上端与储水结构相连。

优选地，所述机架上表面设有护板。

优选地，所述旋转杆关于伸缩旋转结构分开的两侧杆呈一定角度，所述角度的大小为0°～180°。

与现有技术相比，本发明具有如下有益效果：

1.本发明与现有技术相比，本发明可以对陶瓷进行双面打磨，从而有利于提高生产效率。

2.本发明的设备可以在研磨完成后无需移动陶瓷进行抛光，从而达到研磨抛光一体的效果，有利于节约人工成本，提高生产效率。

3.无论是研磨盘还是抛光盘都加了进水孔，从而使得研磨和抛光的过程中，无需工人加水，并且可以保证研磨或者抛光位于中间的陶瓷和侧面的陶瓷接受到的水分相同，可以保证陶瓷研磨抛光的质量同一性，避免了产品质量层次不齐的情况。

附图说明

图1为本发明的整体正面立体结构示意图；

图2为本发明的研磨抛光组件结构示意图；

图3为本发明的上研磨组件/上抛光组件剖视结构示意图；

图4为本发明的上研磨固定盘与上研磨盘/上抛光固定盘与抛光盘剖视结构示意图；

图5为本发明的固定盘与下研磨盘整体立体结构示意图；

图6为本发明的固定盘与下研磨盘剖视结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本发明的描述中，需要理解的是，术语中“前”、“后”、“左”、“右”、“上”、“下”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了方便描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位，以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制，本发明中各实施例的技术方案可进行组合，实施例中的技术特征亦可进行组合形成新的技术方案。

实施例

根据图1至图6可知，一种陶瓷用研磨抛光一体化设备，包括机架1、下研磨组件2与研磨抛光组件3；

机架1上设有有第一转动件11，第一转动件11为电机，下研磨组件2包括固定盘21与下研磨盘22，固定盘21固定连接于第一转动件11上，下研磨盘22固定设于固定盘21，固定盘21与下研磨盘22接触的面上设有第一储水槽23，下研磨盘22上设有至少一圈的均匀分布的第一金刚石磨片24，任一第一金刚石磨片24与下研磨盘22上均设有第一注水孔25，第一注水孔25内设有第一磨片定位杆26，第一磨片定位杆26呈空心状，研磨抛光组件3包括伸缩旋转结构4、旋转杆5、上研磨组件6与上抛光组件7，伸缩旋转结构4包括旋转件41与伸缩杆42，旋转件41设于机架1上，旋转件41上设有伸缩杆42，旋转杆5设于伸缩杆42上端，旋转杆5的两端分别设有上研磨组件6与上抛光组件7，上研磨组件6与上抛光组件7经过旋转可分别位于下研磨组件2正上方；

上研磨组件6包括上研磨固定盘61、上研磨盘62、第一转动杆63与第一转动结构64，上研磨固定盘61下方设有上研磨盘62，上研磨固定盘61与上研磨盘62接触的面上设有第二储水槽65，上研磨盘62上设有至少一圈的均匀分布的第二金刚石磨片66，任一第二金刚石磨片66与上研磨盘62上均设有第二注水孔67，第二注水孔67内设有第二磨片定位杆68，第二磨片定位杆68呈空心状，第一转动杆63一端通过轴承可转动设于旋转杆5上并贯穿于旋转杆5的上表面，另一端与上研磨固定盘61、上研磨盘62相连，第一转动杆63为内凹状，开口设于上方，第一转动杆63与第二储水槽65相接触的面上设有多个第一进水口69，第一转动杆63与第一转动结构64相连。

上抛光组件7包括上抛光固定盘71、抛光盘72、第二转动杆73与第二转动结构74，上抛光固定盘71下方设有抛光盘72，上抛光固定盘71与抛光盘72接触的面上设有第三储水槽75，抛光盘72上设有至少一圈的均匀分布的抛光片76，任一抛光片76与抛光盘72上均设有第三注水孔77，第三注水孔77内设有抛光片定位杆78，抛光片定位杆78呈空心状，第二转动杆73一端通过轴承可转动设于旋转杆5上并贯穿于旋转杆5的上表面，另一端与上抛光固定盘71、抛光盘72相连，第二转动杆73为内凹状，开口设于上方，第二转动杆73与第三储水槽75相接触的面上设有多个第二进水口79，第二转动杆73与第二转动结构74相连。

第一转动杆63与第二转动杆73上端均与储水箱8相连，储水箱8设于旋转杆5上方。

进一步，机架1上表面设有护板9。

进一步，旋转杆5关于伸缩杆42分开的两侧杆呈一定角度，角度的大小为180°。

进一步，下研磨盘22、上研磨盘62与抛光盘72均呈圆柱形，直径为600mm～2000mm，厚度为20mm～100mm。

进一步，下研磨盘22上的第一金刚石磨片24磨片数量为500片～5000片，第一金刚石磨片24磨片的直径为90mm～180mm，第一金刚石磨片24的中心孔径为0.6mm～6mm，第一金刚石磨片24圈数为6圈～10圈，上研磨盘62与抛光盘72的第二金刚石磨片66与抛光片76相同设置。

进一步，第一转动杆63与第二转动杆73上设有增压阀(图中未示出)。

进一步，下研磨盘22与固定盘21、上研磨固定盘61与上研磨盘62、上抛光固定盘71与抛光盘72均通过螺栓固定相连。

进一步，第一转动结构64与第二转动结构74均为齿轮转动。

进一步，第一金刚石磨片24、第二金刚石磨片66与抛光片76的直径为90mm～180mm，中心孔径为0.6mm～6mm

本发明的实施过程：人工将需要研磨抛光的陶瓷放置在下研磨盘22上，将上研磨盘62通过旋转正对着下研磨盘22并下降到一定高度，打开机器开关进行研磨，下研磨盘22与上研磨盘62的旋转方向可以一致也可以相反，达到双面研磨的目的，在研磨过程中储水箱8中的水通过第一转动杆63的孔流下，并通过第一进水口69流入到第二储水槽65，再通过第二磨片定位杆68流入到第二金刚石磨片66表面，达到研磨过程中冷却的目的，并且多余的水流到陶瓷下表面，在开始研磨之前可以第一储水槽23内储满水，从而使得研磨过程中下表面可以持续得到湿润的目的，并且出水的孔径不大，不会导致水过多的情况，并且研磨飞出去的水会被护板9挡住，不会四散开来，起到了保护作用，从而达到1.可以对陶瓷进行双面打磨，从而有利于提高生产效率；

研磨完成后，上研磨盘62升起的时候，增压阀工作增大谁呀，可以避免陶瓷粘粘在上研磨盘62，上升到一定高度后，旋转杆5在旋转件41的带动下旋转，将抛光盘72正对着下研磨盘22上，下降，与研磨过程一样，达到抛光的目的，由于是螺栓固定，可以将下研磨盘22进行更换，达到双面抛光的目的，或者抛光完一面，将陶瓷反转，再次抛光，也可以达到双面抛光，从而不需要生产人员将研磨好的陶瓷进行移动，完成了研磨抛光一体，有利于节约人工成本，提高生产效率，并且无论是研磨盘还是抛光盘72都加了进水孔，从而使得研磨和抛光的过程中，无需工人加水，并且可以保证研磨或者抛光位于中间的陶瓷和侧面的陶瓷接受到的水分相同，可以保证陶瓷研磨抛光的质量同一性，避免了产品质量层次不齐的情况。

尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。