技术特征：
1.一种压力控制装置，其特征在于，包括：底座，开设有间隔设置的第一管路(1)和第二管路(2)；所述第一管路(1)具有适于连通气源的第一进口(3)，所述第一管路(1)还具有适于连通使用设备的第一出口(4)；所述第二管路(2)具有适于连通真空设备的第二进口(5)，所述第二管路(2)还具有适于连通外界空气的第二出口(6)；所述第一管路(1)和第二管路(2)之间设有支路(14)；所述第一管路(1)上设有第一阀门(8)，位于所述支路(14)的上游位置处；所述第二管路(2)上设有第二阀门(9)和第三阀门(10)，所述第二阀门(9)和第三阀门(10)分别位于所述支路(14)的上游和下游位置处。2.根据权利要求1所述的压力控制装置，其特征在于，还包括有控制阀(7)，设置在所述第一管路(1)上，并位于所述第一阀门(8)的上游位置处。3.根据权利要求1所述的压力控制装置，其特征在于，还包括有i/o采集模组(17)，所述第一阀门(8)、第二阀门(9)和第三阀门(10)均与所述i/o采集模组(17)电连接。4.根据权利要求1所述的压力控制装置，其特征在于，所述第一管路(1)上还设有第一压力传感器(11)，位于所述第一阀门(8)的上游位置处。5.根据权利要求1所述的压力控制装置，其特征在于，所述第一管路(1)上还设有第二压力传感器(12)，位于所述支路(14)与所述第一管路(1)的连接位置处。6.根据权利要求1所述的压力控制装置，其特征在于，所述第一管路(1)上还设有湿度传感器(13)，靠近所述第一出口(4)设置。7.根据权利要求1－6中任一项所述的压力控制装置，其特征在于，所述第一阀门(8)、第二阀门(9)和第三阀门(10)均为电磁阀。8.抛光头装置，其特征在于，包括权利要求1－7中任一项所述的压力控制装置，还包括抛光头，所述抛光头开设有多个腔体；所述压力控制装置设有多个。9.根据权利要求8所述的抛光头装置，其特征在于，所述第一出口(4)适于与所述抛光头内的腔体连通；所述第一进口(3)适于与气源连通，所述第二进口(5)适于与真空设备连通。10.化学机械抛光设备，其特征在于，包括权利要求8或9所述的抛光头装置。
技术总结
本发明提供了一种压力控制装置、抛光头装置及化学机械抛光设备，属于其中，压力控制装置包括：底座，第一管路和第二管路；第一进口，第一出口；第二进口，第二出口；支路；第一阀门；第二阀门和第三阀门。本发明提供的压力控制装置，在需对使用设备进行压力调节时，只需控制第一阀门、第二阀门和第三阀门的开启和关闭即可，如开启第一阀门、关闭第二阀门和第三阀门，此时气源通过第一管路进入使用设备中，为使用设备提供压力；开启第二阀门、关闭第一阀门和第三阀门，此时，真空设备通过部分第二管路、支路及部分第一管路对使用设备进行抽真空。故此压力控制装置可实现四种状态的切换，更好的满足使用需求。足使用需求。足使用需求。
技术研发人员：张为强 王嘉琪
受保护的技术使用者：北京烁科精微电子装备有限公司
技术研发日：2021.11.26
技术公布日：2022/2/24