技术特征：
1.一种等离子体气相沉积系统，其特征在于，包括：微波模块、等离子体工作腔、气体质量流量控制器、测量模块和控制柜；所述等离子体工作腔分别连接所述微波模块与所述气体质量流量控制器，所述控制柜分别连接所述微波模块、所述等离子体工作腔、所述气体质量流量控制器和所述测量模块；所述微波模块，用于生成并传输目标射频信号至所述等离子体工作腔；所述等离子体工作腔，用于依据所述目标射频信号和所述气体质量流量控制器传输的待处理气体，获得目标制备材料；所述测量模块，用于监控所述等离子体气相沉积系统的状态信息，所述状态信息包括所述等离子体工作腔的真空度和温度；所述气体质量流量控制器，用于根据所述状态信息控制所述待处理气体的气体流量；所述控制柜，用于发送控制指令至所述微波模块、所述等离子体工作腔、所述气体质量流量控制器和所述测量模块，以及显示所述状态信息。2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，还包括：冷却水系统；所述冷却水系统，用于当所述等离子体工作腔的温度大于或等于温度阈值时，冷却所述等离子体工作腔。3.根据权利要求1或2所述的系统，其特征在于，所述微波模块包括：微波功率源，微波传输系统，微波耦合系统和模式转换器；所述微波功率源，用于生成初始射频信号；所述微波传输系统，用于将所述初始射频信号传输至所述微波耦合系统；所述微波耦合系统，用于根据所述目标制备材料的需求处理所述初始射频信号，得到中间射频信号；所述模式转换器，用于处理所述中间射频信号，得到所述目标射频信号。4.根据权利要求3所述的系统，其特征在于，所述测量模块包括：真空测量系统，所述真空测量系统与所述等离子体工作腔连接；所述真空测量系统，用于获取所述等离子体工作腔的真空度。5.根据权利要求3所述的系统，其特征在于，所述测量模块包括：温度测量系统，所述温度测量系统与所述等离子体工作腔连接；所述温度测量系统，用于获取所述等离子体工作腔的温度。6.根据权利要求2所述的系统，其特征在于，所述控制柜包括触摸屏；所述触摸屏，用于接收用户的输入信息；所述触摸屏还用于根据所述输入信息生成控制指令；所述触摸屏还用于显示所述状态信息。7.根据权利要求6所述的系统，其特征在于，所述控制柜还包括分子泵控制器和压强控制器；所述分子泵控制器，用于控制所述冷却水系统的泵的启停；所述压强控制器，用于控制所述泵输出的冷却水的出水压强。8.根据权利要求7所述的系统，其特征在于，所述冷却水系统的工作条件包括：所述出水压强为大于或等于0.25mpa且小于或等于0.4mpa，所述冷却水的出水流量大于或等于每分钟260升，所述泵的进水温度大于或等于15摄氏度且小于或等于20摄氏度。
9.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，还包括：机架；所述等离子体工作腔设置于所述机架的上方，所述测量模块和所述气体质量流量控制器设置于所述机架的下方。10.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述微波模块的输出功率为大于或等于5kw且小于或等于75kw，所述目标射频信号为连续可调信号。
技术总结
本申请提供一种等离子体气相沉积系统，涉及微波等离子体领域。该系统包括：微波模块、等离子体工作腔、气体质量流量控制器、测量模块和控制柜；等离子体工作腔分别连接微波模块与气体质量流量控制器，控制柜分别连接微波模块、等离子体工作腔、气体质量流量控制器和测量模块；微波模块用于生成并传输目标射频信号至等离子体工作腔；等离子工作腔用于依据目标射频信号和气体质量流量控制器传输的待处理气体，获得目标制备材料；测量模块用于监控等离子体气相沉积系统的状态信息；气体质量流量控制器用于根据状态信息控制待处理气体的气体流量；控制柜用于发送控制指令至微波模块、等离子体工作腔、气体质量流量控制器和测量模块，及显示状态信息。及显示状态信息。及显示状态信息。
技术研发人员：张宏 李杰 季宇
受保护的技术使用者：成都纽曼和瑞微波技术有限公司
技术研发日：2021.02.18
技术公布日：2021/11/2