一种半导体平面用的研磨装置的制作方法

1.本实用新型涉及半导体加工技术领域，具体为一种半导体平面用的研磨装置。


背景技术：

2.半导体是一种电导率在绝缘体至导体之间的物质，其电导率容易受控制，可作为信息处理的元件材料。从科技或是经济发展的角度来看，半导体非常重要。很多电子产品，如计算机、移动电话、数字录音机的核心单元都是利用半导体的电导率变化来处理信息。常见的半导体材料有硅、锗、砷化镓等，而硅更是各种半导体材料中，在商业应用上最具有影响力的一种。半导体在加工过程中为了保障其切面平整光滑，通常需要对其进行平面研磨，此过程中就需要用到研磨装置。
3.现有的研磨装置通常结构繁琐复杂，不能够自动快速地对半导体进行夹持固定，任需要人为操作，费时费力，一定程度地降低了半导体研磨的效率，且研磨结构不具备缓冲防护能力，研磨盘容易发生损坏，使用寿命低，研磨质量相对较差。


技术实现要素：

4.本实用新型的目的在于提供一种半导体平面用的研磨装置，以解决上述背景技术中提出的现有的研磨装置通常结构繁琐复杂，不能够自动快速地对半导体进行夹持固定，任需要人为操作，费时费力，一定程度地降低了半导体研磨的效率，且研磨结构不具备缓冲防护能力，研磨盘容易发生损坏，使用寿命低，研磨质量相对较差的问题。
5.为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种半导体平面用的研磨装置，包括研磨机台，所述研磨机台顶部的中心转动连接有旋转台，所述旋转台顶部的一侧固定设置有夹紧基座，所述夹紧基座的顶部滑动连接有夹紧传动爪，所述夹紧基座内壁的一侧固定安装有夹紧电缸，所述旋转台顶部的另一侧固定设置有固定基座，所述旋转台顶部的两端均固定设置有传动基座，两个所述传动基座的顶部均滑动连接有夹紧滑块，所述旋转台顶部的中心固定设置有放置台，所述放置台与旋转台连接处的外侧开设有若干个均匀分布的漏液孔，所述研磨机台顶部的一侧固定设置有支撑架，所述支撑架的内侧滑动连接有升降基座，所述升降基座的一端固定安装有驱动电机，所述驱动电机的输出端穿过升降基座固定连接有传动丝杆，所述传动丝杆的中部螺纹连接有传动滑块，所述传动滑块的正面滑动连接有研磨箱，所述研磨箱的背面开设有缓冲滑槽，所述缓冲滑槽内壁的顶部固定设置有缓冲弹簧，所述研磨箱的内部固定安装有研磨电机，所述研磨电机的输出端穿过研磨箱固定连接有研磨盘，所述研磨箱的正面固定设置有乳液滴头，所述支撑架内壁顶部的两侧均固定安装有电动升降杆，所述支撑架的一侧固定安装有研磨乳液喷滴设备，所述研磨乳液喷滴设备的一端固定连通有连通软管，所述研磨机台顶部的一端固定安装有操作屏，所述操作屏的一侧固定安装有启动开关，所述研磨机台内壁顶部的中心固定设置有防护箱，所述防护箱的内部固定安装有减速电机，所述研磨机台内壁的底部固定设置有废液池，所述研磨机台内壁的一侧固定安装有控制器。
6.作为本实用新型的一种优选技术方案，所述夹紧电缸的一端与夹紧传动爪的一侧固定连接，所述夹紧传动爪的两端分别与两个夹紧滑块的顶部滑动连接。
7.作为本实用新型的一种优选技术方案，所述固定基座的一端和两个夹紧滑块的一端均固定设置有夹紧弧板，且三个所述夹紧弧板对应设置。
8.作为本实用新型的一种优选技术方案，所述缓冲弹簧的底部与传动滑块顶部的一侧固定连接，两个所述电动升降杆的底部分别与升降基座顶部的两侧固定连接。
9.作为本实用新型的一种优选技术方案，所述连通软管的一端与乳液滴头的顶部固定连通。
10.作为本实用新型的一种优选技术方案，所述减速电机的输出端穿过防护箱与旋转台底部的中心固定连接。
11.作为本实用新型的一种优选技术方案，所述驱动电机、两个电动升降杆、研磨乳液喷滴设备、操作屏、研磨电机、夹紧电缸和减速电机均与控制器电性连接，所述控制器通过启动开关与外接电源电性连接。
12.与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：该研磨装置设计科学合理，能够自动快速地对半导体进行夹持固定，无需人为操作，夹持稳定可靠，一定程度增加了半导体研磨的效率，在研磨结构处增设缓冲结构，能够在反复使用过程中对研磨结构进行缓冲保护，增加研磨装置的使用寿命，自动化程度高，可自动对半导体进行机械研磨，更加精准可靠。
附图说明
13.图1为本实用新型的主体正视外观结构示意图；
14.图2为本实用新型研磨箱的侧视截面结构示意图；
15.图3为本实用新型旋转台的俯视截面结构示意图；
16.图4为本实用新型研磨机台的正视截面结构示意图。
17.图中：1、研磨机台；2、旋转台；3、支撑架；4、驱动电机；5、电动升降杆；6、升降基座；7、研磨箱；8、传动滑块；9、连通软管；10、研磨乳液喷滴设备；11、操作屏；12、传动丝杆；13、乳液滴头；14、研磨盘；15、研磨电机；16、缓冲滑槽；17、缓冲弹簧；18、夹紧传动爪；19、夹紧电缸；20、夹紧基座；21、固定基座；22、夹紧弧板；23、漏液孔；24、夹紧滑块；25、传动基座；26、放置台；27、控制器；28、防护箱；29、减速电机；30、废液池。
具体实施方式
18.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
19.请参阅图1
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4，本实用新型提供了一种半导体平面用的研磨装置，包括研磨机台1，研磨机台1顶部的中心转动连接有旋转台2，旋转台2顶部的一侧固定设置有夹紧基座20，夹紧基座20的顶部滑动连接有夹紧传动爪18，夹紧基座20内壁的一侧固定安装有夹紧电缸19，旋转台2顶部的另一侧固定设置有固定基座21，旋转台2顶部的两端均固定设置有传动基座25，两个传动基座25的顶部均滑动连接有夹紧滑块24，能够自动快速地对半导体进行
夹持固定，无需人为操作，夹持稳定可靠，一定程度增加了半导体研磨的效率，旋转台2顶部的中心固定设置有放置台26，放置台26与旋转台2连接处的外侧开设有若干个均匀分布的漏液孔23，研磨机台1顶部的一侧固定设置有支撑架3，支撑架3的内侧滑动连接有升降基座6，升降基座6的一端固定安装有驱动电机4，驱动电机4的输出端穿过升降基座6固定连接有传动丝杆12，传动丝杆12的中部螺纹连接有传动滑块8，传动滑块8的正面滑动连接有研磨箱7，研磨箱7的背面开设有缓冲滑槽16，缓冲滑槽16内壁的顶部固定设置有缓冲弹簧17，能够在反复使用过程中对研磨结构进行缓冲保护，增加研磨装置的使用寿命，研磨箱7的内部固定安装有研磨电机15，研磨电机15的输出端穿过研磨箱7固定连接有研磨盘14，研磨箱7的正面固定设置有乳液滴头13，支撑架3内壁顶部的两侧均固定安装有电动升降杆5，支撑架3的一侧固定安装有研磨乳液喷滴设备10，研磨乳液喷滴设备10的一端固定连通有连通软管9，研磨机台1顶部的一端固定安装有操作屏11，操作屏11的一侧固定安装有启动开关，研磨机台1内壁顶部的中心固定设置有防护箱28，防护箱28的内部固定安装有减速电机29，研磨机台1内壁的底部固定设置有废液池30，研磨机台1内壁的一侧固定安装有控制器27，自动化程度高，可自动对半导体进行机械研磨，更加精准可靠。
20.优选的，夹紧电缸19的一端与夹紧传动爪18的一侧固定连接，夹紧传动爪18的两端分别与两个夹紧滑块24的顶部滑动连接，能够自动快速地对半导体进行夹持固定，无需人为操作，夹持稳定可靠，一定程度增加了半导体研磨的效率。
21.优选的，固定基座21的一端和两个夹紧滑块24的一端均固定设置有夹紧弧板22，且三个夹紧弧板22对应设置，夹持稳定可靠。
22.优选的，缓冲弹簧17的底部与传动滑块8顶部的一侧固定连接，两个电动升降杆5的底部分别与升降基座6顶部的两侧固定连接，能够在反复使用过程中对研磨结构进行缓冲保护，增加研磨装置的使用寿命。
23.优选的，连通软管9的一端与乳液滴头13的顶部固定连通，能够在研磨过程中进行持续喷滴乳液，提升研磨的质量。
24.优选的，减速电机29的输出端穿过防护箱28与旋转台2底部的中心固定连接，能够对旋转台2进行传动，更加实用。
25.优选的，驱动电机4、两个电动升降杆5、研磨乳液喷滴设备10、操作屏11、研磨电机15、夹紧电缸19和减速电机29均与控制器27电性连接，控制器27通过启动开关与外接电源电性连接，自动化程度高，可自动对半导体进行机械研磨，更加精准可靠。
26.具体使用时，本实用新型一种半导体平面用的研磨装置，先将研磨装置固定平稳，接着即可将需要研磨的半导体材料平稳的放置在放置台26上，然后按压启动开关，使设备通电工作，通过操作屏11使夹紧电缸19工作，夹紧电缸19会带动夹紧传动爪18运动，从而带动两个夹紧滑块24运动，依靠夹紧弧板22完成对半导体的夹持，设计科学合理，能够自动快速地对半导体进行夹持固定，无需人为操作，夹持稳定可靠，一定程度增加了半导体研磨的效率，研磨过程中两个电动升降杆5会带动升降基座6运动，从而带动研磨箱7运动，使研磨箱7与传动滑块8滑动，并增设缓冲弹簧17，能够在反复使用过程中对研磨结构进行缓冲保护，增加研磨装置的使用寿命，自动化程度高，可自动对半导体进行机械研磨，更加精准可靠。
27.尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来
说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换，凡在本实用新型的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。