用于纳米涂层的沉积装置

1.本实用新型涉及纳米涂层技术领域，具体为用于纳米涂层的沉积装置。


背景技术：

2.多弧离子镀作为物理气相沉积技术的一个分支，是在真空蒸镀和真空溅射的基础上发展起来的一门新型涂层制备技术，也称为真空弧光蒸镀法，它把真空电弧放电用于电弧蒸发源。由于多弧离子镀技术具有沉积速率高、涂层附着力好、涂层致密、操作方便等特点，因此在材料表面改性领域得到了广泛应用。1963年mattox提出并首次使用了离子镀技术；1972年bunshah等开发出活性反应蒸镀 (are)技术；1973年mulayama等发明了射频激励法离子镀；20世纪80年代，离子镀已成为一项高新技术产业，主要产品有高速钢和硬质合金工具上的tin、tialn耐磨层和tin仿金装饰涂层。1982年multi-arc公司首先推出多弧离子镀商品化设备， 1986年开始了多弧离子镀设备的生产。20世纪90年代，离子镀技术取得了长足的进步，与80年代相比，离子镀设备和工艺都有了重大的改进。近年来，根据不同使用要求，制造了各种离子镀膜机设备，有些已达到工业生产水平。


技术实现要素：

3.本部分的目的在于概述本实用新型的实施方式的一些方面以及简要介绍一些较佳实施方式。在本部分以及本技术的说明书摘要和实用新型名称中可能会做些简化或省略以避免使本部分、说明书摘要和实用新型名称的目的模糊，而这种简化或省略不能用于限制本实用新型的范围。
4.鉴于现有沉积装置中存在的问题，提出了本实用新型。
5.因此，本实用新型的目的是提供用于纳米涂层的沉积装置，通过真空壁安装一对nb靶材和一对阳极层离子源，工件在真空室内公转并自转，确保涂层均匀性，控制开启nb靶和离子源的时间和次数，可控制涂层单层膜厚度和复合涂层层数及总厚度，该涂层具有内应力小、涂层硬度高、摩擦系数低以下的优点，适合应用于硬质合金拉丝模表面涂层。
6.为解决上述技术问题，根据本实用新型的一个方面，本实用新型提供了如下技术方案：
7.用于纳米涂层的沉积装置，其包括底座和真空室，所述底座顶部安装有安装架，所述安装架顶部安装有真空室，所述底座左侧顶部安装有承载架，所述承载架左侧安装有电机，所述电机输出端安装有公转盘，所述公转盘左侧设置有固定座，所述固定座中间设置有齿轮盘，所述齿轮盘上啮合有从动齿轮，所述从动齿轮右侧安装有转动架，所述真空室顶部内壁安装有离子源和nb靶材，所述真空室顶部左侧设置有气体入口，所述真空室顶部右侧设置有ar气入口。
8.作为本实用新型所述的用于纳米涂层的沉积装置的一种优选方案，其中：所述固定座通过连接杆与真空室内壁连接。
9.作为本实用新型所述的用于纳米涂层的沉积装置的一种优选方案，其中：所述电
机输出端贯穿固定座和真空室连接公转盘。
10.作为本实用新型所述的用于纳米涂层的沉积装置的一种优选方案，其中：所述从动齿轮通过连接轴与转动架连接。
11.作为本实用新型所述的用于纳米涂层的沉积装置的一种优选方案，其中：所述离子源和nb靶材设置有一对，且一对所述离子源和 nb靶材位置呈正对设置。
12.与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：通过该用于纳米涂层的沉积装置的设置，结构设计合理，通过真空壁安装一对nb靶材和一对阳极层离子源，工件在真空室内公转并自转，确保涂层均匀性，控制开启nb靶和离子源的时间和次数，可控制涂层单层膜厚度和复合涂层层数及总厚度，该涂层具有内应力小、涂层硬度高、摩擦系数低以下的优点，适合应用于硬质合金拉丝模表面涂层。
附图说明
13.为了更清楚地说明本实用新型实施方式的技术方案，下面将结合附图和详细实施方式对本实用新型进行详细说明，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。其中：
14.图1为本实用新型结构示意图；
15.图2为本实用新型侧视结构示意图。
16.图中；100底座、110安装架、120承载架、130电机、140公转盘、 141固定座、142齿轮盘、143从动齿轮、144转动架、200真空室、210 离子源、220nb靶材、230气体入口、240ar气入口。
具体实施方式
17.为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。
18.在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型，但是本实用新型还可以采用其他不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似推广，因此本实用新型不受下面公开的具体实施方式的限制。
19.其次，本实用新型结合示意图进行详细描述，在详述本实用新型实施方式时，为便于说明，表示器件结构的剖面图会不依一般比例作局部放大，而且所述示意图只是示例，其在此不应限制本实用新型保护的范围。此外，在实际制作中应包含长度、宽度及深度的三维空间尺寸。
20.为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本实用新型的实施方式作进一步地详细描述。
21.本实用新型提供如下技术方案：用于纳米涂层的沉积装置，在使用过程中，控制开启nb靶和离子源的时间和次数，可控制涂层单层膜厚度和复合涂层层数及总厚度，该涂层具有内应力小、涂层硬度高、摩擦系数低以下的优点，适合应用于硬质合金拉丝模表面涂层，请参阅图1，包括底座100和真空室200；
22.请再次参阅图1-2，底座100顶部安装有安装架110，安装架 110顶部安装有真空室
200，底座100左侧顶部安装有承载架120，承载架120左侧安装有电机130，电机130输出端安装有公转盘 140，公转盘140左侧设置有固定座141，固定座141中间设置有齿轮盘142，齿轮盘142上啮合有从动齿轮143，从动齿轮143右侧安装有转动架144，真空室200顶部内壁安装有离子源210和nb靶材 220，真空室200顶部左侧设置有气体入口230，真空室200顶部右侧设置有ar气入口240，具体的，底座100顶部螺丝固定有安装架 110，安装架110顶部焊接有真空室200，底座100左侧顶部螺丝固定有承载架120，承载架120左侧螺丝固定有电机130，电机130输出端螺丝固定有公转盘140，公转盘140左侧通过连接杆固定有固定座141，固定座141中间螺丝固定有齿轮盘142，齿轮盘142上啮合有从动齿轮143，从动齿轮143右侧通过连接轴固定有转动架144，底座100用于承载安装架110，安装架110用于承载真空室200和承载架120，承载架120用于承载电机130，电机130用于带动公转盘 140，固定座141用于承载齿轮盘142，齿轮盘142用于啮合从齿轮，从动齿轮143用于通过连接轴带动转动架144转动，真空室200顶部内壁安装有离子源210和nb靶材220，真空室200顶部左侧设置有气体入口230，离子源210和nb靶材220用于控制涂层单层膜厚度和复合涂层层数及总厚度，气体入口230用于沉积时注入ch气体， ar气入口240用于ar气。
23.工作原理：通过真空壁安装一对nb靶材220和一对阳极层离子源210，工件在真空室200内公转并自转，确保涂层均匀性，控制开启nb靶材220和离子源210的时间和次数，可控制涂层单层膜厚度和复合涂层层数及总厚度，该涂层具有内应力小、涂层硬度高、摩擦系数低以下的优点，适合应用于硬质合金拉丝模表面涂层。
24.虽然在上文中已经参考实施方式对本实用新型进行了描述，然而在不脱离本实用新型的范围的情况下，可以对其进行各种改进并且可以用等效物替换其中的部件。尤其是，只要不存在结构冲突，本实用新型所披露的实施方式中的各项特征均可通过任意方式相互结合起来使用，在本说明书中未对这些组合的情况进行穷举性的描述仅仅是出于省略篇幅和节约资源的考虑。因此，本实用新型并不局限于文中公开的特定实施方式，而是包括落入权利要求的范围内的所有技术方案。