一种带有护罩结构的物理气相沉积设备的制作方法

1.本实用新型涉及气相沉积设备，具体为一种带有护罩结构的物理气相沉积设备。


背景技术：

2.物理气相沉积技术表示在真空条件下，采用物理方法，将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体(或等离子体)过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。物理气相沉积的主要方法有，真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜，及分子束外延等。发展到目前，物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜、还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等。
3.目前的物理气相沉积设备，如公告号cn 208632632 u的专利所述，包括装置外壳和抽真空装置，装置外壳位于抽真空装置正上方位置处，装置外壳与抽真空装置焊接固定，且装置外壳与抽真空装置之间相连通，利用设置的靶材与钨丝的配合，实现对于气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时，把蒸发物或其反应物蒸镀在基材上，同时呈弧形的电热管实现对于真空镀膜室内部的高温提供。
4.针对上述中的相关技术，对气相沉积设备进行改造，解决现有技术中的镀膜不均均、且没有防护结构的问题。


技术实现要素：

5.本实用新型的目的在于提供一种物理气相沉积设备以解决上述背景技术中提出的镀膜不均匀、没有防护结构的问题。
6.为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种带有护罩结构的物理气相沉积设备，包括装置本体、第一滑块、支脚和防护门，所述装置本体的底部设置有支脚，且所述支脚在装置本体的底部设置有四个，所述装置本体的前部设置有防护门，所述防护门外部的一侧设置有控制面板，所述装置本体外部的右侧设置有真空泵，且所述真空泵的一端延伸到装置本体的内部，所述装置本体内部靠近防护门的一侧设置有伸缩杆，且所述伸缩杆的一侧设置有防护罩，所述伸缩杆的一侧设置有支撑件，且支撑件上设置有把手。
7.优选的，所述装置本体内部顶部的中心位置设置有气缸，且所述气缸的底部连接有第一滑块，气缸起到了提供动力的目的。
8.优选的，所述装置本体内部的侧壁上设置有第一滑轨，且所述第一滑轨上设置有第一滑块，且所述第一滑块的一侧与滑动板相互焊接，第一滑轨方便滑动的目的。
9.优选的，所述滑动板底部的中心位置设置有高频线圈，所述装置本体内部靠近第一滑轨的底部设置有加热管，加热管起到加热的目的。
10.优选的，所述装置本体内部背部的中心位置设置有电机，所述电机的一端连接有丝杠，电机提供动力的目的。
11.优选的，所述丝杠的顶部设置有工作台，所述工作台底部的两侧设置有第二滑块，所述装置本体内部底部设置有第二滑轨，且第二滑轨与第二滑块相互配合，第二滑块起到
了方便滑动的目的。
12.优选的，所述工作台顶部设置有晶圆槽，且晶圆槽在工作台的顶部设置有四个，且相互对称。
13.优选的，所述晶圆槽内部的底部设置有弹簧，弹簧的一端设置有夹块，夹块之间夹持有晶圆体，夹块起到了固定晶圆的目的。
14.与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：该物理气相沉积设备结构合理，具有以下有优点：
15.(1)通过设置有第二滑轨、工作台、电机和丝杠实现了镀膜均匀的目的，现有的装置镀膜不均匀，因此在装置上设置有工作台，把晶圆放到工作台中进行固定，通过工作台在装置中前后移动，通过启动高频线圈进行气相沉积，通过高频线圈的移动，使高频线圈移动到工作台的顶部进行镀膜，实现了镀膜均匀的目的。
16.(2)通过设置有伸缩杆、防护罩、把手和支撑件实现了具有防护功能的目的，现有的装置没有防护功能，导致机器在气相沉积时会产生辐射，因此在装置中设置有防护罩，防护罩为金属丝制成，通过金属丝的屏蔽作用，防止辐射散出。
17.(3)通过设置有工作台、弹簧、晶圆体、夹块和晶圆槽实现了对晶圆进行固定的目的，防止晶圆移动，因此，使用时，把晶圆体放到晶圆槽中，通过弹簧的作用，弹簧就会使夹块移动，夹块就会把晶圆体夹紧，防止晶圆体发生移动影响镀膜效果。
附图说明
18.图1为本实用新型的第一正视内部结构示意图；
19.图2为本实用新型的第二正视内部结构示意图；
20.图3为本实用新型的正视外部结构示意图；
21.图4为本实用新型的工作台俯视结构示意图；
22.图5为本实用新型的图4中a处放大结构示意图；
23.图6为本实用新型的系统框图。
24.图中：1、第一滑轨；2、气缸；3、装置本体；4、滑动板；5、第一滑块；6、高频线圈；7、加热管；8、支脚；9、第二滑轨；10、工作台；11、电机；12、丝杠；13、第二滑块；14、真空泵；15、伸缩杆；16、防护罩；17、把手；18、支撑件；19、防护门；20、控制面板；21、弹簧；22、晶圆体；23、夹块；24、晶圆槽。
具体实施方式
25.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
26.请参阅图1
‑
6，本实用新型提供的一种实施例：一种带有护罩结构的物理气相沉积设备，包括装置本体3、第一滑块5、支脚8和防护门19，装置本体3的底部通过螺栓设置有支脚8，且支脚8在装置本体3的底部设置有四个，装置本体3的前部通过轴设置有防护门19，防护门19外部的一侧通过螺钉设置有控制面板20，装置本体3外部的右侧通过螺钉设置有真空泵14，且真空泵14的一端延伸到装置本体3的内部，装置本体3内部靠近防护门19的一侧
通过轴设置有伸缩杆15，且伸缩杆15的一侧通过轴设置有防护罩16，伸缩杆15的一侧设置有支撑件18，且支撑件18上焊接有把手17；
27.现有的装置没有防护功能，导致机器在气相沉积时会产生辐射，因此在装置中设置有防护罩16，防护罩16为金属丝制成，通过金属丝的屏蔽作用，防止辐射散出；
28.装置本体3内部顶部的中心位置通过螺钉设置有气缸2，且气缸2的底部连接有第一滑块5；
29.装置本体3内部的侧壁上通过内六角螺栓设置有第一滑轨1，且第一滑轨1上滑动设置有第一滑块5，且第一滑块5的一侧与滑动板4相互焊接；
30.滑动板4底部的中心位置通过螺钉设置有高频线圈6，装置本体3内部靠近第一滑轨1的底部通过螺钉设置有加热管7；
31.装置本体3内部背部的中心位置通过螺钉设置有电机11，电机11的一端通过连轴器连接有丝杠12；
32.丝杠12的顶部活动设置有工作台10，工作台10底部的两侧通过螺钉设置有第二滑块13，装置本体3内部底部设置有第二滑轨9，且第二滑轨9与第二滑块13相互配合；
33.在装置上设置有工作台10，把晶圆放到工作台10中进行固定，通过工作台10在装置中前后移动，通过启动高频线圈6进行气相沉积，通过高频线圈6的移动，使高频线圈6移动到工作台10的顶部进行镀膜，实现了镀膜均匀的目的；
34.工作台10顶部设置有晶圆槽24，且晶圆槽24在工作台10的顶部设置有四个，且相互对称；
35.晶圆槽24内部的底部设置有弹簧21，弹簧21的一端设置有夹块23，夹块23之间夹持有晶圆体22；
36.使用时，把晶圆体22放到晶圆槽24中，通过弹簧21的作用，弹簧21就会使夹块23移动，夹块23就会把晶圆体22夹紧，防止晶圆体22发生移动影响镀膜效果。
37.控制面板20的输出端通过导线与气缸2、真空泵14和电机11的输出端电性连接，气缸2的型号可为j64rt2univer，电机11的型号可为y90s
‑
2，真空泵14的型号可为bynfz。
38.本技术实施例在使用时，通过把晶圆体22放到晶圆槽24中，通过弹簧21的作用，弹簧21就会使夹块23移动，夹块23就会把晶圆体22夹紧，然后通过启动真空泵14对装置内部抽真空，通过启动加热管7对装置内部进行加热，通过启动高频线圈6产生高频电流，通过对材料的表面进行气化，通过启动电机11，电机11带动丝杠12进行转动，丝杠12就会带动工作台10前后移动，然后通过启动气缸2，气缸2带动滑动板4移动，使高频线圈6靠近晶圆的表面进行镀膜，实现了镀膜均匀的目的，然后通过在使用时，要拉动支撑件18，使防护罩16相互闭合，防止装置产生的辐射影响工作人员的健康。