一种双离子束共溅射纳米膜装置的制作方法

1.本实用新型涉及离子束共溅射技术领域，具体为一种双离子束共溅射纳米膜装置。


背景技术：

2.双离子束共溅射是利用离子源产生一定能量的离子束轰击置于高真空中的靶材，使其原子溅射出来，沉积在基底成膜的过程。是一种薄膜沉积工艺，使用离子源，将靶材(金属或电介质)沉积或溅射到基片上，以形成金属或电介质膜。因为离子束是等能的(离子具有相等的能量)，且高度准直，所以与其他pvd(物理气相沉积)技术相比，其能够精确地控制厚度，并沉积非常致密的高质量薄膜。
3.现有的离子束共溅射纳米膜装置，靶材材料多采用固定设置，无法进行调整，覆膜材料较为单一，覆膜效果不佳，且多采用单个离子源对原料进行溅射覆膜，覆膜效率低，生产效率不佳，为此，我们提出一种双离子束共溅射纳米膜装置。


技术实现要素：

4.本实用新型的目的在于提供一种双离子束共溅射纳米膜装置，具备双离子源的优点，解决了现有装置靶材材料多采用固定设置，无法进行调整，覆膜材料较为单一，覆膜效果不佳，且多采用单个离子源对原料进行溅射覆膜，覆膜效率低，生产效率不佳的问题。
5.为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种双离子束共溅射纳米膜装置，包括箱体和真空泵，其中所述箱体靠近底端位置处安装有底板，所述箱体顶端中间位置处通过轴承安装有旋转轴，所述旋转轴底端位于箱体内部靠近顶端位置处安装有支撑座，所述支撑座底端中间位置处通过磁力座安装有原料板，所述旋转轴外表面靠近顶端位置处安装有齿轮a，所述箱体内部靠近顶端两侧位置处均安装有离子源，所述箱体前表面中间位置处安装有箱门。
6.优选的，所述箱体顶端一侧位置处安装有驱动电机，所述驱动电机输出轴末端位于齿轮a一侧位置处齿轮b，所述齿轮b与齿轮a相啮合。
7.优选的，所述离子源共有两个，且两个离子源分设于箱体内部靠近顶端位置处。
8.优选的，所述箱体内部顶端两侧位置处均安装有排风电机，两侧所述排风电机输出轴末端位置处均安装有风扇。
9.优选的，所述箱体内部靠近底端中间位置处安装有调节杆，所述调节杆一端位于箱体一侧位置处安装有位移电机，所述调节杆外表面位于箱体内部两侧位置处均安装有滑块，两侧所述滑块与调节杆通过螺纹相连接。
10.优选的，两侧所述滑块顶端位置处安装有靶台，所述靶台是由两组不同靶材组成。
11.优选的，所述底板顶端一侧中间位置处安装有过滤器，所述过滤器一侧位于底板顶端位置处通过真空管b连接有真空泵，所述过滤器背离真空管b一侧中间位置处通过真空管a连接于箱体，所述过滤器内部靠近顶端位置处安装有过滤网。
12.与现有技术相比，本实用新型的有益效果如下：
13.1、本实用新型通过在箱体内部靠近顶端位置两侧位置处设有离子源，达到增加溅射覆膜效率的效果，在两侧滑块顶端位置处设置靶台，以解决多采用单个离子源对原料进行溅射覆膜，覆膜效率低，生产效率不佳的问题，提高了本实用新型的生产效率。
14.2、本实用新型通过设置调节杆、滑块、位移电机和靶台，达到调整切换靶材，增加覆膜效果的效果，在箱体内部靠近底端中间位置处设置调节杆，在调节杆一端位于箱体一侧位置处设置位移电机，在调节杆外表面位于箱体内部两侧位置处均设置滑块，且两侧滑块与调节杆通过螺纹相连接，在两侧滑块顶端位置处设置靶台，以解决靶材材料多采用固定设置，无法进行调整，覆膜材料较为单一，覆膜效果不佳的问题，提高了本实用新型的覆膜效果。
15.3、本实用新型通过设置排风电机和风扇，达到对箱体内部进行鼓风，便于清理箱体内部灰尘的效果，在箱体内部顶端两侧位置处均设置排风电机，两侧在排风电机输出轴末端位置处均设置风扇，以解决无法对箱体内部灰尘进行鼓风清理，箱体内部灰尘较大，影响覆膜效果的问题，提高了本实用新型的覆膜效果。
附图说明
16.图1为本实用新型的主视结构示意图；
17.图2为本实用新型的剖视结构示意图；
18.图3为图2当中a的放大结构示意图；
19.图4为图2当中b的放大结构示意图。
20.图中：1、箱体；2、真空管a；3、底板；4、过滤器；5、真空管b；6、真空泵；7、位移电机；8、驱动电机；9、箱门；10、过滤网；11、调节杆；12、离子源；13、排风电机；14、风扇；15、滑块；16、靶台；17、齿轮a；18、旋转轴；19、齿轮b；20、原料板；21、磁力座；22、支撑座。
具体实施方式
21.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
22.请参阅图1、图2和图4，本实用新型提供的一种双离子束共溅射纳米膜装置技术方案：一种双离子束共溅射纳米膜装置，包括箱体1和真空泵6，箱体1靠近底端位置处安装有底板3，箱体1顶端中间位置处通过轴承安装有旋转轴18，旋转轴18底端位于箱体1内部靠近顶端位置处安装有支撑座22，支撑座22底端中间位置处通过磁力座21安装有原料板20，旋转轴18外表面靠近顶端位置处安装有齿轮a17，箱体1内部靠近顶端两侧位置处均安装有离子源12，箱体1前表面中间位置处安装有箱门9。
23.箱体1顶端一侧位置处安装有驱动电机8，驱动电机8输出轴末端位于齿轮a17一侧位置处齿轮b19，齿轮b19与齿轮a17相啮合，用以带动原料板20转动。
24.离子源12共有两个，且两个离子源12分设于箱体1内部靠近顶端位置处，增加覆膜效率。
25.请参阅图2，本实用新型提供的一种双离子束共溅射纳米膜装置技术方案：一种双离子束共溅射纳米膜装置，包括箱体1和真空泵6，箱体1内部顶端两侧位置处均安装有排风电机13，两侧排风电机13输出轴末端位置处均安装有风扇14，用以将箱体1内部灰尘出气，便于真空泵6抽出。
26.底板3顶端一侧中间位置处安装有过滤器4，过滤器4一侧位于底板3顶端位置处通过真空管b5连接有真空泵6，过滤器4背离真空管b5一侧中间位置处通过真空管a2连接于箱体1，过滤器4内部靠近顶端位置处安装有过滤网10。
27.其他与实施例1相同。
28.请参阅图2和图3，本实用新型提供的一种双离子束共溅射纳米膜装置技术方案：一种双离子束共溅射纳米膜装置，包括箱体1和真空泵6，箱体1内部靠近底端中间位置处安装有调节杆11，调节杆11一端位于箱体1一侧位置处安装有位移电机7，调节杆11外表面位于箱体1内部两侧位置处均安装有滑块15，两侧滑块15与调节杆11通过螺纹相连接，便于切换覆膜材质。
29.两侧滑块15顶端位置处安装有靶台16，靶台16是由两组不同靶材组成，便于对原料板20不同材质覆膜。
30.其他与实施例1相同。
31.工作原理：将本实用新型安装好后，打开箱门9，将原料板20放置于支撑座22底端，通过磁力座21对原料板20进行固定，完成后，关闭箱门9，再启动排风电机13，通过排风电机13带动风扇14转动，通过风扇14产生风力，对箱体1内部进行吹风，同时启动真空泵6，通过真空泵6与真空管b5将过滤器4内部空气抽离使其形成负压，再通过负压将箱体1内部空气与灰尘抽离，通过过滤网10过滤后，经排气管排出，再启动驱动电机8，通过驱动电机8带动齿轮b19转动，通过齿轮b19带动齿轮a17与旋转轴18转动，通过旋转轴18带动原料板20旋转，同步启动离子源12，通过离子源12将离子束喷射至靶台16，带动靶材表面原子溅射至原料板20，对原料板20进行覆膜，在需要切换板材时，启动位移电机7，通过位移电机7带动调节杆11转动，通过调节杆11带动滑块15侧移，调整溅射靶材，更换覆膜材料，至此，本设备工作流程完成。
32.尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。